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플라즈마 상태 실시간 모니터링 장치
- 기술번호 : KST2014065712
- 담당센터 : 대전기술혁신센터
- 전화번호 : 042-610-2279
| 요약 | 본 발명은 플라즈마 모니터링 방법 및 그 장치를 제공한다. 이 방법은 플라즈마를 구속하는 챔버의 창문을 통하여 플라즈마가 방출하는 스펙트럼을 측정하여 광학 신호를 생성하는 단계, 상기 창문의 투과율 감소를 고려하여 상기 광학 신호로부터 기준신호를 추출하는 단계, 및 상기 기준신호와 상기 광학 신호를 이용하여 신호 변화량을 추출하는 단계를 포함한다. 플라즈마, 광학 방출, 모니터링 |
|---|---|
| Int. CL | H01L 21/3065 (2006.01) H01L 21/66 (2006.01) |
| CPC | H01J 37/32963(2013.01) H01J 37/32963(2013.01) H01J 37/32963(2013.01) |
| 출원번호/일자 | 1020080051624 (2008.06.02) |
| 출원인 | 한국표준과학연구원 |
| 등록번호/일자 | 10-0994648-0000 (2010.11.10) |
| 공개번호/일자 | 10-2009-0125490 (2009.12.07) 문서열기 |
| 공고번호/일자 | (20101116) 문서열기 |
| 국제출원번호/일자 | |
| 국제공개번호/일자 | |
| 우선권정보 | |
| 법적상태 | 소멸 |
| 심사진행상태 | 수리 |
| 심판사항 | 심판사항 |
| 구분 | 신규 |
| 원출원번호/일자 | |
| 관련 출원번호 | |
| 심사청구여부/일자 | Y (2008.06.02) |
| 심사청구항수 | 17 |
출원인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한국표준과학연구원 | 대한민국 | 대전 유성구 |
발명자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 김정형 | 대한민국 | 대전 유성구 |
| 2 | 유신재 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
| 3 | 성대진 | 대한민국 | 충청남도 공주시 |
| 4 | 신용현 | 대한민국 | 대전 유성구 |
대리인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 이평우 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 테헤란로 **길 **-*(역삼동, IT빌딩 *층)(특허법인 누리) |
최종권리자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한국표준과학연구원 | 대한민국 | 대전 유성구 |
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2008.06.02 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0394513-74 |
| 2 | [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서 [Appointment of Agent] Report on Agent (Representative) |
2009.07.14 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0426344-84 |
| 3 | [대리인해임]대리인(대표자)에 관한 신고서 [Dismissal of Sub-agent] Report on Agent (Representative) |
2009.10.13 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0626375-24 |
| 4 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2010.02.16 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
| 5 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2010.03.18 | 수리 (Accepted) | 9-1-2010-0017096-40 |
| 6 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2010.03.31 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2010-0135332-59 |
| 7 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2010.04.20 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0250195-63 |
| 8 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2010.04.20 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2010-0250199-45 |
| 9 | 거절결정서 Decision to Refuse a Patent |
2010.09.28 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2010-0427089-74 |
| 10 | 명세서 등 보정서(심사전치) Amendment to Description, etc(Reexamination) |
2010.10.01 | 보정승인 (Acceptance of amendment) | 7-1-2010-0041196-57 |
| 11 | 등록결정서 Decision to grant |
2010.11.05 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2010-0503751-53 |
| 12 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.01.09 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5004381-25 |
| 13 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2018.12.27 | 수리 (Accepted) | 4-1-2018-5266645-00 |
| 14 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2018.12.27 | 수리 (Accepted) | 4-1-2018-5266640-72 |
| 15 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2018.12.27 | 수리 (Accepted) | 4-1-2018-5266627-88 |
| 번호 | 청구항 |
|---|---|
| 1 |
1 삭제 |
| 2 |
2 플라즈마를 구속하는 챔버의 창문을 통하여 상기 플라즈마가 방출하는 스펙트럼을 측정하여 광학 신호를 생성하는 단계; 상기 창문의 투과율 감소를 고려하여 상기 광학 신호로부터 기준신호를 추출하는 단계; 및 상기 기준신호와 상기 광학 신호를 이용하여 신호 변화량을 추출하는 단계를 포함하고, 상기 창문의 투과율 감소를 고려하여 상기 광학 신호로부터 기준신호를 산출하는 단계는: 상기 광학 신호의 시간에 따른 변화를 이용하여 감소율을 계산하는 단계;및 상기 감소율과 공정 시간의 내적을 이용하여 상기 기준 신호를 추출하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 모니터링 방법 |
| 3 |
3 제 2항에 있어서, 상기 기준신호과 상기 광학 신호를 이용하여 신호 변화량을 추출하는 단계는 상기 광학 신호에서 상기 기준 신호를 뺀 차이 값을 생성하는 단계; 및 상기 신호 변화량은 상기 차이 값의 함수로 결정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 모니터링 방법 |
| 4 |
4 제 2항에 있어서, 상기 챔버는 복수의 기판을 처리하고, 각각의 상기 기판이 처리되는 단위 공정 시간은 동일하고, 상기 공정 시간은 처리된 기판 수와 상기 단위 공정 시간의 내적으로 주어지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 모니터링 방법 |
| 5 |
5 제 2항에 있어서, 상기 챔버는 복수의 기판을 처리하고, 처리중인 기판의 상기 기준신호는 직전의 처리된 기판에서 측정된 광학 신호로 설정하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 모니터링 방법 |
| 6 |
6 제 2 항에 있어서, 상기 챔버는 복수의 기판을 처리하고, 처리 중인 기판의 상기 기준신호는 직전의 처리된 기판에서 측정된 광학 신호를 1차 이상의 함수로 피팅(fitting)하여 설정하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 모니터링 방법 |
| 7 |
7 제 2 항에 있어서, 상기 챔버는 연속적으로 M개의 기판을 처리하고, M은 2이상의 정수이고, 첫 번째 기판의 상기 광학 신호를 기준 신호로 설정하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 모니터링 방법 |
| 8 |
8 제2 항에 있어서, 상기 챔버는 복수의 기판을 처리하고, 처리 중인 기판의 상기 기준신호는 기판의 처리 후 최초 소정의 시간 동안 측정된 상기 광학 신호의 평균으로 설정하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 모니터링 방법 |
| 9 |
9 제2 항에 있어서, 상기 광학 신호는 복수의 스펙트럼 영역에 대하여 측정하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 모니터링 방법 |
| 10 |
10 제 9항에 있어서, 상기 기준신호는 복수의 스펙트럼 영역에 대하여 상기 창문의 투과율 감소를 고려하여 추출하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 모니터링 방법 |
| 11 |
11 제 10항에 있어서, 상기 신호 변화량은 각각의 파장에 대하여 계산되고, 각각의 파장에 대하여 계산된 상기 신호 변화량은 복수의 스펙트럼 영역에 대하여 합산되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 모니터링 방법 |
| 12 |
12 제 11항에 있어서, 상기 챔버를 제어하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 모니터링 방법 |
| 13 |
13 제 12항에 있어서, 상기 신호 변화량이 임계 신호 변화량 이상인 경우 공정 경고 신호를 발생시키는 것을 특징으로 하는 플라즈마 모니터링 방법 |
| 14 |
14 제 13항에 있어서, 상기 신호 변화량이 임계 신호 변화량 이상인 경우, 상기 신호 변화량에 영향을 미친 특정 파장을 검출하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 모니터링 방법 |
| 15 |
15 제2 항에 있어서, 상기 신호 변화량이 임계 신호 변화량 이상인 경우 경고 신호를 발생시키는 것을 특징으로 하는 플라즈마 모니터링 방법 |
| 16 |
16 제 15항에 있어서, 상기 챔버를 제어하는 단계는 상기 광학 신호의 감소량이 임계값 이상인 경우 경고 신호를 발생시키는 것 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 모니터링 방법 |
| 17 |
17 제 2항에 있어서, 상기 신호 변화량은 아크 감지, 챔버의 리크, 챔버 내부 조건의 변화, 및 종료점 검출 중에서 적어도 하나를 나타내는 것을 특징으로 하는 플라즈마 모니터링 방법 |
| 18 |
18 창문을 포함하는 챔버에 감금된 플라즈마가 방출하는 스펙트럼을 측정하여 광학 신호를 생성하는 분광 감지부; 상기 창문을 통하여 방출된 광을 집광하여 상기 분광 감지부에 전달하는 수광부; 상기 창문의 투과율 감소를 고려하여 상기 광학 신호로부터 기준신호를 추출하고, 상기 기준신호과 상기 광학 신호를 이용하여 신호 변화량을 추출하는 처리부; 및 상기 신호 변화량을 이용하여 상기 챔버를 제어하는 제어부를 포함하고, 상기 기준 신호는 상기 광학 신호의 시간에 따른 변화를 이용한 감소율과 공정 시간의 내적을 이용하여 추출되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 모니터링 장치 |
| 지정국 정보가 없습니다 |
|---|
| 패밀리정보가 없습니다 |
|---|
| 순번 | 연구부처 | 주관기관 | 연구사업 | 연구과제 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | 지식경제부 | 한국표준과학연구원 | 진공기술기반구축사업 2단계 | 진공기술기반구축사업 |
- 본 등록정보는 참고용으로 법적증빙자료로 사용할 수 없습니다.
- 데이터 이관에 따른 소요기간(1일)으로 인하여 등록원부와 일부 차이가 발생할 수 있으며, 일부 정보(부기, 상세 주소 등)를 제공하지 않고 있습니다.
- 법적증빙자료로 활용하시거나 더 자세한 정보를 보시려면 등록원부를 발급받아 사용하시기 바랍니다.
| 특허 등록번호 | 10-0994648-0000 |
|---|
권리란
| 표시번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
출원 연월일 : 20080602 출원 번호 : 1020080051624 공고 연월일 : 20101116 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20101105 청구범위의 항수 : 17 유별 : H01L 21/66 발명의 명칭 : 플라즈마 모니터링 방법 및 그 장치 존속기간(예정)만료일 : 20151111 |
특허권자란
| 순위번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
(권리자) 한국표준과학연구원 대전 유성구... |
등록료란
| 제 1 - 3 년분 | 금 액 | 354,000 원 | 2010년 11월 10일 | 납입 |
| 제 4 년분 | 금 액 | 414,000 원 | 2013년 10월 15일 | 납입 |
| 제 5 년분 | 금 액 | 289,800 원 | 2014년 10월 10일 | 납입 |
- 본 '원본보기 서비스'는 참고용이므로, 일부 오류 및 누락이 발생할 수 있습니다.
- 정확한 서류를 확인하시려면 해당 웹사이트에서 조회하시기 바랍니다. (특허로 바로가기: http://www.patent.go.kr)
- 해당 서비스는 점검으로 인해 매주 일요일 00:00 ~ 02:00까지 이용이 중단됩니다.
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 | 2008.06.02 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0394513-74 |
| 2 | [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서 | 2009.07.14 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0426344-84 |
| 3 | [대리인해임]대리인(대표자)에 관한 신고서 | 2009.10.13 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0626375-24 |
| 4 | 선행기술조사의뢰서 | 2010.02.16 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
| 5 | 선행기술조사보고서 | 2010.03.18 | 수리 (Accepted) | 9-1-2010-0017096-40 |
| 6 | 의견제출통지서 | 2010.03.31 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2010-0135332-59 |
| 7 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2010.04.20 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0250195-63 |
| 8 | [명세서등 보정]보정서 | 2010.04.20 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2010-0250199-45 |
| 9 | 거절결정서 | 2010.09.28 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2010-0427089-74 |
| 10 | 명세서 등 보정서(심사전치) | 2010.10.01 | 보정승인 (Acceptance of amendment) | 7-1-2010-0041196-57 |
| 11 | 등록결정서 | 2010.11.05 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2010-0503751-53 |
| 12 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.01.09 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5004381-25 |
| 13 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2018.12.27 | 수리 (Accepted) | 4-1-2018-5266645-00 |
| 14 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2018.12.27 | 수리 (Accepted) | 4-1-2018-5266640-72 |
| 15 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2018.12.27 | 수리 (Accepted) | 4-1-2018-5266627-88 |
| 기술번호 | KST2014065712 |
|---|---|
| 자료제공기관 | 미래기술마당 |
| 기술공급기관 | 한국표준과학연구원 |
| 기술명 | 플라즈마 상태 실시간 모니터링 장치 |
| 기술개요 |
본 발명은 플라즈마 모니터링 방법 및 그 장치를 제공한다. 이 방법은 플라즈마를 구속하는 챔버의 창문을 통하여 플라즈마가 방출하는 스펙트럼을 측정하여 광학 신호를 생성하는 단계, 상기 창문의 투과율 감소를 고려하여 상기 광학 신호로부터 기준신호를 추출하는 단계, 및 상기 기준신호와 상기 광학 신호를 이용하여 신호 변화량을 추출하는 단계를 포함한다. 플라즈마, 광학 방출, 모니터링 |
| 개발상태 | 연구실환경 테스트 |
| 기술의 우수성 |
1) 고체, 액체, 기체가 아닌 제4의 물질 상태로 불리는 플라즈마는 고온에서 가스 입자가 이온과 전자로 분리돼 있는 이온화된 가스 상태로, 우주의 99% 이상을 차지하고 있음
2) 일반적으로 플라즈마는 기체 압력을 인위적으로 대기압의 1만 분의 1에서 10만분의 1 수준으로 낮춘 상태에서 만들어지지만 핵융합 파생 응용기술 중의 하나로 개발된 대기압 플라즈마는 일반적인 생성방식과 달리 대기압 수준의 기체 압력에서 발생할 수 있음 3) 대기압 플라즈마는 별도로 압력을 낮추기 위한 진공장치가 필요하지 않기 때문에 손쉽게 장치를 제작할 수 있으며, 환경 분야 등에서 활용도가 높음 4) 공정 플라즈마의 스펙트럼에서 나오는 파장뿐만이 아니라 분광기에 사용하는 CCD 또는 photo diode array의 모든 cell 신호를 고려하여 즉, 분광기의 분광 영역의 모든 cell 의 신호를 고려하여 플라즈마 아주 작은 상태변화도 잡아낼 수 있도록 함 5) 공정 플라즈마를 적용가능하며 구조가 간단하고, 측정 범위가 넓음 |
| 응용분야 |
1) 동 기술이 상용화 될 경우 반도체산업의 식각 장비 산업군에 속하며 반도체용, MEMS용 등으로 분류되어 활용될 것으로 예상됨
- 동 제품의 후방 산업은 재료 및 장비 부품 산업으로, 전방 산업은 메모리 산업 및 비메모리 산업으로 규정지을 수 있음 2) 플라즈마 기술은 첨단 부품?소재, 신 나노소재, 의공학, 생물공학, 신재생 에너지, 우주항공 등 21세기 주요산업의 기반기술 |
| 시장규모 및 동향 |
가. 해외 시장동향 1) 반도체 장비시장은 지속적으로 확대되며, 2012년에는 430억불, 2014년에는 260억불로 예상되며, 이 중, 전공정 장비가 전체 시장의 75% 이상을 계속 점유할 것으로 예측됨 특히, 3D 소자의 일반화 및 패키징의 아웃소싱이 가속화되면서 TSV 및 범핑 장비시장이 급속히 확대될 것으로 예상되고 있음 나. 국내 시장동향 1) 국내 반도체 장비시장은 2009년 기준으로 40억불이며, 글로벌 시장대비 약 25%의 점유율을 기록함 2) 우리나라의 메모리관련 생산기술은 세계 최고의 수준이며 반도체는 전자관련 수출의 50% 정도를 차지하고 있는 우리나라 경제를 떠받히는 핵심품목이 되었으나, 반도체 및 디스플레이 제조공정은 기본적으로 대규모 설비투자를 바탕으로 대량생산방식을 채택하고 있는 장치산업임에도 불구하고 우리나라는 대규모 설비의 대부분을 미국, 일본 등 선진국으로부터 수입에 의존하고 있는 실정 |
| 희망거래유형 | |
| 사업화적용실적 | |
| 도입시고려사항 |
| 과제정보가 없습니다 |
|---|
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| 번호 | 심판번호(숫자) | 심판번호(문자) | 사건의표시 | 청구일 | 심결일자 |
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| 1 | 2010101007654 | 2010원7654 | 2008년 특허출원 제0051624호 거절결정불복 | 2010.10.01 | 2010.11.05 |