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하프 미러를 이용한 타원계측기
- 기술번호 : KST2014065887
- 담당센터 : 대전기술혁신센터
- 전화번호 : 042-610-2279
| 요약 | 본 발명은 하프 미러(half mirror)를 이용한 타원계측기(Ellipsometer using Half Mirror)에 관한 것으로, 보다 상세하게는 종래의 수직 입사형 초점 타원계측기에서 처럼 빛의 일부는 투과시키고 일부는 반사시키는 사각 프리즘형 또는 유리평판형 등의 광분할기를 사용하는 대신에 하프미러로 대물렌즈의 반쪽으로 빛을 전부 반사시키고 대물렌즈 초점의 반쪽으로부터 반사된 빛이 광분할기를 통과하지 않고 바로 광검출기로 검출되도록 함으로써 광분할기에 의한 광간섭 현상이 제거되고 광량은 최대 4배 정도 증가됨으로써 나노 박막 또는 나노 패턴 등의 시편들의 물성을 보다 정확하고 정밀하게 측정 및 분석할 수 있도록 하는 하프 미러를 이용한 타원계측기에 관한 것이다. 이를 위하여 본 발명의 하프 미러를 이용한 타원계측기는 평행광을 방출하는 광원장치(210); 상기 광원장치(210)로부터 방출된 평행광을 선편광 상태로 만드는 선편광자(220); 상기 선편광자(220)를 투과한 빛을 반사하는 하프 미러(230); 상기 하프 미러(230)로부터 반사된 빛을 시편(250)에 집중 조사시키는 대물렌즈(240); 상기 시편(250)으로부터 반사된 후 상기 대물렌즈(240)를 통과한 빛에서 특정 방향의 선편광 상태의 빛만 투과하는 검광자(260); 상기 검광자(260)를 투과한 빛의 세기를 전압 또는 전류와 같은 전기적 신호로 검출하는 광검출기(270); 상기 광검출기(270)에 의해 검출된 전기적 신호를 각각의 입사각들에 대해서 180°의 다중 입사면 경로를 따라 상기 광검출기(270)의 단위소자(pixel)에 해당되는 값으로 보정하여 연산처리하는 연산처리장치(280)를 포함하여 이루어진다. 타원계측기, 하프 미러, 대물렌즈, 초점, 반쪽, 광간섭, 방지 |
|---|---|
| Int. CL | G01N 21/21 (2006.01) G01N 21/25 (2006.01) G01N 21/41 (2006.01) G02B 5/08 (2006.01) |
| CPC | G01N 21/211(2013.01) G01N 21/211(2013.01) G01N 21/211(2013.01) G01N 21/211(2013.01) G01N 21/211(2013.01) |
| 출원번호/일자 | 1020090053593 (2009.06.16) |
| 출원인 | 한국표준과학연구원 |
| 등록번호/일자 | 10-1036455-0000 (2011.05.17) |
| 공개번호/일자 | 10-2010-0135121 (2010.12.24) 문서열기 |
| 공고번호/일자 | (20110524) 문서열기 |
| 국제출원번호/일자 | |
| 국제공개번호/일자 | |
| 우선권정보 | |
| 법적상태 | 소멸 |
| 심사진행상태 | 수리 |
| 심판사항 | |
| 구분 | 신규 |
| 원출원번호/일자 | |
| 관련 출원번호 | |
| 심사청구여부/일자 | Y (2009.06.16) |
| 심사청구항수 | 13 |
출원인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한국표준과학연구원 | 대한민국 | 대전 유성구 |
발명자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 조용재 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
| 2 | 조현모 | 대한민국 | 대전광역시 서구 |
| 3 | 제갈원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
대리인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 김종관 | 대한민국 | 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스) |
| 2 | 박창희 | 대한민국 | 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스) |
| 3 | 권오식 | 대한민국 | 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스) |
최종권리자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한국표준과학연구원 | 대한민국 | 대전 유성구 |
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2009.06.16 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0364551-96 |
| 2 | 등록결정서 Decision to grant |
2011.05.03 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0241890-57 |
| 3 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.01.09 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5004381-25 |
| 4 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2018.12.27 | 수리 (Accepted) | 4-1-2018-5266645-00 |
| 5 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2018.12.27 | 수리 (Accepted) | 4-1-2018-5266640-72 |
| 6 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2018.12.27 | 수리 (Accepted) | 4-1-2018-5266627-88 |
| 번호 | 청구항 |
|---|---|
| 1 |
1 광원장치(210); 상기 광원장치(210)로부터 방출된 평행광을 선편광 상태로 만드는 편광자(220); 상기 편광자(220)를 투과한 빛을 반사하는 하프 미러(230); 상기 하프 미러(230)로부터 반사된 빛을 시편(250)에 집중 조사시키는 대물렌즈(240); 상기 시편(250)으로부터 반사된 후 상기 대물렌즈(240)를 통과한 빛에서 특정한 방향의 선편광 상태의 빛만을 투과시키는 검광자(260); 상기 검광자(260)를 통과한 빛의 세기의 분포를 검출하기 위한 단위소자를 갖는 광검출기(270); 를 포함하여 이루어 것을 특징으로 하는 하프 미러를 이용한 타원계측기 |
| 2 |
2 광원장치(210); 상기 광원장치(210)로부터 방출된 평행광을 선편광 상태로 만드는 편광자(220); 상기 편광자(220)를 투과한 빛을 시편(250)에 집중 조사시키는 대물렌즈(240); 상기 시편(250)으로부터 반사된 후 상기 대물렌즈(240)를 통과한 빛을 반사하는 하프 미러(230); 상기 하프 미러(230)에 의해 반사된 빛에서 특정한 방향의 선편광 상태의 빛만을 투과시키는 검광자(260); 상기 검광자(260)를 통과한 빛의 세기의 분포를 검출하기 위한 단위소자를 갖는 광검출기(270); 를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 하프 미러를 이용한 타원계측기 |
| 3 |
3 광원장치(210); 상기 광원장치(210)로부터 방출된 평행광을 반사하는 하프 미러(230); 상기 하프 미러(230)로부터 반사된 빛에서 특정한 방향의 선편광 상태의 빛만을 투과시키는 선형편광자(290); 상기 선형편광자(290)로부터 투과된 선편광을 시편(250)에 집중 조사시키는 대물렌즈(240); 상기 시편(250)으로부터 반사된 후 상기 선형편광자(290)를 통과한 빛의 세기의 분포를 검출하기 위한 단위소자를 갖는 광검출기(270); 를 포함하여 이루어 것을 특징으로 하는 하프 미러를 이용한 타원계측기 |
| 4 |
4 광원장치(210); 상기 광원장치(210)로부터 방출된 평행광을 선편광 상태로 만드는 선형편광자(290); 상기 선형편광자(290)를 투과한 빛을 시편(250)에 집중 조사시키는 대물렌즈(240); 상기 시편(250)으로부터 반사된 후 상기 대물렌즈(240)를 통과한 빛의 특정한 방향의 선편광 상태의 빛만을 투과시키는 선형편광자(290); 상기 선형편광자(290)를 통과한 빛을 반사하는 하프 미러(230); 상기 하프 미러(230)에 의해 반사된 빛의 세기의 분포를 검출하기 위한 단위소자를 갖는 광검출기(270); 를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 하프 미러를 이용한 타원계측기 |
| 5 |
5 제 1항 내지 제 4항에서 선택되는 어느 한 항에 있어서, 상기 하프 미러(230)가 상기 대물렌즈(240)의 반쪽 또는 나머지 반쪽으로 빛을 반사되도록 하거나 상기 대물렌즈(240)의 반쪽 또는 나머지 반쪽을 통과한 빛이 반사되도록 설치되는 것을 특징으로 하는 하프 미러를 이용한 타원계측기 |
| 6 |
6 제 5항에 있어서, 상기 광검출기(270)에 의해 검출된 빛의 세기분포를 각각의 입사각들에 대해서 180°의 다중 입사면 경로를 따라 상기 광검출기(270)의 단위소자(pixel)에 해당되는 값으로 보정하여 연산처리하는 연산처리장치(280); 를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 하프 미러를 이용한 타원계측기 |
| 7 |
7 제 6항에 있어서, 상기 대물렌즈(240)의 반쪽 또는 나머지 반쪽으로 빛을 반사되도록 하거나 상기 대물렌즈(240)의 반쪽 또는 나머지 반쪽을 통과한 빛이 반사되도록 상기 하프 미러(230)를 이송시키는 하프 미러 이송수단이 더 구비된 것을 특징으로 하는 하프 미러를 이용한 타원계측기 |
| 8 |
8 제 6항에 있어서, 상기 광원장치(210)의 광원은 텅스텐-할로겐 램프, Xe 램프로부터 선택되는 어느 하나의 백색광원 또는 레이저의 단색광원을 사용하는 것을 특징으로 하는 하프 미러를 이용한 타원계측기 |
| 9 |
9 제 6항에 있어서, 상기 광원장치(210)가 백색광원인 경우 상기 광원장치(210)의 후단 또는 상기 광검출기(270) 전단에 특정 파장 범위의 빛을 통과시키는 대역 필터부가 더 설치된 것을 특징으로 하는 타원계측기 |
| 10 |
10 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 하프미러(230)와 상기 대물렌즈(240)의 사이에 설치되며 편광을 보상하기 위한 보상기가 더 구비된 것을 특징으로 하는 하프 미러를 이용한 타원계측기 |
| 11 |
11 제 3항 또는 제 4항에 있어서, 상기 선형편광자(290)와 상기 대물렌즈(240)의 사이에 설치되며 편광을 보상하기 위한 보상기가 더 구비된 것을 특징으로 하는 하프 미러를 이용한 타원계측기 |
| 12 |
12 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 하프미러(230)와 상기 대물렌즈(240)의 사이에 편광을 전기로 빛의 위상차를 제어하는 전기적 편광 변조장치(electrical polarization modulator)가 더 구비된 것을 특징으로 하는 하프 미러를 이용한 타원계측기 |
| 13 |
13 제 3항 또는 제 4항에 있어서, 상기 선형편광자(290)와 상기 대물렌즈(240)의 사이에 편광을 전기로 빛의 위상차를 제어하는 전기적 편광 변조장치(electrical polarization modulator)가 더 구비된 것을 특징으로 하는 하프 미러를 이용한 타원계측기 |
| 지정국 정보가 없습니다 |
|---|
| 순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | WO2010147300 | WO | 세계지적재산권기구(WIPO) | FAMILY |
| 2 | WO2010147300 | WO | 세계지적재산권기구(WIPO) | FAMILY |
DOCDB 패밀리 정보
| 순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | WO2010147300 | WO | 세계지적재산권기구(WIPO) | DOCDBFAMILY |
| 2 | WO2010147300 | WO | 세계지적재산권기구(WIPO) | DOCDBFAMILY |
| 순번 | 연구부처 | 주관기관 | 연구사업 | 연구과제 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | 과학기술부 | 한국표준과학연구원 | 나노메카트로닉스사업 | 나노 패턴손상 및 복합물성 측정기술개발 |
- 본 등록정보는 참고용으로 법적증빙자료로 사용할 수 없습니다.
- 데이터 이관에 따른 소요기간(1일)으로 인하여 등록원부와 일부 차이가 발생할 수 있으며, 일부 정보(부기, 상세 주소 등)를 제공하지 않고 있습니다.
- 법적증빙자료로 활용하시거나 더 자세한 정보를 보시려면 등록원부를 발급받아 사용하시기 바랍니다.
| 특허 등록번호 | 10-1036455-0000 |
|---|
권리란
| 표시번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
출원 연월일 : 20090616 출원 번호 : 1020090053593 공고 연월일 : 20110524 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20110503 청구범위의 항수 : 13 유별 : G01N 21/21 발명의 명칭 : 하프 미러를 이용한 타원계측기 존속기간(예정)만료일 : 20160518 |
특허권자란
| 순위번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
(권리자) 한국표준과학연구원 대전 유성구... |
등록료란
| 제 1 - 3 년분 | 금 액 | 276,000 원 | 2011년 05월 18일 | 납입 |
| 제 4 년분 | 금 액 | 326,000 원 | 2014년 04월 07일 | 납입 |
| 제 5 년분 | 금 액 | 228,200 원 | 2015년 04월 30일 | 납입 |
- 본 '원본보기 서비스'는 참고용이므로, 일부 오류 및 누락이 발생할 수 있습니다.
- 정확한 서류를 확인하시려면 해당 웹사이트에서 조회하시기 바랍니다. (특허로 바로가기: http://www.patent.go.kr)
- 해당 서비스는 점검으로 인해 매주 일요일 00:00 ~ 02:00까지 이용이 중단됩니다.
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 | 2009.06.16 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0364551-96 |
| 2 | 등록결정서 | 2011.05.03 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0241890-57 |
| 3 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.01.09 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5004381-25 |
| 4 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2018.12.27 | 수리 (Accepted) | 4-1-2018-5266645-00 |
| 5 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2018.12.27 | 수리 (Accepted) | 4-1-2018-5266640-72 |
| 6 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2018.12.27 | 수리 (Accepted) | 4-1-2018-5266627-88 |
| 기술번호 | KST2014065887 |
|---|---|
| 자료제공기관 | 미래기술마당 |
| 기술공급기관 | 한국표준과학연구원 |
| 기술명 | 하프 미러를 이용한 타원계측기 |
| 기술개요 |
본 발명은 하프 미러(half mirror)를 이용한 타원계측기(Ellipsometer using Half Mirror)에 관한 것으로, 보다 상세하게는 종래의 수직 입사형 초점 타원계측기에서 처럼 빛의 일부는 투과시키고 일부는 반사시키는 사각 프리즘형 또는 유리평판형 등의 광분할기를 사용하는 대신에 하프미러로 대물렌즈의 반쪽으로 빛을 전부 반사시키고 대물렌즈 초점의 반쪽으로부터 반사된 빛이 광분할기를 통과하지 않고 바로 광검출기로 검출되도록 함으로써 광분할기에 의한 광간섭 현상이 제거되고 광량은 최대 4배 정도 증가됨으로써 나노 박막 또는 나노 패턴 등의 시편들의 물성을 보다 정확하고 정밀하게 측정 및 분석할 수 있도록 하는 하프 미러를 이용한 타원계측기에 관한 것이다. 이를 위하여 본 발명의 하프 미러를 이용한 타원계측기는 평행광을 방출하는 광원장치(210); 상기 광원장치(210)로부터 방출된 평행광을 선편광 상태로 만드는 선편광자(220); 상기 선편광자(220)를 투과한 빛을 반사하는 하프 미러(230); 상기 하프 미러(230)로부터 반사된 빛을 시편(250)에 집중 조사시키는 대물렌즈(240); 상기 시편(250)으로부터 반사된 후 상기 대물렌즈(240)를 통과한 빛에서 특정 방향의 선편광 상태의 빛만 투과하는 검광자(260); 상기 검광자(260)를 투과한 빛의 세기를 전압 또는 전류와 같은 전기적 신호로 검출하는 광검출기(270); 상기 광검출기(270)에 의해 검출된 전기적 신호를 각각의 입사각들에 대해서 180°의 다중 입사면 경로를 따라 상기 광검출기(270)의 단위소자(pixel)에 해당되는 값으로 보정하여 연산처리하는 연산처리장치(280)를 포함하여 이루어진다. 타원계측기, 하프 미러, 대물렌즈, 초점, 반쪽, 광간섭, 방지 |
| 개발상태 | 연구실환경 테스트 |
| 기술의 우수성 |
1) 나노 박막 또는 나노 패턴 등의 시편들의 물성을 보다 정확하고 정밀하게 측정 및 분석할 수 있도록 하는 하프 미러를 이용한 타원계측기에 관한 것임
2) 종래의 초점 타원계측기에 비해 하프 미러를 채택함으로써 간편한 구조를 갖게 되었으며 단일 입사면에 대한 측정을 다중 입사면과 다중 입사각에 대한 측정으로 확대함에 따라서 측정 정밀도가 향상될 것으로 기대됨 3) 시편의 물성, 즉 나노 박막의 경우에는 보다 세밀한 박막의 두께 및 굴절률 등에 대한 정보들을 정확하고 정밀하게 측정할 수 있을 것임 |
| 응용분야 |
1) 반도체 산업 optic inspection 장비
2) 타원계측기 |
| 시장규모 및 동향 |
가. 해외 1) 광 측정 및 복사 측정의 대부분의 모든 분야의 광센서 기술은 현재 미국, 독일, 영국 등 몇몇 선진국이 주도하고 있으며, 레이저 간섭계 관련 연구는 각국의 표준 기관을 중심으로 활발히 진행되고 있음 2) 미국 로렌스 리버모어 국가연구소에서는 극자외선 노광기의 광학부품 성능 평가를 위해 기존 피조우 간섭계의 한계를 뛰어넘는 새로운 간섭계 개발에 박차를 가하고 있음 3) 타원계측기 연구는 초기에 미국과 프랑스, 독일이 중심으로 진행되어 왔으며, 최근에는 미국이 활발히 진행 중이며, 단일 원자층 두께 이하의 측정감도, 비파괴성, 비접촉성, 실시간 측정가능과 같은 장점들로 인하여 나노기술 분야에서 측정 장치로 널리 사용 중임 나. 국내 1) 국내 광센서 시장은 조명시장과 연동되어 있으며, 최근 고효율 LED 조명기술의 개발 및 상용화가 국가적 아젠다 사업으로 부각되면서 관련 시장의 규모도 급속하게 증가함 2) 국내 반도체, 휴대폰, 디스플레이 생산라인에 부품의 형상을 정밀하게 측정하기 위한 표면 형상 측정기가 설치됨으로서 시장이 급속히 증가함 3) 결함검사장비는 반도체 계측장비 중에서 시장규모가 가장 클 뿐만 아니라, 기술의 파급효과가 커서, 연관 산업을 크게 활성화 할 수 있으며, 이 기술을 개발함으로써 년 4천억원의 수입대체 효과 및 연 2조원 규모의 세계시장에 도전할 수 있는 기회가 열림 |
| 희망거래유형 | |
| 사업화적용실적 | |
| 도입시고려사항 |
| 과제고유번호 | 1345162557 |
|---|---|
| 세부과제번호 | 14-2008-05-002-00 |
| 연구과제명 | 나노패턴 손상 및 복합물성 측정기술개발 |
| 성과구분 | 등록 |
| 부처명 | 교육과학기술부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
| 연구주관기관명 | 한국표준과학연구원 |
| 성과제출연도 | 2011 |
| 연구기간 | 200804~201203 |
| 기여율 | 1 |
| 연구개발단계명 | 응용연구 |
| 6T분류명 | NT(나노기술) |
| 과제고유번호 | 1345098355 |
|---|---|
| 세부과제번호 | 14-2008-05-002-00 |
| 연구과제명 | 나노패턴손상및복합물성측정기술개발 |
| 성과구분 | 출원 |
| 부처명 | 교육과학기술부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
| 연구주관기관명 | 한국표준과학연구원 |
| 성과제출연도 | 2009 |
| 연구기간 | 200804~201203 |
| 기여율 | 0.5 |
| 연구개발단계명 | 응용연구 |
| 6T분류명 | NT(나노기술) |
| 과제고유번호 | 1415097243 |
|---|---|
| 세부과제번호 | 10027880 |
| 연구과제명 | SurfacePlasmonResonanceellipsometry융합고감도바이오표면분석장비기술개발 |
| 성과구분 | 출원 |
| 부처명 | 지식경제부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국산업기술평가관리원 |
| 연구주관기관명 | 한국표준과학연구원 |
| 성과제출연도 | 2009 |
| 연구기간 | 200604~201303 |
| 기여율 | 0.5 |
| 연구개발단계명 | 개발연구 |
| 6T분류명 | BT(생명공학기술) |
특허성과
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