요약 | 본 발명은 자유지지형 나노박막 제조 방법 및 제조 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 화학기상증착(CVD)으로 합성된 그래핀층을 폴리머층에 전사하고, 이를 다수개의 관통공이 형성된 기판에 밀착시켜 기판 상면에 그래핀층이 형성되고 그 상면에 폴리머층이 형성되도록 한 후, 기판을 뒤집어 식각용기에 담가 폴리머층이 용매에 잠기도록 하여 폴리머층을 제거하되 기판이 용매에 잠기지 않은 상태에서 폴리머층을 제거한 후 건조시킴으로써, 기판의 관통공 부분에 형성된 자유지지 그래핀의 손상을 방지할 수 있어 대면적의 자유지지 그래핀을 제조할 수 있는 자유지지형 나노박막 제조 방법 및 제조 장치에 관한 것이다. |
---|---|
Int. CL | B82B 3/00 (2006.01) C01B 31/04 (2006.01) |
CPC | B82B 3/0038(2013.01) B82B 3/0038(2013.01) B82B 3/0038(2013.01) B82B 3/0038(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020120104253 (2012.09.19) |
출원인 | 한국기계연구원 |
등록번호/일자 | 10-1300014-0000 (2013.08.20) |
공개번호/일자 | |
공고번호/일자 | (20130826) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 소멸 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2012.09.19) |
심사청구항수 | 6 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국기계연구원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 황보윤 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
2 | 이충광 | 대한민국 | 전라북도 완주군 |
3 | 김상민 | 대한민국 | 대구광역시 수성구 |
4 | 김재현 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
5 | 이학주 | 대한민국 | 대전광역시 서구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 김종관 | 대한민국 | 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스) |
2 | 박창희 | 대한민국 | 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스) |
3 | 권오식 | 대한민국 | 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스) |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국기계연구원 | 대전광역시 유성구 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2012.09.19 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0761298-88 |
2 | [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서 [Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination) |
2012.10.31 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0894132-04 |
3 | 우선심사신청관련 서류제출서 Submission of Document Related to Request for Accelerated Examination |
2012.11.29 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0992538-03 |
4 | 우선심사신청관련 서류제출서 Submission of Document Related to Request for Accelerated Examination |
2012.12.05 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-1009770-12 |
5 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2013.02.07 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2013-0091031-15 |
6 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2013.04.01 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2013-0280620-28 |
7 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2013.04.01 | 수리 (Accepted) | 1-1-2013-0280648-06 |
8 | 등록결정서 Decision to grant |
2013.05.31 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2013-0377949-21 |
9 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2017.11.28 | 수리 (Accepted) | 4-1-2017-5193093-72 |
번호 | 청구항 |
---|---|
1 |
1 폴리머층(300)의 일면에 나노박막이 형성된 적층체를 상하면을 관통하는 관통공(110)이 형성된 기판(100) 상면에 나노박막이 밀착되도록 전사하여, 기판(100) 상면에 나노박막이 형성되고 그 상면에 폴리머층(300)이 형성되도록 하는 단계(S10);상기 기판(100)을 뒤집어 폴리머층(300)이 하측에 위치하도록 한 후 용매(600)에 상기 폴리머층(300)을 접촉시켜 폴리머층(300)을 제거하되, 상기 기판(100)의 관통공(110)에 용매(600)가 유입되지 않도록 하여 폴리머층(300)을 제거하는 단계(S20); 및상기 나노박막이 전사된 기판(100)을 건조시키는 단계(S30); 를 포함하는 자유지지형 나노박막 제조 방법 |
2 |
2 제1항에 있어서,상기 나노박막은 그래핀층(200)인 것을 특징으로 하는 자유지지형 나노박막 제조 방법 |
3 |
3 제2항에 있어서,상기 그래핀층(200)은 화학기상증착(CVD)으로 합성되는 것을 특징으로 하는 자유지지형 나노박막 제조 방법 |
4 |
4 제1항에 있어서,상기 S20단계는,상기 기판(100)을 뒤집어 폴리머층(300)이 하측에 위치하도록 하는 단계(S21);상기 기판(100)을 식각 용기(400) 내부 바닥에서 일정거리 이격되도록 배치하는 단계(S22); 및상기 식각 용기(400) 일측으로 용매(600)를 주입하고 타측으로 용매(600)를 배출시켜 폴리머층(300)을 용매(600)에 접촉시키되, 상기 기판(100)의 관통공(110)에 용매(600)가 유입되지 않도록 하여 폴리머층(300)을 제거하는 단계(S23); 를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 자유지지형 나노박막 제조 방법 |
5 |
5 제4항에 있어서,상기 기판(100)은 중력 수평면에 대해 일정각도 경사지게 배치되고, 상기 용매(600)는 상기 기판의 경사진 상측으로 주입되어 하측으로 배출되는 것을 특징으로 하는 자유지지형 나노박막 제조 방법 |
6 |
6 내부가 중공되게 형성되어 기판(100) 및 용매(600)가 수용되는 식각 용기(400);상기 식각 용기(400)의 일측에 형성되어 용매(600)가 주입되는 유입구(410) 및 식각 용기의 타측에 형성되어 용매(600)가 배출되는 배출구(420);상기 기판(100)을 식각 용기(400)의 바닥면으로부터 일정높이 이격되도록 지지하는 지지대(500); 및상기 유입구(410)에 연결되어 용매(600)의 주입량을 조절할 수 있는 용매 주입장치; 를 포함하여 이루어지며,상기 유입구(410) 및 배출구(420)는 상기 식각 용기(400)의 측면 하측에 각각 형성되고,상기 지지대(500)는 상기 기판(100)이 중력 수평면에 대해 경사지게 지지되도록 형성되되, 상기 기판(100)의 유입구(410)측이 상측으로 경사지게 형성되는 것을 특징으로 하는 자유지지형 나노박막 제조 장치 |
7 |
7 삭제 |
8 |
8 삭제 |
9 |
9 삭제 |
10 |
10 삭제 |
지정국 정보가 없습니다 |
---|
패밀리정보가 없습니다 |
---|
순번 | 연구부처 | 주관기관 | 연구사업 | 연구과제 |
---|---|---|---|---|
1 | 지식경제부 | 한국기계연구원 | 지경부-국가연구개발사업(II) | 안전성 향상을 위한 나노 제품 설계 기술 (3/3) |
2 | 지식경제부 | 한국기계연구원 | 지경부-국가연구개발사업(II) | 유연 나노박막용 대면적 전사 및 연속 생산시스템 기술 개발 (2/3) |
공개전문 정보가 없습니다 |
---|
특허 등록번호 | 10-1300014-0000 |
---|
표시번호 | 사항 |
---|---|
1 |
출원 연월일 : 20120919 출원 번호 : 1020120104253 공고 연월일 : 20130826 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20130531 청구범위의 항수 : 6 유별 : B82B 3/00 발명의 명칭 : 자유지지형 나노박막 제조 방법 및 제조 장치 존속기간(예정)만료일 : |
순위번호 | 사항 |
---|---|
1 |
(권리자) 한국기계연구원 대전광역시 유성구... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 139,500 원 | 2013년 08월 20일 | 납입 |
제 4 년분 | 금 액 | 172,000 원 | 2016년 06월 08일 | 납입 |
제 5 년분 | 금 액 | 120,400 원 | 2017년 06월 21일 | 납입 |
제 6 년분 | 금 액 | 86,000 원 | 2018년 06월 08일 | 납입 |
제 7 년분 | 금 액 | 164,000 원 | 2019년 06월 03일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 | 2012.09.19 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0761298-88 |
2 | [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서 | 2012.10.31 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0894132-04 |
3 | 우선심사신청관련 서류제출서 | 2012.11.29 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0992538-03 |
4 | 우선심사신청관련 서류제출서 | 2012.12.05 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-1009770-12 |
5 | 의견제출통지서 | 2013.02.07 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2013-0091031-15 |
6 | [명세서등 보정]보정서 | 2013.04.01 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2013-0280620-28 |
7 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2013.04.01 | 수리 (Accepted) | 1-1-2013-0280648-06 |
8 | 등록결정서 | 2013.05.31 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2013-0377949-21 |
9 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2017.11.28 | 수리 (Accepted) | 4-1-2017-5193093-72 |
기술번호 | KST2014066291 |
---|---|
자료제공기관 | 미래기술마당 |
기술공급기관 | 한국기계연구원 |
기술명 | 자유지지형 나노박막 제조 방법 및 제조 장치 |
기술개요 |
본 발명은 자유지지형 나노박막 제조 방법 및 제조 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 화학기상증착(CVD)으로 합성된 그래핀층을 폴리머층에 전사하고, 이를 다수개의 관통공이 형성된 기판에 밀착시켜 기판 상면에 그래핀층이 형성되고 그 상면에 폴리머층이 형성되도록 한 후, 기판을 뒤집어 식각용기에 담가 폴리머층이 용매에 잠기도록 하여 폴리머층을 제거하되 기판이 용매에 잠기지 않은 상태에서 폴리머층을 제거한 후 건조시킴으로써, 기판의 관통공 부분에 형성된 자유지지 그래핀의 손상을 방지할 수 있어 대면적의 자유지지 그래핀을 제조할 수 있는 자유지지형 나노박막 제조 방법 및 제조 장치에 관한 것이다. |
개발상태 | 연구실환경 테스트 |
기술의 우수성 | 1) 50nm 급 박막의 기계적 물성 측정 실험결과 (기술소개서 참조) |
응용분야 | 1) 나노 부품 및 소자 제조 |
시장규모 및 동향 | |
희망거래유형 | |
사업화적용실적 | |
도입시고려사항 |
과제고유번호 | 1415122759 |
---|---|
세부과제번호 | 10033309 |
연구과제명 | 유연 나노박막용 대면적 전사 및 연속 생산시스템 기술 개발 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 지식경제부 |
연구관리전문기관명 | 한국산업기술평가관리원 |
연구주관기관명 | 한국기계연구원 |
성과제출연도 | 2012 |
연구기간 | 200906~201405 |
기여율 | 0.5 |
연구개발단계명 | 응용연구 |
6T분류명 | NT(나노기술) |
과제고유번호 | 1415125182 |
---|---|
세부과제번호 | 10034751 |
연구과제명 | 안전성 향상을 위한 나노 제품 설계 기술 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 지식경제부 |
연구관리전문기관명 | 한국산업기술평가관리원 |
연구주관기관명 | 한국기계연구원 |
성과제출연도 | 2012 |
연구기간 | 200911~201410 |
기여율 | 0.5 |
연구개발단계명 | 기초연구 |
6T분류명 | NT(나노기술) |
과제고유번호 | 1415118038 |
---|---|
세부과제번호 | 10034751 |
연구과제명 | 안전성 향상을 위한 나노 제품 설계 기술 |
성과구분 | 등록 |
부처명 | 지식경제부 |
연구관리전문기관명 | 한국산업기술평가관리원 |
연구주관기관명 | 한국기계연구원 |
성과제출연도 | 2011 |
연구기간 | 200911~201410 |
기여율 | 0.5 |
연구개발단계명 | 기초연구 |
6T분류명 | NT(나노기술) |
과제고유번호 | 1415122759 |
---|---|
세부과제번호 | 10033309 |
연구과제명 | 유연 나노박막용 대면적 전사 및 연속 생산시스템 기술 개발 |
성과구분 | 등록 |
부처명 | 지식경제부 |
연구관리전문기관명 | 한국산업기술평가관리원 |
연구주관기관명 | 한국기계연구원 |
성과제출연도 | 2012 |
연구기간 | 200906~201405 |
기여율 | 0.5 |
연구개발단계명 | 응용연구 |
6T분류명 | NT(나노기술) |
[1020130111198] | 자기력을 이용한 나노박막 전사 장비 | 새창보기 |
---|---|---|
[1020130076102] | 전기습윤 현상을 이용한 자유지지형 나노박막의 물성 시험 장치 | 새창보기 |
[1020130059053] | 롤투롤 전사 장비의 동기화 장치 및 방법 | 새창보기 |
[1020130054682] | 자유지지형 나노박막의 물성 시험 장치 및 방법 | 새창보기 |
[1020130023041] | 플렉서블 비휘발성 메모리 소자용 강유전체 캐패시터, 플렉서블 비휘발성 강유전체 메모리 소자 및 그의 제조 방법 | 새창보기 |
[1020130023040] | 플렉서블 비휘발성 메모리 소자용 강유전체 캐패시터, 플렉서블 비휘발성 강유전체 메모리 소자 및 그의 제조 방법 | 새창보기 |
[1020130023038] | 플렉서블 비휘발성 메모리 소자용 강유전체 캐패시터, 플렉서블 비휘발성 강유전체 메모리 소자 및 그의 제조 방법 | 새창보기 |
[1020120104253] | 자유지지형 나노박막 제조 방법 및 제조 장치 | 새창보기 |
[1020120101058] | 인덕션 히팅을 이용한 롤투롤 방식의 그래핀 연속 합성 장치 | 새창보기 |
[1020120062077] | 인덕션 히팅을 이용한 웨이퍼 단위의 그래핀 연속 합성 장치 및 방법 | 새창보기 |
[1020120060650] | 판상형 구조의 나노박막과 기판 사이의 신뢰성 향상 장치 | 새창보기 |
[1020120046714] | CVD 그래핀의 합성, 제조, 응용기술 | 새창보기 |
[1020120033163] | 프리스탠딩 나노 박막 제조방법 | 새창보기 |
[1020120022102] | 롤투롤 기반의 그래핀 연속 합성 장치 | 새창보기 |
[1020120021866] | 대면적 연속 면저항 측정장치 | 새창보기 |
[1020120013896] | 전기장 처치방법 및 처치장치 | 새창보기 |
[KST2015129204][한국기계연구원] | 양자점 제조 장치 및 그를 이용한 양자점 제조 방법 | 새창보기 |
---|---|---|
[KST2015128383][한국기계연구원] | 탄소나노튜브 투명 전도체 | 새창보기 |
[KST2015129335][한국기계연구원] | 담체에 부착된 촉매의 제조방법 및 그에 의해 제조된 촉매 | 새창보기 |
[KST2015129772][한국기계연구원] | 나노채널 형성방법 | 새창보기 |
[KST2015130506][한국기계연구원] | 주조법을 이용한 금속-탄소 복합재 제조 방법 | 새창보기 |
[KST2015129909][한국기계연구원] | 태양 전지 전자 수송층의 배리어층으로 사용되는 풀러렌 입자들이 포함된 코어-쉘 구조 나노복합체, 이의 제조방법, 및 이를 포함하는 태양 전지 | 새창보기 |
[KST2015130161][한국기계연구원] | 나노와이어가 구비된 기판 및 이의 제조방법 | 새창보기 |
[KST2015128411][한국기계연구원] | 탄소나노튜브의 단일막 코팅 구조물 및 그 제조 방법 | 새창보기 |
[KST2015128471][한국기계연구원] | 탄소나노튜브 투명 필름 및 이의 제조 방법 | 새창보기 |
[KST2015128193][한국기계연구원] | 막대 형상의 나노 구조물이 부착된 다중신호 검출용프로브의 제조방법 | 새창보기 |
[KST2015129548][한국기계연구원] | 초발수 및 초발유성 표면 구현을 위한 나노 구조물 제조 방법 | 새창보기 |
[KST2015128533][한국기계연구원] | 소결체 | 새창보기 |
[KST2015128529][한국기계연구원] | 복수의 가열 영역을 가지는 양자점 제조 장치 및 양자점 제조 방법 | 새창보기 |
[KST2015128530][한국기계연구원] | 에너지 변환용 복합물질과 그 제조 방법 및 그를 이용한 에너지 변환소자 | 새창보기 |
[KST2015130868][한국기계연구원] | 용융 금속을 이용한 금속-탄소 복합재 제조 방법 | 새창보기 |
[KST2015128904][한국기계연구원] | 나노/마이크로 하이브리드 구조물 제조방법 | 새창보기 |
[KST2015128605][한국기계연구원] | 나노입자 박막 제조방법 및 이를 이용하는 나노 임프린트용 스탬프 제작방법 | 새창보기 |
[KST2015129953][한국기계연구원] | 할로겐염에 의해 안정화된 양자점 및 그 제조방법 | 새창보기 |
[KST2016005685][한국기계연구원] | 이종 나노 입자 성장장치 및 이종 나노 입자 성장방법(APPARATUS FOR GROWING HETEROGENEOUS NANO PARTICLE AND METHOD FOR GROWING HETEROGENEOUS NANO PARTICLE) | 새창보기 |
[KST2015130099][한국기계연구원] | 콜로이드 자기조립에 의한 다공성 마스크의 제조방법 및그 용도 | 새창보기 |
[KST2015130537][한국기계연구원] | 나노튜브 분리 장치 | 새창보기 |
[KST2015128292][한국기계연구원] | 수용성 촉매를 이용한 단일층 탄소나노튜브의 선택적성장방법 및 이에 의해 형성된 단일층 탄소나노튜브를포함하는 전자소자 또는 광전소자 | 새창보기 |
[KST2016009327][한국기계연구원] | 삼중 코어쉘 나노입자의 제조 및 이를 포함하는 태양전지(Preparation of Triple layered core shell nano particles and a sollar cell comprising the same) | 새창보기 |
[KST2015129137][한국기계연구원] | 나노 다공질 금속체의 제조방법 | 새창보기 |
[KST2015128275][한국기계연구원] | 탄소나노튜브 필름 및 그 제조 방법 | 새창보기 |
[KST2015129449][한국기계연구원] | 금속박막의 선택적 제거에 의한 패턴형성 방법 | 새창보기 |
[KST2016014629][한국기계연구원] | 규칙적으로 배열되는 나노채널이 형성된 구조물 제조방법(METHOD FOR MANUFACTURING STRUCTURE FORMED REGULARLY ARRANGED NANO CHANNEL) | 새창보기 |
[KST2015129473][한국기계연구원] | 금속산화막이 형성된 탄소 입자를 이용한 금속-탄소 복합재 제조 방법 | 새창보기 |
[KST2015129694][한국기계연구원] | 양자점 제조장치 | 새창보기 |
[KST2014066244][한국기계연구원] | 3차원 그래핀 패턴 형성방법 | 새창보기 |
심판사항 정보가 없습니다 |
---|