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반도체 웨이퍼 및 FPD를 세정하는 초음파장치에 있어서,내부가 비어있는 관형상을 갖는 하우징(16)의 내측에 연하여 돌출형성되는 확산층(13)과;상기 확산층(13)과 접합되되, 일단에는 양극부(2)가 증착되고, 타단에는 음극부(3)가 증착되어 초음파를 발생시키는 다수개의 빔확산용 압전소자(10)와;상기 확산층(13) 내부 양측에 길이방향으로 관통되어 형성되는 냉각홀(50)과;상기 확산층(13) 하단면에 접합되는 증폭부(60)와;상기 빔확산용 압전소자(10)에 전원을 공급하는 전원선(31);을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 세정용 초음파 장치 및 이를 이용한 초음파 세정시스템
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반도체 웨이퍼 및 FPD를 세정하는 초음파장치에 있어서,내부가 비어있는 원통형상을 갖는 하우징(16)의 내측에 연하여 돌출형성되는 확산층(13)과;상기 확산층(13)과 접합되되, 일단에는 양극부(2)가 증착되고, 타단에는 음극부(3)가 증착되어 초음파를 발생시키는 다수개의 빔확산용 압전소자(10)와;상기 확산층(13) 내부 양측에 길이방향으로 관통되어 형성되는 냉각홀(50)과;상기 빔확산용 압전소자(10)에 전원을 공급하는 전원선(31);을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 세정용 초음파 장치 및 이를 이용한 초음파 세정시스템
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반도체 웨이퍼 및 FPD를 세정하는 초음파장치에 있어서,외주면에 하우징(16)이 형성되는 원판형의 확산층(13)과;상기 확산층(13) 내주면에 형성되는 환형의 냉각홀(50)과;상기 확산층(13) 상면에 접합되되, 일단에는 양극부(2)가 증착되고, 타단에는 음극부(3)가 증착되어 초음파를 발생시키는 다수개의 빔확산용 압전소자(10)와;상기 확산층(13) 하면에 접합되는 증폭부(60)와;상기 빔확산용 압전소자(10)에 전원을 공급하는 전원선(31);을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 세정용 초음파 장치 및 이를 이용한 초음파 세정시스템
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반도체 웨이퍼 및 FPD를 세정하는 초음파장치에 있어서,내부가 비어있는 회전테이블(18)과;상기 회전테이블(18) 내부에 위치되며 상부에 피세정물(17)이 얹혀지는 확산층(13)과;상기 확산층(13) 하면에 접합되되, 일측에는 양극부(2)가 증착되고 타측에는 음극부(3)가 증착되어, 초음파를 발생시키는 다수개의 빔확산용 압전소자(10)와;상기 빔확산용 압전소자(10)에 전원을 공급하는 전원선(31);을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 세정용 초음파 장치 및 이를 이용한 초음파 세정시스템
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제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서,상기 확산층(13)은 일측이 상기 음극부(3)에 접합되며 초음파가 직진성을 갖는 니어필드(11)와, 상기 초음파가 확산되어 중첩되는 파필드(12)로 구성되어 상기 초음파의 음압편차를 감소시키는 것을 특징으로 하는 세정용 초음파 장치 및 이를 이용한 초음파 세정시스템
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제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서,상기 양극부(2)는 일정간격 이격되는 다수개의 양극편(1)으로 구성되어 전원이 유입되되, 상기 양극편(1)은 너비가 작아질수록 확산각을 크게 하는 것을 특징으로 하는 세정용 초음파 장치 및 이를 이용한 초음파 세정시스템
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제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서,상기 빔확산용 압전소자(10)는 횡과 종으로 일정간격 이격되며 형성되되, 압전소자의 수축팽창으로 인하여 초음파를 발생시키는 것을 특징으로 하는 세정용 초음파 장치 및 이를 이용한 초음파 세정시스템
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제 1항 또는 제 3항에 있어서,상기 증폭부(60)는 상기 확산층(13)과 접합되는 상면에서부터 저면으로 갈수록 폭이 좁아져 상기 확산층(13)을 통과한 초음파가 증폭되는 것을 특징으로 하는 세정용 초음파 장치 및 이를 이용한 초음파 세정시스템
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제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서,상기 확산층(13)은 석영, 스테인리스강, 테플론, 알루미늄, 스틸 중 어느 하나의 소재로 된 것을 특징으로 하는 세정용 초음파 장치 및 이를 이용한 초음파 세정시스템
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