맞춤기술찾기

홈으로 가기
맞춤기술찾기
이전대상기술
프린트하기

이전대상기술

거리와 각도 변화를 동시에 측정하기 위한 방법과 장치

  • 기술번호 : KST2014065636
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
상담신청 PDF 받기
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 서로 다른 물리량인 거리(변위)와 각도 변화를 동시에 측정하기 위해 하나의 광원에서 나온 빛을 하나의 광축 상에 둠으로써 정밀 측정기기나 가공기기의 스테이지(이송대)에 의해 위치 이동되는 측정기나 가공기의 변위와 각도 변화를 아베 오차(abbe error) 없이 동시에 측정할 수 있도록 한 것이다. 레이저 간섭계. 오토콜리메이터. 거리. 각도. 편광.
Int. CL G01B 11/00 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020040000734 (2004.01.06)
출원인 한국표준과학연구원
등록번호/일자 10-0608892-0000 (2006.07.27)
공개번호/일자 10-2005-0072340 (2005.07.11) 문서열기
공고번호/일자 (20060803) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항 심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2004.01.06)
심사청구항수 9

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 김재완 대한민국 대전광역시 유성구
2 엄태봉 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 박만순 대한민국 서울특별시 서초구 사임당로 **, **층 (서초동, 신영빌딩)(특허법인세원)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2004.01.06 수리 (Accepted) 1-1-2004-0004241-10
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2005.07.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2005.08.12 수리 (Accepted) 9-1-2005-0048438-15
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2005.11.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2005-0578801-11
5 의견서
Written Opinion		 2006.01.16 수리 (Accepted) 1-1-2006-0029320-28
6 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.		 2006.01.16 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2006-0029325-56
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2006.02.15 수리 (Accepted) 4-1-2006-5019752-35
8 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2006.05.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0275048-19
9 명세서 등 보정서(심사전치)
Amendment to Description, etc(Reexamination)		 2006.06.13 보정승인 (Acceptance of amendment) 7-1-2006-0018395-79
10 등록결정서
Decision to grant		 2006.07.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0423590-16
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.01.09 수리 (Accepted) 4-1-2014-5004381-25
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266645-00
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266640-72
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266627-88
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
삭제
2 2
하나의 광원에서 나온 빛이 핀 홀을 통과하면서 점광원 역할을 하고 상기 점광원에서 나온 빛의 일부가 광 분할기를 통해 편광 분할기에 입사되도록 하는 제1단계; 상기 광원의 빛의 S-편광 성분과 P-편광 성분 중 상기 편광 분할기에 의해 반사된 P-편광이 1/4 파장판을 통해 기준 거울에 입사되었다 반사되면서 S-편광으로 변환된 후 상기 편광 분할기와 제1편광 회전소자를 투과하면서 제1편광 회전소자에 의해 S-편광 성분과 P-편광 성분을 가지는 기준 광으로 변환되어 광 검출기에 입사되도록 하는 제2단계; 상기 제1단계에서 S-편광과 P-편광 중 상기 편광 분할기를 투과한 S-편광이 제2편광 회전소자를 통해 스테이지와 함께 위치 이동되는 스테이지 거울에 입사되었다 반사되면서 제2편광 회전소자에 의해 S-편광 성분과 P-편광 성분을 가지는 빛으로 변환된 후 다시 편광 분할기에 입사되도록 하는 제3단계; 상기 제2편광 회전소자를 통해 입사된 S-편광과 P-편광 중 상기 편광 분할기에 의해 반사된 P-편광이 제1편광 회전소자를 통해 S-편광 성분과 P-편광 성분을 가지는 거리 변화를 측정하기 위한 빛으로 광 검출기에 입사되도록 하는 제4단계; 상기 제2편광 회전소자를 통해 입사된 S-편광과 P-편광 중 상기 편광 분할기를 투과한 S-편광의 일부가 렌즈와 광 분할기에 의해 반사되어 각도 변화를 측정하기 위한 빛으로 위치 감지 검출기에 입사되도록 하는 제5단계; 및 상기 광 검출기에 입사된 기준 광과 거리 변화를 측정하기 위한 빛의 위상차를 비교 분석하여 스테이지에 의해 위치 이동된 측정기나 가공기의 이동거리를 구하고 상기 위치 감지 검출기에 입사된 빛의 위치를 분석하여 스테이지에 의해 위치 이동된 측정기나 가공기의 두 방향의 회전각을 구하는 제6단계; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 변위와 각도 변화를 동시에 측정하기 위한 방법
3 3
하나의 광원에서 나온 빛이 핀 홀을 통과하면서 점광원 역할을 하고 점광원에서 나온 빛의 일부가 광 분할기를 통해 편광 분할기에 입사되도록 하는 제1단계;상기 빛의 S-편광 성분과 P-편광 성분 중 상기 편광 분할기에 의해 반사된 P-편광이 코너 큐브를 돌아 나와 상기 편광 분할기에 의해 다시 반사된 후 제1편광 회전소자를 투과하면서 제1편광 회전소자에 의해 S-편광 성분과 P-편광 성분을 가지는 기준 광으로 변환되어 광 검출기에 입사되도록 하는 제2단계;상기 제1단계에서 S-편광과 P-편광 중 상기 편광 분할기를 투과한 S-편광이 제2편광 회전소자를 통해 스테이지와 함께 위치 이동되는 스테이지 거울에 입사되었다 반사되면서 제2편광 회전소자에 의해 S-편광 성분과 P-편광 성분을 가지는 빛으로 변환된 후 다시 편광 분할기에 입사되도록 하는 제3단계;상기 제2편광 회전소자를 통해 입사된 S-편광과 P-편광 중 상기 편광 분할기에 의해 반사된 P-편광이 코너 큐브를 돌아 나와 상기 편광 분할기에 의해 반사되어 1/4 파장판을 통해 스테이지 거울에 입사되었다 반사되면서 S-편광으로 변환된 후 상기 편광 분할기와 제1편광 회전소자를 투과하면서 제1편광 회전소자를 통해 S-편광 성분과 P-편광 성분을 가지는 거리 변화를 측정하기 위한 빛으로 광 검출기에 입사되도록 하는 제4단계;상기 제2편광 회전소자를 통해 입사된 S-편광과 P-편광 중 상기 편광 분할기를 투과한 S-편광의 일부가 렌즈와 광 분할기에 의해 반사되어 각도 변화를 측정하기 위한 빛으로 위치 감지 검출기에 입사되도록 하는 제5단계; 및 상기 광 검출기에 입사된 기준 광과 거리 변화를 측정하기 위한 빛의 위상차를 비교 분석하여 스테이지에 의해 위치 이동된 측정기나 가공기의 이동거리를 구하고 상기 위치 감지 검출기에 입사된 빛의 위치를 분석하여 스테이지에 의해 위치 이동된 측정기나 가공기의 두 방향의 회전각을 구하는 제6단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 변위와 각도 변화를 동시에 측정하기 위한 방법
4 4
하나의 광원에서 나온 빛이 핀 홀을 통과하면서 점광원 역할을 하고, 상기 점광원에서 나온 빛의 일부가 광 분할기를 통해 편광 분할기에 입사되도록 하는 제1단계;상기 광원의 빛의 S-편광 성분과 P-편광 성분 중 상기 편광 분할기에 의해 반사된 P-편광이 1/4 파장판을 통해 기준 거울에 입사 및 반사되면서 S-편광으로 변환되어 상기 편광 분할기에 입사되고, 이는 다시 코너 큐브를 돌아 나와 상기 편광 분할기와 1/4 파장판을 통해 기준 거울에 입사 및 반사되면서 P-편광으로 변환된 후 상기 편광 분할기에 의해 다시 반사되어 제1편광 회전소자를 투과하면서 제1편광 회전소자에 의해 S-편광 성분과 P-편광 성분을 가지는 기준 광으로 변환되어 광 검출기에 입사되도록 하는 제2단계;상기 제1단계에서 S-편광과 P-편광 중 상기 편광 분할기를 투과한 S-편광이 제2편광 회전소자를 통해 스테이지와 함께 위치 이동되는 스테이지 거울에 입사되었다 반사되면서 제2편광 회전소자에 의해 S-편광 성분과 P-편광 성분을 가지는 빛으로 변환된 후 다시 편광 분할기에 입사되도록 하는 제3단계;상기 제2편광 회전소자를 통해 입사된 S-편광과 P-편광 중 상기 편광 분할기에 의해 반사된 P-편광이 코너 큐브를 돌아 나와 상기 편광 분할기에 의해 반사되어 1/4 파장판을 통해 스테이지 거울에 입사되었다 반사되면서 S-편광으로 변환된 후 상기 편광 분할기와 제1편광 회전소자를 투과하면서 제1편광 회전소자를 통해 S-편광 성분과 P-편광 성분을 가지는 거리 변화를 측정하기 위한 빛으로 광 검출기에 입사되도록 하는 제4단계;상기 제2편광 회전소자를 통해 입사된 S-편광과 P-편광 중 상기 편광 분할기를 투과한 S-편광의 일부가 렌즈와 광 분할기에 의해 반사되어 각도 변화를 측정하기 위한 빛으로 위치 감지 검출기에 입사되도록 하는 제5단계; 및 상기 광 검출기에 입사된 기준 광과 거리 변화를 측정하기 위한 빛의 위상차를 비교 분석하여 스테이지에 의해 위치 이동된 측정기나 가공기의 이동거리를 구하고 상기 위치 감지 검출기에 입사된 빛의 위치를 분석하여 스테이지에 의해 위치 이동된 측정기나 가공기의 두 방향의 회전각을 구하는 제6단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 변위와 각도 변화를 동시에 측정하기 위한 방법
5 5
제2항 내지 제4항 중 어느 한 항 있어서, 상기 제1,2 편광 회전소자는 선 편광기(polarizer) 또는 1/8 파장판인 것을 특징으로 하는 변위와 각도 변화를 동시에 측정하기 위한 방법
6 6
삭제
7 7
하나의 광원; 상기 광원에서 나온 빛이 점광원 역할을 하도록 만드는 핀 홀; 상기 핀 홀을 통한 빛의 일부가 편광 분할기에 입사되고, 상기 편광 분할기를 지나 스테이지에 부착된 거울로부터 반사되어 돌아오는 빛의 일부가 각도 변화를 측정하기 위한 빛으로 위치 감지 검출기에 입사되도록 하는 광 분할기; 상기 광 분할기로부터 입사되는 빛 중 S-편광 성분은 투과되어 스테이지 거울에 입사되었다 반사되면서 S-편광 성분과 P-편광 성분을 갖는 빛으로 변환된 후 이 중 S-편광 성분은 투과되어 광 분할기에 다시 입사되고 P-편광 성분은 반사되어 광 검출기에 거리 변화를 측정하기 위한 빛으로 입사되는 한편 상기 광 분할기로부터 입사되는 빛 중 P-편광 성분은 반사되어 1/4 파장판을 통해 기준 거울에 입사되었다 반사되면서 광 검출기에 거리 변화를 측정하기 위한 기준 광으로 입사되도록 하는 편광 분할기; 상기 편광 분할기로부터 기준 거울에 입사되었다 반사되는 P-편광이 S-편광으로 변환되도록 하는 1/4 파장판과, 상기 편광 분할기를 투과한 S-편광이 스테이지 거울에 입사되었다 반사되는 동안 S-편광 성분과 P-편광 성분을 갖는 빛으로 변환되도록 하는 제2편광 회전소자; 상기 기준 거울에 의해 반사된 S-편광과 상기 스테이지 거울에 의해 반사된 빛 중 P-편광이 S-편광과 P-편광을 가지는 빛으로 변환되어 광 검출기에 입사되도록 하는 제1편광 회전소자; 및 상기 광 검출기에 입사된 기준 광과 거리 변화를 측정하기 위한 빛의 위상차를 비교 분석하여 스테이지에 의해 위치 이동된 측정기나 가공기의 이동거리를 구하고 상기 위치 감지 검출기에 입사된 빛의 위치를 분석하여 스테이지에 의해 위치 이동된 측정기나 가공기의 두 방향의 회전각을 구하는 비교 연산수단; 을 포함하는 것을 특징으로 하는 변위와 각도 변화를 동시에 측정하기 위한 장치
8 8
하나의 광원; 상기 광원에서 나온 빛이 점광원 역할을 하도록 만드는 핀 홀; 상기 핀 홀을 통한 빛의 일부가 편광 분할기에 입사되고 상기 편광 분할기를 지나 스테이지에 부착된 거울로부터 반사되어 돌아오는 빛의 일부가 각도 변화를 측정하기 위한 빛으로 위치 감지 검출기에 입사되도록 하는 광 분할기; 상기 광 분할기로부터 편광 분할기에 입사되는 빛 중 P-편광 성분은 반사되어 제1코너 큐브 쪽으로 보내고 S-편광 성분은 투과하여 스테이지 거울 쪽으로 보내는 편광 분할기; 상기 편광 분할기에서 반사된 P-편광의 진행경로를 변경시켜 반사하는 제1코너 큐브; 상기 편광 분할기를 투과한 S-편광이 스테이지 거울에 입사되었다 반사되는 동안 S-편광 성분과 P-편광 성분을 갖는 빛으로 변환되도록 하는 제1편광 회전소자; 상기 제1편광 회전소자를 통해 만들어진 P-편광 성분의 빛이 편광 분할기에서 반사된 후 다시 다른 경로로 스테이지 거울에 입사되도록 진행경로를 변경시켜 주는 제2코너 큐브; 상기 제2코너 큐브를 돌아 나와 스테이지 거울에 입사되었다 반사되는 P-편광이 S-편광으로 변환되도록 하는 1/4 파장판; 상기 제2코너 큐브를 돌아 나와 편광 분할기에 의해 반사된 P-편광과 상기 스테이지 거울에 의해 반사되어 편광 분할기를 투과한 S-편광이 동일한 선편광을 가지는 빛으로 변환되어 광 검출기에 입사되도록 하는 제2편광 회전소자; 및 상기 광 검출기에 입사된 기준 광과 거리 변화를 측정하기 위한 빛의 위상차를 비교 분석하여 스테이지에 의해 위치 이동된 측정기나 가공기의 이동거리를 구하고 상기 위치 감지 검출기에 입사된 빛의 위치를 분석하여 스테이지에 의해 위치 이동된 측정기나 가공기의 두 방향의 회전각을 구하는 비교 연산수단; 을 포함하는 것을 특징으로 하는 변위와 각도 변화를 동시에 측정하기 위한 장치
9 9
하나의 광원; 상기 광원에서 나온 빛이 점광원 역할을 하도록 만드는 핀 홀; 상기 핀 홀을 통한 빛의 일부가 편광 분할기에 입사되고 상기 편광 분할기를 지나 스테이지에 부착된 거울로부터 반사되어 돌아오는 빛의 일부가 각도 변화를 측정하기 위한 빛으로 위치 감지 검출기에 입사되도록 하는 광 분할기; 상기 광 분할기로부터 편광 분할기에 입사되는 빛 중 P-편광 성분을 반사해 기준거울 쪽으로 보내고 S-편광 성분을 투과하여 스테이지 거울 쪽으로 보내는 편광 분할기; 상기 편광 분할기를 투과한 S-편광이 스테이지 거울에 입사되었다 반사되는 동안 S-편광 성분과 P-편광 성분을 갖는 빛으로 변환되도록 하는 제1편광 회전소자; 상기 제1편광 회전소자를 통해 만들어진 P-편광 성분의 빛이 편광 분할기에서 반사된 후 다시 다른 경로로 스테이지 거울에 입사되도록 진행경로를 변경시켜 주는 코너 큐브; 상기 코너 큐브를 돌아 나와 스테이지 거울에 입사되었다 반사되는 P-편광이 S-편광으로 변환되도록 하는 제1 1/4 파장판; 상기 편광 분할기를 반사한 P-편광이 기준거울에 입사되었다 반사될 때 S-편광으로 바꿔주는 제2 1/4 파장판; 상기 편광 분할기를 반사한 후 제2 1/4 파장판을 투과한 빛을 다시 상기 편광 분할기로 반사는 기준거울; 상기 기준 거울과 코너 큐브 사이를 왕복해서 돌아 나와 편광 분할기에 의해 반사된 P-편광과 상기 스테이지 거울에 의해 반사되어 편광 분할기를 투과한 S-편광이 S-편광과 P-편광을 가지는 빛으로 변환되어 광 검출기에 입사되도록 하는 제2편광 회전소자 및 상기 광 검출기에 입사된 기준 광과 거리 변화를 측정하기 위한 빛의 위상차를 비교 분석하여 스테이지에 의해 위치 이동된 측정기나 가공기의 이동거리를 구하고 상기 위치 감지 검출기에 입사된 빛의 위치를 분석하여 스테이지에 의해 위치 이동된 측정기나 가공기의 두 방향의 회전각을 구하는 비교 연산수단; 을 포함하는 것을 특징으로 하는 변위와 각도 변화를 동시에 측정하기 위한 장치
10 10
제7항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1,2 편광 회전소자는 선 편광기(polarizer) 또는 1/8 파장판인 것을 특징으로 하는 변위와 각도 변화를 동시에 측정하기 위한 장치
11 11
제8항 또는 제9항에 있어서,상기 광 분할기의 전방에는 광원에서 나온 빛을 콜리메이티드 빔(collimated beam)으로 만들어 주고, 위치 감지 검출기에 입사되는 빛을 집광하기 위한 렌즈가 설치되는 것을 특징으로 하는 변위와 각도 변화를 동시에 측정하기 위한 장치
12 11
제8항 또는 제9항에 있어서,상기 광 분할기의 전방에는 광원에서 나온 빛을 콜리메이티드 빔(collimated beam)으로 만들어 주고, 위치 감지 검출기에 입사되는 빛을 집광하기 위한 렌즈가 설치되는 것을 특징으로 하는 변위와 각도 변화를 동시에 측정하기 위한 장치
지정국 정보가 없습니다
순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - 패밀리정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
패밀리 정보가 없습니다

DOCDB 패밀리 정보

순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - DOCDB 패밀리 정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US2005157310 US 미국 DOCDBFAMILY
2 US7268886 US 미국 DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.