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고주파 스퍼터링(RF Sputtering) 방법으로 그라파이트 페블의 SiC 코팅을 수행하는 그라파이트 페블에 대한 SiC 코팅장치에 있어서,진공 상태를 형성하는 진공챔버;상기 진공챔버의 내부에 설치되고, 상기 그라파이트 페블에 코팅되기 위한 SiC 입자를 발생시키는 SiC 타겟부;상기 진공챔버의 내부에 구비되고, 상기 그라파이트 페블이 수용되기 위한 페블 수용부; 및상기 페블 수용부의 내부에 회전 가능하게 설치되고, 상기 그라파이트 페블의 균일한 코팅을 위하여, 코팅이 수행되는 동안 상기 그라파이트 페블이 구름 운동(rolling)을 할 수 있도록 상기 그라파이트 페블에 외력을 가하는 회전막대(Rotating Stir bar);를 포함하고,상기 페블 수용부는, 상방으로 개구되는 원통 형상이고, 상기 회전막대는, 상기 페블 수용부의 바닥에 회전 가능하게 설치되며,상기 회전막대의 회전에 의한 그라파이트 페블의 손상이 최소화될 수 있도록, 상기 회전막대의 상면이 상기 회전막대의 회전 방향으로 하향 경사지게 형성되는 것을 특징으로 하는 그라파이트 페블에 대한 SiC 코팅장치
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제 1 항에 있어서,상기 회전막대에 연결되고, 상기 회전막대를 운동시키기 위한 동력을 발생시키는 모터;를 포함하는 것을 특징으로 하는 그라파이트 페블에 대한 SiC 코팅장치
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제 1 항에 있어서,상기 그라파이트 페블을 가열하기 위한 가열부;를 더 포함하고,코팅이 수행되는 동안, 상기 가열부는 상기 그라파이트 페블을 1400oC 이상에 해당하는 온도로 가열하는 것을 특징으로 하는 그라파이트 페블에 대한 SiC 코팅장치
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제 5 항에 있어서,상기 가열부는, 상기 페블 수용부를 둘러싸도록 상기 페블 수용부의 인접한 외측에 설치되는 것을 특징으로 하는 그라파이트 페블에 대한 SiC 코팅장치
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고주파 스퍼터링(RF Sputtering) 방식을 이용하는 그라파이트 페블에 대한 SiC 코팅방법에 있어서, 상기 그라파이트 페블의 균일한 코팅을 위하여, 코팅이 수행되는 동안 상기 그라파이트 페블이 페블 수용부의 바닥을 따라 구름 운동(rolling)을 하고,코팅이 수행되는 동안, 상기 그라파이트 페블이 지속적으로 구름 운동을 할 수 있도록 상기 페블 수용부의 내부에서, 회전막대의 회전에 의하여 외력이 가해지고,상기 회전막대의 회전에 의한 그라파이트 페블의 손상이 최소화될 수 있도록, 상기 회전막대의 상면이 상기 회전막대의 회전 방향으로 하향 경사지게 형성되는 것을 특징으로 하는 그라파이트 페블에 대한 SiC 코팅방법
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제 7 항에 있어서,코팅이 수행되는 동안, 상기 그라파이트 페블이 1400oC 이상으로 가열되는 것을 특징으로 하는 그라파이트 페블에 대한 SiC 코팅방법
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