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저밀도 나노어레이용 나노템플레이트 제조기술

기술번호 : KST2014066465
담당센터 : 부산기술혁신센터
전화번호 : 051-606-6561

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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약	본 발명은 연질 양극산화와 고전계 양극산화 기술을 이용하여 입자상 물질에 대한 분리투과도가 우수한 비대칭형 균일기공 알루미나 분리막 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 입자상 물질이 분리 투과되는 알루미나 분리막에 있어서, 10~100 nm 단면 크기의 유로가 밀집분포하여, 분리하고자 하는 입자 크기보다 작은 입자와 유체만 선택적으로 지나가게 하는 제1층과; 상기 제1층에 연속하여 형성되어, 상기 제1층의 유로보다 단면 크기가 상대적으로 큰 유로가 형성되어 상기 제 1층을 통과한 입자와 유체가 고속으로 통과할 수 있도록 하는 제2층;을 포함하는 것을 특징으로 하는 비대칭 균일기공 알루미나 분리막 및 이의 제조방법을 기술적 요지로 한다. 이에 의해 비대칭 균일기공 알루미나 분리막을 제공하여, 선택도와 투과도 및 내구성이 우수하므로 환경유해물질이나 나노물질 및 바이오물질과 같은 입자상 물질에 대한 분리투과 특성이 매우 향상되는 이점이 있다.
Int. CL	B01D 71/02 (2006.01) B01J 21/12 (2006.01) B01D 67/00 (2006.01)
CPC	B01D 71/022(2013.01) B01D 71/022(2013.01) B01D 71/022(2013.01) B01D 71/022(2013.01)
출원번호/일자	1020110005331 (2011.01.19)
출원인	한국전기연구원
등록번호/일자	10-1316082-0000 (2013.10.01)
공개번호/일자	10-2012-0084042 (2012.07.27) 문서열기
공고번호/일자	(20131011) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태	소멸
심사진행상태	수리
심판사항
구분	신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자	Y (2011.01.19)
심사청구항수	12

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호	이름	국적	주소
1	한국전기연구원	대한민국	경상남도 창원시 성산구

발명자

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번호	이름	국적	주소
1	하윤철	대한민국	경상남도 김해시 장유면
2	정대영	대한민국	경상남도 창원시 성산구

대리인

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번호	이름	국적	주소
1	특허법인부경	대한민국	부산광역시 연제구 법원남로번길 , *층 (거제동, 대한타워)

최종권리자

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번호	이름	국적	주소
1	한국전기연구원		경상남도 창원시 성산구

번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	[특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application	2011.01.19	수리 (Accepted)	1-1-2011-0043909-01
2	선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search	2011.08.09	수리 (Accepted)	9-1-9999-9999999-89
3	선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search	2011.09.09	수리 (Accepted)	9-1-2011-0072231-87
4	의견제출통지서 Notification of reason for refusal	2013.01.16	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2013-0030832-06
5	[지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 [Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)	2013.03.18	수리 (Accepted)	1-1-2013-0230929-14
6	[지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 [Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)	2013.04.16	수리 (Accepted)	1-1-2013-0331397-15
7	[지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 [Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)	2013.05.16	수리 (Accepted)	1-1-2013-0432110-21
8	[거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)	2013.06.17	수리 (Accepted)	1-1-2013-0534759-01
9	[명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment	2013.06.17	보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment)	1-1-2013-0534783-97
10	등록결정서 Decision to grant	2013.07.01	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2013-0455802-37
11	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2015.02.04	수리 (Accepted)	4-1-2015-0006987-25

번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호	청구항
1	1 입자상 물질이 분리 투과되는 알루미나 분리막에 있어서, 10~100 nm 범위 내의 단일 단면 크기의 유로가 밀집분포하여, 분리하고자 하는 입자 크기보다 작은 입자와 유체만 선택적으로 지나가게 하는 제1층과; 상기 제1층에 연속하여 형성되어, 상기 제1층의 유로보다 단면 크기가 상대적으로 큰 유로가 형성되어 상기 제 1층을 통과한 입자와 유체가 통과할 수 있도록 하는 제2층;을 포함하여 구성되되, 상기 제1층은 자기정렬이 일어나는 전압제어 연질 양극산화 조건에서 형성되고, 상기 제2층은 자기정렬이 일어나는 전압제어 고전계 양극산화 조건에서 형성되는 것을 특징으로 하는 비대칭 균일기공 알루미나 분리막
2	2 제 1항에 있어서, 상기 제1층의 유로는 제곱센티미터당 108~1012개의 밀도로 밀집하여 분포형성되는 것을 특징으로 하는 비대칭 균일기공 알루미나 분리막
3	3 제 1항에 있어서, 상기 제1층은 두께 0
4	4 제 1항에 있어서, 상기 제2층은 두께 20~200㎛의 후막으로 제조된 것을 특징으로 하는 비대칭 균일기공 알루미나 분리막
5	5 입자상 물질이 분리 투과되는 알루미나 분리막의 제조방법에 있어서,양극산화법을 이용하여 10~100 nm 범위 내의 단일 단면 크기의 유로를 형성시켜 분리하고자 하는 입자 크기보다 작은 입자와 유체만 선택적으로 지나가게 하는 제1층을 제조하는 단계와; 양극산화법을 이용하여 상기 제1층에 연속하여 상기 제1층의 유로보다 단면 크기가 상대적으로 큰 유로를 형성시켜 상기 제 1층을 통과한 입자와 유체가 통과할 수 있도록 하는 제2층을 제조하는 단계;를 포함하여 이루어지되, 상기 제1층은 자기정렬이 일어나는 전압제어 연질 양극산화 조건에서 형성되고, 상기 제2층은 자기정렬이 일어나는 전압제어 고전계 양극산화 조건에서 형성되는 것을 특징으로 하는 비대칭 균일기공 알루미나 분리막의 제조방법
6	6 제 5항에 있어서, 상기 제1층을 제조하는 단계는,2단계 연질 양극산화법을 이용하여 0
7	7 제 5항에 있어서, 상기 제2층을 제조하는 단계는,고전계 양극산화법을 이용하여 20~200㎛ 두께의 제2층을 제조하는 것을 특징으로 하는 비대칭 균일기공 알루미나 분리막의 제조방법
8	8 제 7항에 있어서, 상기 고전계 양극산화법은 0
9	9 입자상 물질이 분리 투과되는 알루미나 분리막의 제조방법에 있어서, 양극산화법을 이용하여 단일 단면 크기의 유로를 형성하여 입자와 유체가 통과할 수 있도록 하는 제2층을 제조하는 단계와; 양극산화법을 이용하여 상기 제2층에 연속하여 상기 제2층의 유로보다 단면 크기가 상대적으로 작은 10~100 nm 범위 내의 단일 단면 크기의 유로를 형성시켜 분리하고자 하는 입자 크기보다 작은 입자와 유체만 선택적으로 지나가게 하는 제1층을 제조하는 단계;를 포함하여 이루어지되, 상기 제1층은 자기정렬이 일어나는 전압제어 연질 양극산화 조건에서 형성되고, 상기 제2층은 자기정렬이 일어나는 전압제어 고전계 양극산화 조건에서 형성되는 것을 특징으로 하는 비대칭 균일기공 알루미나 분리막의 제조방법
10	10 제 9항에 있어서, 상기 제2층을 제조하는 단계는,2단계 고전계 양극산화법을 이용하여 20~200㎛ 두께의 제2층을 제조하는 것을 특징으로 하는 비대칭 균일기공 알루미나 분리막의 제조방법
11	11 제 9항에 있어서, 상기 제1층을 제조하는 단계는,연질 양극산화법을 이용하여 0
12	12 제 11항에 있어서, 상기 연질 양극산화법은 0

본 등록정보는 참고용으로 법적증빙자료로 사용할 수 없습니다.
데이터 이관에 따른 소요기간(1일)으로 인하여 등록원부와 일부 차이가 발생할 수 있으며, 일부 정보(부기, 상세 주소 등)를 제공하지 않고 있습니다.
법적증빙자료로 활용하시거나 더 자세한 정보를 보시려면 등록원부를 발급받아 사용하시기 바랍니다.

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특허 등록번호	10-1316082-0000

권리란

표시번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 권리란 표입니다.
표시번호	사항
1	출원 연월일 : 20110119 출원 번호 : 1020110005331 공고 연월일 : 20131011 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20130701 청구범위의 항수 : 12 유별 : B01D 71/02 발명의 명칭 : 비대칭 균일기공 알루미나 분리막 및 이의 제조방법 존속기간(예정)만료일 : 20191002

특허권자란

순위번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 특허권자란 표입니다.
순위번호	사항
1	(권리자) 한국전기연구원 경상남도 창원시 성산구...

등록료란

순위번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 등록료란 표입니다.
제 1 - 3 년분	금 액	256,500 원	2013년 10월 01일	납입
제 4 년분	금 액	212,800 원	2016년 10월 04일	납입
제 5 년분	금 액	212,800 원	2017년 09월 27일	납입
제 6 년분	금 액	152,000 원	2018년 10월 01일	납입

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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송번호의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 통합행정정보 > 등록료란 표입니다.
번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	[특허출원]특허출원서	2011.01.19	수리 (Accepted)	1-1-2011-0043909-01
2	선행기술조사의뢰서	2011.08.09	수리 (Accepted)	9-1-9999-9999999-89
3	선행기술조사보고서	2011.09.09	수리 (Accepted)	9-1-2011-0072231-87
4	의견제출통지서	2013.01.16	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2013-0030832-06
5	[지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서	2013.03.18	수리 (Accepted)	1-1-2013-0230929-14
6	[지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서	2013.04.16	수리 (Accepted)	1-1-2013-0331397-15
7	[지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서	2013.05.16	수리 (Accepted)	1-1-2013-0432110-21
8	[거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서	2013.06.17	수리 (Accepted)	1-1-2013-0534759-01
9	[명세서등 보정]보정서	2013.06.17	보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment)	1-1-2013-0534783-97
10	등록결정서	2013.07.01	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2013-0455802-37
11	출원인정보변경(경정)신고서	2015.02.04	수리 (Accepted)	4-1-2015-0006987-25


기술번호	KST2014066465
자료제공기관	미래기술마당
기술공급기관	한국전기연구원
기술명	저밀도 나노어레이용 나노템플레이트 제조기술
기술개요	본 발명은 연질 양극산화와 고전계 양극산화 기술을 이용하여 입자상 물질에 대한 분리투과도가 우수한 비대칭형 균일기공 알루미나 분리막 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 입자상 물질이 분리 투과되는 알루미나 분리막에 있어서, 10~100 nm 단면 크기의 유로가 밀집분포하여, 분리하고자 하는 입자 크기보다 작은 입자와 유체만 선택적으로 지나가게 하는 제1층과; 상기 제1층에 연속하여 형성되어, 상기 제1층의 유로보다 단면 크기가 상대적으로 큰 유로가 형성되어 상기 제 1층을 통과한 입자와 유체가 고속으로 통과할 수 있도록 하는 제2층;을 포함하는 것을 특징으로 하는 비대칭 균일기공 알루미나 분리막 및 이의 제조방법을 기술적 요지로 한다. 이에 의해 비대칭 균일기공 알루미나 분리막을 제공하여, 선택도와 투과도 및 내구성이 우수하므로 환경유해물질이나 나노물질 및 바이오물질과 같은 입자상 물질에 대한 분리투과 특성이 매우 향상되는 이점이 있다.
개발상태	유사환경 테스트
기술의 우수성	1) 전기산화 나노템플레이트는 단위면적당 기공의 밀도가 108~1012/cm2으로 매우 높아 기공자체를 활물질로 충진할 경우 고집적의 0차원 또는 1차원 나노구조를 제조할 수 있어, 차세대 전기전자소자에 대한 연구에 많이 활용되고 있음 2) 그러나, 박막적층 구조에서 진화한 3차원 구조의 전기전자소자와 같이 나노기공에 채워진 금속이 집전체의 역할을 하고 집전체의 표면에 활물질을 코팅해야 하는 경우에는 이러한 고집적도가 활물질의 양을 제한하게 되므로 나노기공간 간격이 큰 나노템플레이트의 제조기술이 요구되어 왔음 3) 본 연구팀이 개발한 저밀도 나노어레이용 나노템플레이트 제조기술은 0차원 및 1차원 나노구조를 저밀도로 구현할 수 있는 나노템플레이트를 고속으로 제조하는 기술로, 왼쪽 그림과 같이 특정 나노기공에서만 나노구조가 형성될 수 있도록 함으로써 저밀도 나노구조를 집전체 등으로 이용한 새로운 3차원 나노소자의 개발이 가능함
응용분야
시장규모 및 동향	1) 학계 및 연구계를 통틀어 이러한 방식을 이용한 나노소자의 개발 사례가 전무한 상황이지만, 본 기술에서 제공하는 나노템플레이트는 고가의 연구용 템플레이트로 생산/판매가 가능 2) 특히, 3차원 나노구조 기반의 고성능 전기전자소자의 개발이 이루어질 경우, 나노템플레이트 제조기술에 의한 시장 파급력은 매우 클 것으로 예상
희망거래유형
사업화적용실적
도입시고려사항


과제고유번호	1415114514
세부과제번호	10-12-N0101-08
연구과제명	환경.생명과학용 나노멤브레인을 위한 전기화학기술 개발
성과구분	출원
부처명	지식경제부
연구관리전문기관명	산업기술연구회
연구주관기관명	한국전기연구원
성과제출연도	2010
연구기간	201001~201212
기여율	1
연구개발단계명	기초연구
6T분류명	NT(나노기술)


과제고유번호	1415114514
세부과제번호	10-12-N0101-08
연구과제명	환경.생명과학용 나노멤브레인을 위한 전기화학기술 개발
성과구분	등록
부처명	지식경제부
연구관리전문기관명	산업기술연구회
연구주관기관명	한국전기연구원
성과제출연도	2010
연구기간	201001~201212
기여율	1
연구개발단계명	기초연구
6T분류명	NT(나노기술)

특허성과

[1020110005331]	저밀도 나노어레이용 나노템플레이트 제조기술	새창보기
[1020110000573]	리튬이차전지용 주석계 나노복합 음극활물질의 제조방법 및 이를 이용한 리튬이차전지	새창보기

중요키워드

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