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마이크로채널 공진기 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2015000104
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 이동하는 물질의 질량에 따라 공진 주파수가 변화하는 원리를 이용하여 목적물의 질량 및 특성을 측정할 수 있는 마이크로채널 공진기 제조방법은, 하부층(lower layer), 하부층의 상부에 제공되는 중간층(middle layer), 및 중간층의 상부에 제공되는 상부실리콘층(upper silicon layer)을 포함하는 적층기판을 제공하는 단계; 상부실리콘층의 내부 소정 깊이에 이동하는 물질이 공진 운동하기 위한 공동 채널(cavity channel)을 형성하는 단계; 및 공동 채널의 주변에 대응하는 상부실리콘층 및 하부층을 부분적으로 제거하는 단계;를 포함하고, 상부실리콘층 및 하부층을 부분적으로 제거함에 따라, 공동 채널을 내부에 포함하며, 적층기판에 대해 공진 운동 가능한 중공형 마이크로 채널구조체(micro channel structure)가 형성된다.
Int. CL B81B 3/00 (2006.01) G01N 5/00 (2006.01) G01G 9/00 (2006.01) B81C 1/00 (2006.01) G01N 29/00 (2006.01) G01N 15/00 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020140067724 (2014.06.03)
출원인 서강대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1568758-0000 (2015.11.06)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20151113) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.06.03)
심사청구항수 15

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 서강대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 마포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이정철 대한민국 서울특별시 강남구
2 김주현 대한민국 인천광역시 계양구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 지현조 대한민국 서울특별시 마포구 토정로 ***(신수동) *층(제니스특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 서강대학교산학협력단 서울특별시 마포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2014.06.03 수리 (Accepted) 1-1-2014-0526783-99
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2014.11.04 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2014.12.12 수리 (Accepted) 9-1-2014-0100144-18
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.09.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0618569-96
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.10.14 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0993524-46
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.10.14 수리 (Accepted) 1-1-2015-0993523-01
7 등록결정서
Decision to grant
2015.10.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0716123-13
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.01.11 수리 (Accepted) 4-1-2017-5005781-67
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.01.22 수리 (Accepted) 4-1-2019-5014626-89
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
이동하는 물질의 질량에 따라 공진 주파수가 변화하는 원리를 이용하여 목적물의 질량 및 특성을 측정할 수 있는 마이크로채널 공진기 제조방법에 있어서,하부층(lower layer), 상기 하부층의 상부에 제공되는 중간층(middle layer), 및 상기 중간층의 상부에 제공되는 상부실리콘층(upper silicon layer)을 포함하는 적층기판을 제공하는 단계;상기 상부실리콘층의 내부 소정 깊이에 이동하는 물질이 공진 운동하기 위한 공동 채널(cavity channel)을 형성하는 단계; 및상기 공동 채널의 주변에 대응하는 상기 상부실리콘층 및 상기 중간층을 부분적으로 제거하는 단계;를 포함하고,상기 상부실리콘층 및 상기 중간층을 부분적으로 제거함에 따라, 상기 공동 채널을 내부에 포함하며, 상기 적층기판에 대해 공진 운동 가능한 중공형 마이크로 채널구조체(micro channel structure)가 형성되는 것을 특징으로 하는 마이크로채널 공진기 제조방법
2 2
제1항에 있어서,상기 공동 채널의 주변에 대응하는 상기 상부실리콘층 및 상기 중간층을 부분적으로 제거하는 단계에서,상기 상부실리콘층 및 상기 중간층은 단일 제거 공정 또는 복수의 제거 공정에 의해 제거 가능한 것을 특징으로 하는 마이크로채널 공진기 제조방법
3 3
제1항에 있어서,상기 공동 채널의 주변에 대응하는 상기 상부실리콘층 및 상기 중간층을 부분적으로 제거하는 단계는,상기 상부실리콘층 및 상기 중간층을 제거하여 상기 공동 채널에 인접한 가이드 트렌치를 형성하는 단계; 및상기 가이드 트렌치를 이용하여 상기 공동 채널의 하부에 대응하는 상기 중간층을 부분적으로 제거하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로채널 공진기 제조방법
4 4
제1항에 있어서,상기 상부실리콘층 및 상기 중간층을 제거하여 상기 공동 채널에 인접한 가이드 트렌치를 형성하는 단계에서,상기 상부실리콘층 및 상기 중간층은 단일 제거 공정 또는 복수의 제거 공정에 의해 제거 가능한 것을 특징으로 하는 마이크로채널 공진기 제조방법
5 5
제1항에 있어서,상기 상부실리콘층의 내부에 공동 채널(cavity channel)을 형성하는 단계는,상기 상부실리콘층 상에 복수개의 트렌치(trench)를 형성하는 단계; 및상기 복수개의 트렌치를 이용하여 상기 상부실리콘층의 내부에 상기 공동 채널을 형성할 수 있도록 상기 적층기판을 어닐링(annealing)하는 단계;를 포함하고,상기 적층기판의 어닐링시 서로 인접한 상기 트렌치가 서로 연결되며 상호 협조적으로 상기 공동 채널을 형성하는 것을 특징으로 하는 마이크로채널 공진기 제조방법
6 6
제5항에 있어서,상기 트렌치의 형성 조건을 조절하여 상기 중공형 마이크로 채널구조체 상에서 상기 공동 채널의 형성 깊이를 상하 비대칭적으로 형성 가능한 것을 특징으로 하는 마이크로채널 공진기 제조방법
7 7
제6항에 있어서,상기 트렌치의 형성 조건은 상기 트렌치의 직경 및 이격 간격을 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로채널 공진기 제조방법
8 8
제1항에 있어서,상기 공동 채널을 형성한 후 상기 상부실리콘층의 상면에 폴리실리콘 박막층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로채널 공진기 제조방법
9 9
제1항에 있어서,상기 하부층은 상기 상부실리콘층과 동일 또는 다른 재질로 형성된 것을 특징으로 하는 마이크로채널 공진기 제조방법
10 10
제1항에 있어서,상기 중간층은 SiO2, Si3N4, Al2O3, Y203, ZrO2, HfO2, Ta2O5, TiO2 중 적어도 어느 하나를 이용하여 형성된 것을 특징으로 하는 마이크로채널 공진기 제조방법
11 11
제1항에 있어서,상기 공동 채널의 주변에 대응하는 상기 상부실리콘층 및 상기 하부층을 부분적으로 제거함에 따라, 상기 마이크로 채널구조체는 일단에 고정단을 가지며 타단에 자유단을 갖는 캔틸레버(cantilever) 구조로 제공되는 것을 특징으로 하는 마이크로채널 공진기 제조방법
12 12
제1항에 있어서,상기 공동 채널의 주변에 대응하는 상기 상부실리콘층 및 상기 하부층을 부분적으로 제거함에 따라, 상기 마이크로 채널구조체는 양단에 고정단을 갖는 브릿지(bridge) 구조로 제공되는 것을 특징으로 하는 마이크로채널 공진기 제조방법
13 13
제1항에 있어서,상기 적층기판에 글라스기판을 접합하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로채널 공진기 제조방법
14 14
제13항에 있어서,상기 글라스기판을 접합하기 전에 상기 마이크로 채널구조체의 상면에 제1전극층을 형성하는 단계를 더 포함하고,상기 글라스기판에는 상기 제1전극층과 상호 협조적으로 정전기력 작용을 위한 제2전극층이 제공되는 것을 특징으로 하는 마이크로채널 공진기 제조방법
15 15
제1항 내지 제14항 중 어느 하나의 제조방법에 의해 제조된 마이크로채널 공진기
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1 WO2015186976 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

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1 교육과학기술부 서강대학교 산학협력단 글로벌연구네트워크 나노입자의 질량 및 열 물성치 측정을 위한 히터가 내장된 나노유동채널 공진구조물 개발