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플라즈마질화 공정의 질화깊이 실시간 모니터링방법

  • 기술번호 : KST2014064983
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 노 내의 가열 온도를 에너지값으로 환산하여 모니터링시켜 제품의 질화깊이를 실시간으로 모니터링할 수 있도록 한 플라즈마질화 공정의 질화깊이 실시간 모니터링방법 및 장치에 관한 것이다.이를 위해, 시편의 질화활성화에너지를 컨트롤러에 입력하는 제1단계와; 시편의 목표 질화깊이를 컨트롤러에 입력하는 제2단계와; 노 내의 온도조건과 질화활성화에너지를 이용하여 누적에너지수치를 구하되, 누적에너지수치 변수에 따른 시편의 질화깊이 실험값을 구할 수 있도록 모델링실험을 실시하는 제3단계와; 모델링실험의 실험값들을 통해 다수의 계수들을 도출하여 회귀식을 컨트롤러에 입력하는 제4단계와; 누적에너지수치의 변화에 따라 상기 회귀식으로 질화깊이를 연산하여 컨트롤러에 모니터링시키는 제5단계와; 실시간 모니터링되는 질화깊이에 따라 목표 질화깊이와 일치여부를 판단하여 시편의 냉각 여부를 결정하는 제6단계로 이루어지는 것을 특징으로 한다.상기한 구성에 따라, 누적에너지수치를 이용하여 질화깊이를 컨트롤러에 실시간 모니터링시키고 ,이를 목표 질화깊이와 비교함으로써, 제품의 실제 질화깊이와 목표치 사이에 편차를 최대한 줄이게 되어, 목표 질화깊이가 일정하게 확보된 제품을 획득할 수 있는 효과가 있다.
Int. CL C23C 8/24 (2006.01) C23C 8/36 (2006.01)
CPC C23C 8/24(2013.01) C23C 8/24(2013.01) C23C 8/24(2013.01) C23C 8/24(2013.01)
출원번호/일자 1020100096952 (2010.10.05)
출원인 한국생산기술연구원
등록번호/일자 10-1249539-0000 (2013.03.26)
공개번호/일자 10-2012-0035444 (2012.04.16) 문서열기
공고번호/일자 (20130401) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.10.05)
심사청구항수 1

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 안경준 대한민국 서울특별시 강남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 유종정 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *길 *, ***호(역삼동, 강남역센트럴푸르지오시티)(오주특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 충청남도 천안시 서북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.10.05 수리 (Accepted) 1-1-2010-0643327-11
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2012.03.06 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.04.02 수리 (Accepted) 4-1-2012-5068733-13
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2012.04.13 수리 (Accepted) 9-1-2012-0027261-36
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.04.26 수리 (Accepted) 4-1-2012-5090658-47
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2012.07.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0444497-12
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2012.09.27 수리 (Accepted) 1-1-2012-0792118-05
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2012.09.27 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0792119-40
9 등록결정서
Decision to grant
2013.01.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0049436-62
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.01.29 수리 (Accepted) 4-1-2013-5017806-08
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.01.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5006834-98
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.07.02 수리 (Accepted) 4-1-2018-5123030-77
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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노 내에 시편을 장입한 후 N2와 H2가 혼합되거나, NH3가 혼합된 가스의 플라즈마 분위기에서 시편을 가열 및 냉각시켜 질화 열처리하는 방법에 있어서,열처리하고자 하는 시편의 질화반응에 대한 활성화에너지를 컨트롤러(10)에 입력하는 제1단계와;열처리를 통해 요구되는 시편의 목표 질화깊이를 설정하여 컨트롤러(10)에 입력하는 제2단계와;실시간 측정되는 노 내의 온도조건과 질화반응 활성화에너지를 이용하여 수학식1에 의해 누적에너지수치를 구하되, 누적에너지수치 변수에 따른 시편의 여러 질화깊이 실험값을 구할 수 있도록 다수의 모델링실험을 실시하는 제3단계와;상기 모델링실험의 실험값들을 통해 질화깊이를 연산하기 위한 다수의 계수들을 도출하되, 상기 계수들과 누적에너지수치로 이루어진 회귀식을 컨트롤러(10)에 입력하는 제4단계와;실시간 모니터링되는 누적에너지수치의 변화에 따라 상기 회귀식으로 질화깊이를 연산하여 컨트롤러(10)에 실시간 모니터링시키는 제5단계와;실시간으로 모니터링되는 질화깊이에 따라 목표 질화깊이와 일치여부를 판단하여 시편의 냉각 여부를 결정하는 제6단계로 이루어지며, 상기 컨트롤러(10)에 모니터링되는 실시간 질화깊이가 목표 질화깊이보다 작을 경우 계속적으로 가열 유지하여 질화깊이를 증가시키고, 상기 실시간 질화깊이가 목표 질화깊이와 일치하는 경우 시편을 냉각시키는 것을 특징으로 하는 플라즈마질화 공정의 질화깊이 실시간 모니터링방법
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