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평판형태의 베이스판(110);일방향으로 긴 트랙(Track)형상의 타원형으로 형성되어 상기 베이스판(110)의 상부에 안착되며, 내측면에는 연장된 길이방향을 따라 일정간격으로 복수 개의 슬롯(121)이 형성된 도파관공명기(120);상기 도파관공명기(120)의 일측에 설치되며 전자파발진기로부터 발진된 전자파를 상기 도파관공명기(120)로 전달하는 튜너(150);복수 개의 마그네트(131,132)로 이루어지고, 각 마그네트(131,132)가 상기 도파관공명기(120)의 내측 둘레면에서 각 슬롯(121) 사이에 배치되되 상기 도파관공명기(120)의 내측 둘레면을 따라 연속적으로 배치되어 전체적으로 긴 트랙형상으로 설치되면서 발생된 전자가 플라즈마챔버(140) 내부에서 이탈되지 않도록 가두는(Confinement) 마그네트부(130); 및상기 마그네트부(130)의 내측 둘레를 따라 배치되면서 전체적으로 긴 트랙형상으로 설치되며, 상기 도파관공명기(120)의 슬롯(121)을 통해 유입된 전자파가 내부로 입사될 수 있도록 전자파입사창(141)이 형성된 플라즈마챔버(140);를 포함하되, 상기 마그네트부(130)의 각 마그네트(131,132)는,양단이 상기 슬롯(121)에 밀착되어 설치되되, 일측면 또는 양측면에는 상기 슬롯(121)으로 유입된 전자파가 각 마그네트(131,132)의 사이를 지나면서 확장되어 플라즈마챔버(140)의 내부로 입사되도록 일정각도로 경사진 경사면(133)이 형성된 것을 특징으로 하는 슬롯여기형 경주로형태 ECR 플라즈마원
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제 1항에 있어서,상기 도파관공명기(120), 마그네트부(130) 및 플라즈마챔버(140)는, 긴 트랙 형상으로 형성되면서, 폐회로 이동경로는 전자가 직진하는 직선구간과 상기 전자가 플라즈마챔버(140)의 벽면을 따라 회전하는 회전구간으로 구분되되,상기 회전구간에 대응하는 도파관공명기(120)에는 상기 슬롯(121)이 형성되지 않으며, 상기 회전구간에 대응하는 마그네트부(130)에는 'U'자 형상의 마그네트(131)가 배치되는 것을 특징으로 하는 슬롯여기형 경주로형태 ECR 플라즈마원
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제 3항에 있어서,상기 회전구간에 대응하는 도파관공명기(120)의 길이는 n·λg/2 로 형성된 것을 특징으로 하는 슬롯여기형 경주로형태 ECR 플라즈마원
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제 1항에 있어서,상기 도파관공명기(120), 튜너(150) 및 전자파입사창(141)에는, 가열된 열을 냉각시키기 위한 냉각수단이 구비되는 것을 특징으로 하는 슬롯여기형 경주로형태 ECR 플라즈마원
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제 1항에 있어서,상기 도파관공명기(120)과 튜너(150) 사이에는,양단이 상기 도파관공명기(120)와 튜너(150)에 각각 접촉되면서 상기 도파관공명기(120)에 직접적으로 연결되는 도파관(151)이 설치되어, 상기 전자파발진기로부터 발진된 전자파가 상기 도파관(151)을 통해 도파관공명기(120)에 전달되는 것을 특징으로 하는 슬롯여기형 경주로형태 ECR 플라즈마원
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제 1항 및 제 3항 내지 제 6항 중 어느 한 항에 있어서,상기 도파관공명기(120)의 타측에 배치되며, 상기 도파관공명기(120)의 타측에 체결된 플런저(161)의 위치에 따라 상기 플라즈마챔버(140) 내의 전기장의 분포를 조절하는 전기장 제어수단(160);을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 슬롯여기형 경주로형태 ECR 플라즈마원
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