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무기 기판에 유기물, 무기물, 생화학물질, 또는 이들의 복합물을 함유하는 분석대상물질을 포함하는 분석액을 도포한 후 건조하고, 상기 분석대상물질이 도포 및 건조된 무기 기판에 레이저 광을 조사하여 상기 무기 기판의 레이저 광 흡수에 의해 상기 분석대상물질을 탈착 이온화시켜, 상기 탈착 이온화된 분석대상물질의 질량 검출을 수행하는 것을 특징으로 하는 무 매트릭스 레이저 광탈착 이온화 질량분석방법
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제 1항에 있어서,상기 기판의 흡광계수 (absorption coefficient, a)는 1x103/cm 이상인 것을 특징으로 하는 무 매트릭스 레이저 광탈착 이온화 질량분석방법
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제 2항에 있어서,상기 기판의 열전도도(Thermal conductivity, K)는 1000 Wm-1K-1 이하인 것을 특징으로 하는 무 매트릭스 레이저 광탈착 이온화 질량분석방법
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제 3항에 있어서,상기 기판의 비열(Heat Capacity, Cp)은 0
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제 1항 내지 제4항에서 선택된 어느 한 항에 있어서,상기 레이저 광은 펄스(pulse) 광이며, 레이저 광의 펄스 폭은 100μs 내지 1 fs인 것을 특징으로 하는 무 매트릭스 레이저 광탈착 이온화 질량분석방법
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제 1항 내지 제4항에서 선택된 어느 한 항에 있어서,상기 레이저 광은 자외선 내지 적외선인 것을 특징으로 하는 무 매트릭스 레이저 광탈착 이온화 질량분석방법
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제 1항 내지 제4항에서 선택된 어느 한 항에 있어서,상기 기판의 표면에는 인위적인 나노구조가 형성되지 않은 것을 특징으로 하는 무 매트릭스 레이저 광탈착 이온화 질량분석방법
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제 1항 내지 제4항에서 선택된 어느 한 항에 있어서,상기 기판은 비정질인 것을 특징으로 하는 무 매트릭스 레이저 광탈착 이온화 질량분석방법
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제 1항 내지 제4항에서 선택된 어느 한 항에 있어서,상기 기판의 표면에는 상기 기판과 상기 분석대상물질과의 결합력보다 낮은 상기 분석대상물질과의 결합력을 갖는 코팅층이 형성된 것을 특징으로 하는 무 매트릭스 레이저 광탈착 이온화 질량분석방법
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제 9항에 있어서,상기 코팅층은 자기조립 단분자막, 실리카(silica), -CH3를 포함하는 탄화수소 사슬, 폴리에틸렌 글리콜(-PEG), -OCH3 , -NH2, -COOH, -CF3, -F 및 -Cl에서 하나 이상 선택된 작용기를 표면 작용기로 갖는 코팅층인 것을 특징으로 하는 무 매트릭스 레이저 광탈착 이온화 질량분석방법
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제 1항 내지 제 4항에서 선택된 어느 한 항에 있어서,상기 질량분석방법은 1600 Da 이하의 분석대상물질의 질량 검출이 수행되는 것을 특징으로 하는 무 매트릭스 레이저 광탈착 이온화 질량분석방법
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제 1항 내지 제4항에서 선택된 어느 한 항에 있어서,상기 질량분석방법은 10fmol 이상의 분석대상물질의 질량 검출이 수행되는 것을 특징으로 하는 무 매트릭스 레이저 광탈착 이온화 질량분석방법
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