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비균일 직경을 가지는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기

  • 기술번호 : KST2014066260
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 공정 챔버와 진공 펌프 사이에 위치하며 저압 플라즈마를 생성하여 공정 챔버에서 배출되는 오염 물질을 제거하는 플라즈마 반응기를 제공한다. 플라즈마 반응기는 내부에 플라즈마 생성 공간을 형성하는 적어도 하나의 유전체와, 유전체의 적어도 일단에 연결되는 접지 전극과, 유전체의 외주면에 고정되고 교류 전원부와 연결되어 교류 구동 전압을 인가받는 적어도 하나의 구동 전극을 포함한다. 접지 전극은 플라즈마 반응기의 길이 방향을 따라 비균일 직경을 가진다.
Int. CL B01J 19/08 (2006.01) B01D 53/32 (2006.01)
CPC B01D 53/32(2013.01) B01D 53/32(2013.01) B01D 53/32(2013.01) B01D 53/32(2013.01) B01D 53/32(2013.01)
출원번호/일자 1020110103085 (2011.10.10)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자 10-1278682-0000 (2013.06.19)
공개번호/일자 10-2013-0038623 (2013.04.18) 문서열기
공고번호/일자 (20130626) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.10.10)
심사청구항수 19

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 허민 대한민국 대전광역시 유성구
2 송영훈 대한민국 대전광역시 유성구
3 이재옥 대한민국 대전광역시 유성구
4 김관태 대한민국 대전 서구
5 이대훈 대한민국 대전광역시 유성구
6 강우석 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 팬코리아특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, 역삼***빌딩 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2011.10.10 수리 (Accepted) 1-1-2011-0788954-63
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2012.06.07 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2012.07.06 수리 (Accepted) 9-1-2012-0054905-64
4 등록결정서
Decision to grant		 2013.03.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0184475-10
5 [일부 청구항 포기]취하(포기)서
[Abandonment of Partial Claims] Request for Withdrawal (Abandonment)		 2013.06.19 수리 (Accepted) 2-1-2013-0320699-20
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
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번호 청구항
1 1
공정 챔버와 진공 펌프 사이에 위치하며 저압 플라즈마를 생성하여 상기 공정 챔버에서 배출되는 오염 물질을 제거하는 플라즈마 반응기에 있어서,내부에 플라즈마 생성 공간을 형성하는 적어도 하나의 유전체;상기 유전체의 적어도 일단에 연결되는 접지 전극; 및상기 유전체의 외주면에 고정되고 교류 전원부와 연결되어 교류 구동 전압을 인가받는 적어도 하나의 구동 전극을 포함하며,상기 접지 전극은 상기 플라즈마 반응기의 길이 방향을 따라 비균일 직경을 가지는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
2 2
제1항에 있어서,상기 유전체는 상기 플라즈마 반응기의 중앙에 하나가 배치되고,상기 접지 전극은,상기 공정 챔버를 향한 상기 유전체의 전단에 연결되는 제1 접지 전극; 및상기 진공 펌프를 향한 상기 유전체의 후단에 연결되는 제2 접지 전극을 포함하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
3 3
제2항에 있어서,상기 제1 접지 전극은 상기 공정 챔버와 상기 유전체를 연결하는 이음관으로 구성되고,상기 제2 접지 전극은 상기 유전체와 상기 진공 펌프를 연결하는 이음관으로 구성되는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
4 4
제2항에 있어서,상기 제1 접지 전극은,상기 유전체보다 작은 직경을 가진 균일 직경부; 및오염 물질의 흐름 방향을 따라 직경이 점진적으로 확대되며 상기 유전체의 전단에 고정되는 가변 직경부를 포함하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
5 5
제2항에 있어서,상기 제2 접지 전극은,상기 유전체의 후단에 고정되며 오염 물질의 흐름 방향을 따라 직경이 점진적으로 축소되는 가변 직경부; 및상기 유전체보다 작은 직경을 가진 균일 직경부를 포함하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
6 6
제2항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,상기 구동 전극은 상기 유전체의 외주면에 하나가 고리 모양으로 배치되고,상기 구동 전극은 상기 플라즈마 반응기의 길이 방향을 따라 상기 제1 접지 전극 및 상기 제2 접지 전극과 거리를 두고 위치하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
7 7
제2항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,상기 구동 전극은 상기 유전체의 외주면에 고리 모양으로 배치되며 서로간 거리를 두고 위치하는 제1 구동 전극 및 제2 구동 전극을 포함하고,상기 제1 구동 전극과 상기 제2 구동 전극은 각각 상기 플라즈마 반응기의 길이 방향을 따라 상기 제1 접지 전극 및 상기 제2 접지 전극과 거리를 두고 위치하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
8 8
청구항 8은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
9 9
제1항에 있어서,상기 유전체는 서로간 거리를 두고 위치하는 제1 유전체 및 제2 유전체를 포함하고,상기 접지 전극은 상기 제1 유전체와 상기 제2 유전체 사이에 위치하는 비균일 직경의 제3 접지 전극을 포함하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
10 10
제9항에 있어서,상기 제1 유전체와 상기 제2 유전체는 같은 길이 및 같은 직경을 갖도록 형성되는 플라즈마 반응기
11 11
제9항에 있어서,상기 제3 접지 전극은,상기 제1 유전체의 후단에 고정되며 오염 물질의 흐름 방향을 따라 직경이 점진적으로 감소하는 제1 가변 직경부; 및오염 물질의 흐름 방향을 따라 직경이 점진적으로 확대되며 상기 제2 유전체의 전단에 고정되는 제2 가변 직경부를 포함하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
12 12
제11항에 있어서,상기 제1 가변 직경부와 상기 제2 가변 직경부는 일정한 비율로 직경이 변하거나 계단 모양의 단차를 가지도록 형성되는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
13 13
제9항에 있어서,상기 접지 전극은,상기 제1 유전체의 전단에 위치하며 상기 공정 챔버와 상기 제1 유전체를 연결하는 제4 접지 전극; 및상기 제2 유전체의 후단에 위치하며 상기 제2 유전체와 상기 진공 펌프를 연결하는 제5 접지 전극을 더 포함하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
14 14
청구항 14은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
15 15
제13항에 있어서,상기 제4 접지 전극은,상기 제1 유전체보다 작은 직경을 가진 균일 직경부; 및오염 물질의 흐름 방향을 따라 직경이 점진적으로 확대되며 상기 제1 유전체의 전단에 고정되는 가변 직경부를 포함하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
16 16
제13항에 있어서,상기 제5 접지 전극은,상기 제2 유전체의 후단에 고정되며 오염 물질의 흐름 방향을 따라 직경이 점진적으로 축소되는 가변 직경부; 및상기 제2 유전체보다 작은 직경을 가진 균일 직경부를 포함하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
17 17
제9항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서,상기 구동 전극은,상기 제1 유전체의 외주면에 고리 모양으로 배치되는 제3 구동 전극; 및상기 제2 유전체의 외주면에 고리 모양으로 배치되는 제4 구동 전극을 포함하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
18 18
청구항 18은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
19 19
청구항 19은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
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1 CN103028357 CN 중국 FAMILY
2 EP02581925 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
3 EP02581925 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
4 EP02581925 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
5 JP05582657 JP 일본 FAMILY
6 JP25084561 JP 일본 FAMILY
7 KR101299709 KR 대한민국 FAMILY
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1 CN103028357 CN 중국 DOCDBFAMILY
2 CN103028357 CN 중국 DOCDBFAMILY
3 JP2013084561 JP 일본 DOCDBFAMILY
4 JP5582657 JP 일본 DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 기계연구원 주요사업-기관고유 반도체/디스플레이 분야 진공펌프 수명 연장을 위한 저압 플라즈마 장비 개발