맞춤기술찾기

이전대상기술

자유지지형 나노박막 제조 방법 및 제조 장치

  • 기술번호 : KST2014066291
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 자유지지형 나노박막 제조 방법 및 제조 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 화학기상증착(CVD)으로 합성된 그래핀층을 폴리머층에 전사하고, 이를 다수개의 관통공이 형성된 기판에 밀착시켜 기판 상면에 그래핀층이 형성되고 그 상면에 폴리머층이 형성되도록 한 후, 기판을 뒤집어 식각용기에 담가 폴리머층이 용매에 잠기도록 하여 폴리머층을 제거하되 기판이 용매에 잠기지 않은 상태에서 폴리머층을 제거한 후 건조시킴으로써, 기판의 관통공 부분에 형성된 자유지지 그래핀의 손상을 방지할 수 있어 대면적의 자유지지 그래핀을 제조할 수 있는 자유지지형 나노박막 제조 방법 및 제조 장치에 관한 것이다.
Int. CL B82B 3/00 (2006.01) C01B 31/04 (2006.01)
CPC B82B 3/0038(2013.01) B82B 3/0038(2013.01) B82B 3/0038(2013.01) B82B 3/0038(2013.01)
출원번호/일자 1020120104253 (2012.09.19)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자 10-1300014-0000 (2013.08.20)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20130826) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.09.19)
심사청구항수 6

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 황보윤 대한민국 대전광역시 유성구
2 이충광 대한민국 전라북도 완주군
3 김상민 대한민국 대구광역시 수성구
4 김재현 대한민국 대전광역시 유성구
5 이학주 대한민국 대전광역시 서구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 김종관 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)
2 박창희 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)
3 권오식 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.09.19 수리 (Accepted) 1-1-2012-0761298-88
2 [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2012.10.31 수리 (Accepted) 1-1-2012-0894132-04
3 우선심사신청관련 서류제출서
Submission of Document Related to Request for Accelerated Examination
2012.11.29 수리 (Accepted) 1-1-2012-0992538-03
4 우선심사신청관련 서류제출서
Submission of Document Related to Request for Accelerated Examination
2012.12.05 수리 (Accepted) 1-1-2012-1009770-12
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.02.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0091031-15
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.04.01 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0280620-28
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.04.01 수리 (Accepted) 1-1-2013-0280648-06
8 등록결정서
Decision to grant
2013.05.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0377949-21
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
폴리머층(300)의 일면에 나노박막이 형성된 적층체를 상하면을 관통하는 관통공(110)이 형성된 기판(100) 상면에 나노박막이 밀착되도록 전사하여, 기판(100) 상면에 나노박막이 형성되고 그 상면에 폴리머층(300)이 형성되도록 하는 단계(S10);상기 기판(100)을 뒤집어 폴리머층(300)이 하측에 위치하도록 한 후 용매(600)에 상기 폴리머층(300)을 접촉시켜 폴리머층(300)을 제거하되, 상기 기판(100)의 관통공(110)에 용매(600)가 유입되지 않도록 하여 폴리머층(300)을 제거하는 단계(S20); 및상기 나노박막이 전사된 기판(100)을 건조시키는 단계(S30); 를 포함하는 자유지지형 나노박막 제조 방법
2 2
제1항에 있어서,상기 나노박막은 그래핀층(200)인 것을 특징으로 하는 자유지지형 나노박막 제조 방법
3 3
제2항에 있어서,상기 그래핀층(200)은 화학기상증착(CVD)으로 합성되는 것을 특징으로 하는 자유지지형 나노박막 제조 방법
4 4
제1항에 있어서,상기 S20단계는,상기 기판(100)을 뒤집어 폴리머층(300)이 하측에 위치하도록 하는 단계(S21);상기 기판(100)을 식각 용기(400) 내부 바닥에서 일정거리 이격되도록 배치하는 단계(S22); 및상기 식각 용기(400) 일측으로 용매(600)를 주입하고 타측으로 용매(600)를 배출시켜 폴리머층(300)을 용매(600)에 접촉시키되, 상기 기판(100)의 관통공(110)에 용매(600)가 유입되지 않도록 하여 폴리머층(300)을 제거하는 단계(S23); 를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 자유지지형 나노박막 제조 방법
5 5
제4항에 있어서,상기 기판(100)은 중력 수평면에 대해 일정각도 경사지게 배치되고, 상기 용매(600)는 상기 기판의 경사진 상측으로 주입되어 하측으로 배출되는 것을 특징으로 하는 자유지지형 나노박막 제조 방법
6 6
내부가 중공되게 형성되어 기판(100) 및 용매(600)가 수용되는 식각 용기(400);상기 식각 용기(400)의 일측에 형성되어 용매(600)가 주입되는 유입구(410) 및 식각 용기의 타측에 형성되어 용매(600)가 배출되는 배출구(420);상기 기판(100)을 식각 용기(400)의 바닥면으로부터 일정높이 이격되도록 지지하는 지지대(500); 및상기 유입구(410)에 연결되어 용매(600)의 주입량을 조절할 수 있는 용매 주입장치; 를 포함하여 이루어지며,상기 유입구(410) 및 배출구(420)는 상기 식각 용기(400)의 측면 하측에 각각 형성되고,상기 지지대(500)는 상기 기판(100)이 중력 수평면에 대해 경사지게 지지되도록 형성되되, 상기 기판(100)의 유입구(410)측이 상측으로 경사지게 형성되는 것을 특징으로 하는 자유지지형 나노박막 제조 장치
7 7
삭제
8 8
삭제
9 9
삭제
10 10
삭제
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 한국기계연구원 지경부-국가연구개발사업(II) 안전성 향상을 위한 나노 제품 설계 기술 (3/3)
2 지식경제부 한국기계연구원 지경부-국가연구개발사업(II) 유연 나노박막용 대면적 전사 및 연속 생산시스템 기술 개발 (2/3)