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클러스터 가스 이온빔을 발생시키는 이온건(10)에 있어서,연속적인 이온빔에 2번의 초핑(chopping) 및 1번의 번칭(bunching) 과정을 순차적으로 거치게 하여 펄스 형태의 이온빔을 발생시키도록,연속 이온빔을 발생시키는 이온건 소스(15);상기 이온건 소스(15)로부터 나오는 연속 이온빔을 1차 초핑(chopping)하는 제1초퍼(4);상기 제1초퍼(4)에서 초핑된 이온빔을 2차 초핑하는 제2초퍼(7);상기 제2초퍼(7)에서 2차 초핑된 이온빔을 번칭(bunching)하는 번처(11);를 포함하여 이루어지며,상기 이온건 소스(15) 방향을 후방, 이온빔이 진행해 가는 방향을 전방이라 할 때,이온빔의 방향, 집속/발산 정도, 강도 중 적어도 어느 하나를 조절하도록,상기 이온건 소스(15) 및 상기 제1초퍼(4) 사이, 상기 제1초퍼(4) 및 상기 제2초퍼(7), 상기 제2초퍼(7) 및 상기 번처(11) 사이, 상기 번처(11) 전방 중 적어도 어느 한 위치에적어도 하나 이상의 디플렉터(deflector), 적어도 하나 이상의 정전 렌즈(einzel lens), 적어도 하나 이상의 어퍼쳐(aperture) 중 적어도 어느 하나가 구비되고,이온빔의 n-분포를 측정하도록,상기 제2초퍼(7) 및 상기 번처(11) 사이에 MCP(microchannel plate, 9) 및 이온반사판(10)이 구비되되,상기 이온건 소스(15) - 제1정전 렌즈(1) - 디플렉터(2) - 제2정전 렌즈(2) - 상기 제1초퍼(4) - 어퍼쳐(5) - 제3정전 렌즈(6) - 상기 제2초퍼(7) - 어퍼쳐(8) - 상기 MCP(9) - 상기 이온반사판(10) - 상기 번처(11) - 제4정전 렌즈(12) - 래스터(raster, 13)가 순차적으로 배치되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 비행시간 기반 질량 분석을 위한 펄싱 클러스터 가스 이온건
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