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지문방지 특성이 구비된 방사 방지 기판 및 그 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015000578
  • 담당센터 : 부산기술혁신센터
  • 전화번호 : 051-606-6561
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 지문 방지 특성이 구비된 반사 방지 기판 및 그 제조 방법이 개시된다. 빛의 투과가 가능한 베이스 기판을 준비하는 단계; 건식 에칭 방식을 이용하여 베이스 기판의 표면에 복수의 돌기형 구조체를 형성하는 단계 및 무기물 입자의 증착에 의해 복수의 돌기형 구조체 각각에 빛의 반사를 방지할 수 있는 반사 방지 구조체를 형성하여, 베이스 기판 표면에 반사 방지층을 형성하는 단계를 포함하는 지문 방지 특성이 구비된 반사 방지 기판 및 그 제조 방법이 제공된다.
Int. CL G02B 1/10 (2006.01) G02B 1/12 (2006.01) G02B 1/11 (2006.01)
CPC G02B 1/111(2013.01) G02B 1/111(2013.01) G02B 1/111(2013.01) G02B 1/111(2013.01)
출원번호/일자 1020120027739 (2012.03.19)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자 10-1244883-0000 (2013.03.12)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20130318) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.03.19)
심사청구항수 30

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 윤정흠 대한민국 경남 김해시 월산로 ***-**,
2 나종주 대한민국 경기 성남시 분당구
3 이건환 대한민국 경기도 평택시
4 권정대 대한민국 경남 창원시 성산구
5 이성훈 대한민국 경남 창원시 마산회원구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인이지 대한민국 서울특별시 금천구 가산디지털*로 ***(가산동, KCC웰츠밸리) ***-***

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2012.03.19 수리 (Accepted) 1-1-2012-0220069-40
2 [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2012.03.20 수리 (Accepted) 1-1-2012-0224659-61
3 [우선심사신청]선행기술조사의뢰서
[Request for Preferential Examination] Request for Prior Art Search		 2012.03.23 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 [우선심사신청]선행기술조사보고서
[Request for Preferential Examination] Report of Prior Art Search		 2012.03.30 수리 (Accepted) 9-1-2012-0025285-85
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2013.01.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0065708-51
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.02.18 수리 (Accepted) 1-1-2013-0144997-68
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.02.18 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0145012-01
8 등록결정서
Decision to grant		 2013.03.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0165457-19
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
빛의 투과가 가능한 베이스 기판을 준비하는 단계; 건식 에칭 방식을 이용하여 상기 베이스 기판의 표면에 복수의 돌기형 구조체를 형성하는 단계; 무기물 입자의 증착에 의해 상기 복수의 돌기형 구조체 각각에 빛의 반사를 방지할 수 있는 반사 방지 구조체를 형성하여, 상기 베이스 기판 표면에 반사 방지층을 형성하는 단계; 및상기 반사 방지층 표면에 지문 방지층을 형성하는 단계를 포함하는 지문 방지 특성이 구비된 반사 방지 기판 제조 방법
2 2
제1항에 있어서, 상기 지문 방지층을 형성하는 단계는, 사이클로메티콘(Cyclomethicone, C8H24Si4O4), 헥사메틸디옥실란(HMDSO), 옥타메틸사이클로테트라실록산(OMCTS), 2-플루오로-6-메톡시벤즈알데히드, 3-플루오로-4 메톡시벤즈알데히드, 4-플루오로-3 메톡시벤즈알데히드, 5-플루오로-2 메톡시벤즈알데히드, 2-플루오로-6 메톡시페놀, 4-플루오로-2 메톡시페놀 및 5-플루오로-3 메톡시살리실알데히드 중 적어도 어느 하나를 증착하여 상기 지문 방지층을 형성하는 것을 특징으로 하는 지문 방지 특성이 구비된 반사 방지 기판 제조 방법
3 3
제1항에 있어서, 상기 지문 방지층은, 메틸기(CH3) 또는 불화탄소기(CF) 중 적어도 어느 하나를 포함하여 형성되는 것을 특징으로 하는 지문 방지 특성이 구비된 반사 방지 기판 제조 방법
4 4
제1항에 있어서, 상기 복수의 돌기형 구조체를 형성하는 단계는, 플라즈마 건식 에칭 방식을 이용하여 상기 베이스 기판의 표면에 상기 복수의 돌기형 구조체를 형성하는 것을 특징으로 하는 지문 방지 특성이 구비된 반사 방지 기판 제조 방법
5 5
제1항에 있어서, 상기 반사 방지층을 형성하는 단계는, 상기 무기물 입자를 플라즈마 박막 증착하여 상기 반사 방지 구조체를 형성하는 것을 특징으로 하는 지문 방지 특성이 구비된 반사 방지 기판 제조 방법
6 6
제1항에 있어서, 상기 반사 방지 구조체는 20nm 이상 200nm 이하의 간격으로 배열되며,상기 복수의 돌기형 구조체를 형성하는 단계는, 상기 반사 방지 구조체가 20nm 이상 200nm 이하의 간격으로 배열될 수 있도록 상기 복수의 돌기형 구조체의 직경 및 배열 간격을 조절하기 위하여 에칭 노출 시간을 제어하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 지문 방지 특성이 구비된 반사 방지 기판 제조 방법
7 7
제6항에 있어서, 상기 에칭 노출 시간을 제어하는 단계는,상기 에칭 노출 시간을 7분 미만으로 하는 것을 특징으로 하는 지문 방지 특성이 구비된 반사 방지 기판 제조 방법
8 8
제1항에 있어서, 상기 반사 방지층을 형성하는 단계는,서로 인접하여 배치되는 상기 반사 방지 구조체로 이루어지는 상기 반사 방지층을 형성하는 것을 특징으로 하는 지문 방지 특성이 구비된 반사 방지 기판 제조 방법
9 9
제1항에 있어서, 상기 반사 방지층을 형성하는 단계는,구 형상의 상기 반사 방지 구조체를 형성하는 것을 특징으로 하는 지문 방지 특성이 구비된 반사 방지 기판 제조 방법
10 10
제1항에 있어서, 상기 반사 방지층을 형성하는 단계 이후에, 상기 반사 방지층의 표면에 연속 박막층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 지문 방지 특성이 구비된 반사 방지 기판 제조 방법
11 11
제10항에 있어서, 상기 연속 박막층을 형성하는 단계는, 상기 무기물 입자와 동일한 물질을 이용하여 상기 연속 박막층을 형성하는 것을 특징으로 하는 지문 방지 특성이 구비된 반사 방지 기판 제조 방법
12 12
제10항에 있어서, 상기 연속 박막층은, 5nm 이상 100nm 이하의 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 지문 방지 특성이 구비된 반사 방지 기판 제조 방법
13 13
제1항에 있어서, 상기 베이스 기판의 표면에는 강화 코팅층이 구비될 수 있는 것을 특징으로 하는 지문 방지 특성이 구비된 반사 방지 기판 제조 방법
14 14
제1항에 있어서, 건식 에칭 방식을 이용하여 상기 복수의 돌기형 구조체를 형성하는 단계는, Ar, O2, H2, He 및 N2에서 선택된 적어도 어느 하나의 기체를 포함하여 건식 에칭하는 것을 특징으로 하는 지문 방지 특성이 구비된 반사 방지 기판 제조 방법
15 15
제1항에 있어서, 상기 무기물 입자는, 금속물질 (Al, Ba, Be, Ca, Cr, Cu, Cd, Dy, Ga, Ge, Hf, In, Lu, Mg, Mo, Ni, Rb, Sc, Si, Sn, Ta, Te, Ti, W, Zn, Zr, Yb etc) 의 산화물(oxide)과 질화물(nitride), 그리고 산화물-질화물의 화합물(oxynitride: AlON, SiON) 및 불화 마그네슘(Magnesium fluoride)에서 선택된 적어도 어느 하나를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 지문 방지 특성이 구비된 반사 방지 기판 제조 방법
16 16
제1항에 있어서, 상기 베이스 기판은, 불소계 투명 폴리머 필름, 아크릴계 투명 폴리머필름, 폴리에틸렌 테레프탈레이트계열 투명 폴리머 필름, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트, 폴리에테르설폰, 폴리시클로올레핀, CR39 및 폴리우레탄(polyiourethane)에서 선택된 적어도 어느 하나를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 지문 방지 특성이 구비된 반사 방지 기판 제조 방법
17 17
빛의 투과가 가능한 베이스 기판; 상기 베이스 기판의 일면에 형성되는 복수의 돌기형 구조체; 상기 복수의 돌기형 구조체에 형성되며, 무기물 입자의 증착에 의하여 형성되는 반사 방지 구조체로 이루어지며, 상기 베이스 기판의 표면에 형성되는 반사 방지층; 및상기 반사 방지층 표면에 형성되는 지문 방지층을 포함하는 지문 방지 특성이 구비된 반사 방지 기판
18 18
제17항에 있어서, 상기 지문 방지층은, 사이클로메티콘(Cyclomethicone, C8H24Si4O4), 헥사메틸디옥실란(HMDSO), 옥타메틸사이클로테트라실록산(OMCTS), 2-플루오로-6-메톡시벤즈알데히드, 3-플루오로-4 메톡시벤즈알데히드, 4-플루오로-3 메톡시벤즈알데히드, 5-플루오로-2 메톡시벤즈알데히드, 2-플루오로-6 메톡시페놀, 4-플루오로-2 메톡시페놀 및 5-플루오로-3 메톡시살리실알데히드 중 적어도 어느 하나를 증착하여 상기 지문 방지층을 형성하는 것을 특징으로 하는 지문 방지 특성이 구비된 반사 방지 기판
19 19
제17항에 있어서, 상기 지문 방지층은, 메틸기(CH3) 또는 불화탄소기(CF) 중 적어도 어느 하나를 포함하여 형성되는 것을 특징으로 하는 지문 방지 특성이 구비된 반사 방지 기판
20 20
제17항에 있어서, 상기 복수의 돌기형 구조체는, 플라즈마 건식 에칭 방식을 이용하여 상기 베이스 기판의 표면에 형성되는 것을 특징으로 하는 지문 방지 특성이 구비된 반사 방지 기판
21 21
제17항에 있어서, 상기 반사 방지층은, 상기 무기물 입자를 플라즈마 박막 증착하여 형성되는 상기 반사 방지 구조체로 이루어지는 것을 특징으로 하는 지문 방지 특성이 구비된 반사 방지 기판
22 22
제17항에 있어서, 상기 반사 방지 구조체는,20nm 이상 200nm 이하의 간격으로 배열되는 것을 특징으로 하는 지문 방지 특성이 구비된 반사 방지 기판
23 23
제17항에 있어서, 상기 반사 방지층은, 서로 인접하여 배치되는 상기 반사 방지 구조체로 이루어지는 것을 특징으로 하는 지문 방지 특성이 구비된 반사 방지 기판
24 24
제17항에 있어서, 상기 반사 방지 구조체는, 구 형상으로 형성되는 것을 특징으로 하는 지문 방지 특성이 구비된 반사 방지 기판
25 25
제17항에 있어서, 상기 반사 방지층 및 상기 지문 방지층의 사이에 개재되는 연속 박막층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 지문 방지 특성이 구비된 반사 방지 기판
26 26
제25항에 있어서, 상기 연속 박막층은, 상기 무기물 입자와 동일한 물질을 이용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 지문 방지 특성이 구비된 반사 방지 기판
27 27
제25항에 있어서, 상기 연속 박막층은, 5nm 이상 100nm 이하의 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 지문 방지 특성이 구비된 반사 방지 기판
28 28
제17항에 있어서, 상기 베이스 기판은, 상기 베이스 기판의 표면에는 강화 코팅층이 구비될 수 있는 것을 특징으로 하는 지문 방지 특성이 구비된 반사 방지 기판
29 29
제17항에 있어서, 상기 무기물 입자는, 금속물질 (Al, Ba, Be, Ca, Cr, Cu, Cd, Dy, Ga, Ge, Hf, In, Lu, Mg, Mo, Ni, Rb, Sc, Si, Sn, Ta, Te, Ti, W, Zn, Zr, Yb etc) 의 산화물(oxide)과 질화물(nitride), 그리고 산화물-질화물의 화합물(oxynitride: AlON, SiON) 및 불화 마그네슘(Magnesium fluoride)에서 선택된 적어도 어느 하나를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 지문 방지 특성이 구비된 반사 방지 기판
30 30
제17항에 있어서, 상기 베이스 기판은, 불소계 투명 폴리머 필름, 아크릴계 투명 폴리머필름, 폴리에틸렌 테레프탈레이트계열 투명 폴리머 필름, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트, 폴리에테르설폰, 폴리시클로올레핀, CR39 및 폴리우레탄(polyiourethane)에서 선택된 적어도 어느 하나를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 지문 방지 특성이 구비된 반사 방지 기판
지정국 정보가 없습니다
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1 KR101244879 KR 대한민국 FAMILY
2 KR101244882 KR 대한민국 FAMILY
3 KR101244889 KR 대한민국 FAMILY
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