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대전류 이온 빔 입사 장치에 사용되는 이온 빔 인출 전극에 있어서, 두께 방향으로 열을 지어 뚫린 다수의 빔 인출구를 갖는 단일체 평판; 상기 평판의 양단에 형성된 냉각수 분배관; 및 상기 평판의 양단에 결합된 한 쌍의 장착부를 포함하며, 각각의 상기 장착부는 상기 냉각수 분배관에 냉각수를 공급하는 냉각 라인 연결구를 갖고, 상기 평판 내부에는 상기 냉각수 분배관 사이에 상기 평판의 길이방향을 따라 상기 빔 인출구의 열 사이로 복수의 냉각관이 형성된 것을 특징으로 하는 이온 빔 인출 전극
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제1항에 있어서, 상기 냉각수 분배관은, 상기 평판의 양단에 형성된 냉각수 분배관 하부 섹션; 상기 냉각수 분배관 하부 섹션에 얹혀진 냉각수 분배관 상부 섹션; 및 상기 상부 및 하부 섹션의 양단을 폐쇄하는 스토퍼로 구성되고,상기 상부 및 하부 섹션과 스토퍼는 전자 빔 용접부에 의해 서로 결합된 것을 특징으로 하는 이온 빔 인출 전극
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제1항에 있어서, 상기 평판은 무산소동으로 제조된 것을 특징으로 하는 이온 빔 인출 전극
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제1항에 있어서, 상기 장착부는 나사 결합과 솔더링에 의해 상기 평판에 결합된 것을 특징으로 하는 이온 빔 인출 전극
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대전류 이온 빔 입사 장치에 사용되는 이온 빔 인출 전극 제조 방법에 있어서, (가) 미리 정해진 치수의 금속판을 준비하는 단계; (나) 상기 금속판의 내부에 금속판의 길이방향을 따라 연장된 복수의 미세한 통로를 형성하는 단계; (다) 상기 금속판의 양 단부에 상기 금속판의 폭 방향으로 홈을 형성하는 단계; (라) 상기 폭 방향 홈과 대응하는 형태의 홈이 있는 한 쌍의 상부 섹션을 마련하여 상기 금속판 양 단부에 각각 결합시켜 분배관을 형성하는 단계; (마) 금속판의 하부를 상기 양 단부만 남기고 절삭하는 단계; 및 (바) 상기 금속판의 상기 양 단부 사이의 영역에 다수의 구멍을 열을 지어 두께 방향으로 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 이온 빔 인출 전극 제조 방법
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대전류 이온 빔 입사 장치에 사용되는 이온 빔 인출 전극 제조 방법에 있어서, (a) 미리 정해진 치수의 금속판을 준비하는 단계; (b) 금속판의 하부를 양쪽 가장자리만 남기고 절삭하여 양단에 숄더를 형성하는 단계; (c) 상기 금속판의 상기 숄더 사이의 영역에 다수의 구멍을 열을 지어 두께 방향으로 형성하는 단계; (d) 상기 숄더의 상부를 가공하여 상기 금속판의 폭 방향으로 홈을 형성하고 상기 숄더의 측면으로부터 상기 숄더 홈에 연결되도록 상기 숄더에 하나 이상의 구멍을 뚫는 단계; (e) 상기 금속판의 내부에 금속판의 길이방향을 따라 상기 숄더 홈 사이로 연장된 복수의 미세한 통로를 형성하는 단계; 및 (f) 상기 숄더 홈과 대응하는 형태의 홈이 있는 상부 섹션을 상기 숄더에 결합시키고 상기 숄더 홈과 상부 섹션의 양단에 스토퍼를 결합하여 분배관을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 이온 빔 인출 전극 제조 방법
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제5항 또는 제6항에 있어서, 상기 (나) 또는 (e)의 미세 통로 형성 단계는 슈퍼 드릴 작업으로 미세한 구멍을 뚫어 실시하는 것을 특징으로 하는 이온 빔 인출 전극 제조 방법
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제7항에 있어서, 상기 슈퍼 드릴 작업 이후에 와이어 작업으로 상기 미세한 구멍을 트리밍하는 것을 특징으로 하는 이온 빔 인출 전극 제조 방법
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제5항에 있어서, 상기 (라) 분배관 형성 단계는 상기 폭 방향 홈과 상부 섹션의 양단에 스토퍼를 결합하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이온 빔 인출 전극 제조 방법
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제5항 또는 제6항에 있어서, 상기 숄더의 구멍과 연결되는 냉각 라인 연결구가 형성된 한 쌍의 장착부를 상기 숄더에 결합시키는 장착부 결합 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이온 빔 인출 전극 제조 방법
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제10항에 있어서, 상기 장착부 결합 단계는 솔더링에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 이온 빔 인출 전극 제조 방법
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제11항에 있어서, 상기 솔더링은 저온 솔더링인 것을 특징으로 하는 이온 빔 인출 전극 제조 방법
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제10항에 있어서, 상기 장착부 결합 단계는 나사 결합에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 이온 빔 인출 전극 제조 방법
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제10항에 있어서, 상기 (라) 또는 (f)의 분배관 형성 단계는 전자 빔 용접에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 이온 빔 인출 전극 제조 방법
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제5항 또는 제6항에 있어서, 상기 평판은 무산소동으로 제조된 것을 특징으로 하는 이온 빔 인출 전극 제조 방법
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