| 1 |
1
기판상에 중합이 가능한 유기 관능기를 함유하는 올리고실록산과, 중합체 형성이 가능한 광감응성 단위체 또는 광조사시 이분자체 형성에 의해 중합을 개시하는 광화학 개시 단위체, 또는 상기 광감응성 단위체 및 광화학 개시 단위체를 함유하는 사진현상형 하이브리드 코팅층을 형성하는 단계; 상기 사진현상형 하이브리드 코팅층에 광을 조사하여 원하는 형태의 구조를 갖는 미세광학소자를 형성하는 것을 특징으로 하는 미세광학소자의 제조방법
|
| 2 |
2
제 1항에 있어서, 미세광학소자는 광조사 영역과 광비조사 영역간의 굴절율 및 두께 변화의 특성을 지니는 미세광학소자의 제조방법
|
| 3 |
3
제 1항에 있어서, 광감응성 단위체의 굴절률은 중합이 가능한 유기 관능기를 지니는 올리고 실록산의 굴절률보다 높은 물질로부터 선택되어지는 것을 특징으로 하는 미세광학소자의 제조방법
|
| 4 |
4
제 1항에 있어서, 중합이 가능한 유기 관능기를 함유하는 올리고 실록산 화합물은 하기 식으로 표현되는 화합물인 것을 특징으로 하는 미세광학소자의 제조방법상기식에서, R1, R2는 아크릴기, 메타크릴기, 알릴기, 비닐기, 또는 에폭시 작용기를 단독 또는 2종 이상 가지는 직쇄, 측쇄 또는 고리형의 C1~12의 탄화수소화합물이다
|
| 5 |
5
제 1항에 있어서, 중합이 가능한 유기 관능기를 함유하는 올리고 실록산 화합물은 실리콘의 일부가 타 금속으로 치환된 것을 특징으로 하는 미세광학소자의 제조방법
|
| 6 |
6
제 5항에 있어서, 타 금속은 타이타늄, 지르코늄, 알루미늄 및 게르마늄으로 구성되는 군에서 선택되어지는 적어도 1종의 금속인 것을 특징으로 하는 미세광학소자의 제조방법
|
| 7 |
7
제 1항에 있어서, 중합체 형성이 가능한 광감응성 단위체는 아크릴레이트 계열, 시나믹 엑시드 및 시니믹 이스터 계열, 카르복실릭 엑시드 시나밀 계열, 말레익 엑시트 계열, 말레익 언하이드라이드 계열, 푸마릭 엑시드 계열, 이타코닉 엑시드 계열, 이타코닉 언하이드라이드 계열, 시트라코닉 엑시드 계열, 시트라코닉 언하이드라이드 계열, 메틸 시나믹 엑시드, 시나밀 클로라이드, 스틸벤(stilbene), 메타아크릴레이트 계열의 단위체들에서 선택되어지는 적어도 1종인 광감응성 단위체인 것을 특징으로 하는 미세광학소자의 제조방법
|
| 8 |
8
제 1항에 있어서, 이분자체 형성에 의해 중합을 개시하는 광화학 개시 단위체는 벤조인이서 계열, 벤질케탈 계열, 다이알콕시아세톤페논 계열, 하이드록시알킬페논 계열, 및 아미노알킬페논 계열로 구성되는 군에서 선택되어지는 적어도 1종인 광화학 개시 단위체인 것을 특징으로 하는 미세광학소자의 제조방법
|
| 9 |
9
제 1항에 있어서, 광의 조사는 사진현상형 하이브리드 코팅막 상부에 원하는 패턴의 마스크를 형성하여 수행되는 것을 특징으로 하는 미세광학소자의 제조방법
|
| 10 |
10
제 1항에 있어서, 광의 조사는 마스크 없이 사진현상형 하이브리드 코팅막 상부에 레이저를 직접 조사하여 수행되는 것을 특징으로 하는 미세광학소자의 제조방법
|
| 11 |
11
제 1항에 있어서, 광의 조사는 마스크 없이 레이저의 광간섭계를 직접 조사하여 수행되는 것을 특징으로 하는 미세광학소자의 제조방법
|
| 12 |
12
제 1항에 있어서, 미세광학소자는 마이크로렌즈 및 어레이, 회절격자, 광도파로 인 것을 특징으로 하는 미세광학소자의 제조방법
|
