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실리콘 나노입자의 제조방법 및 실리콘 나노입자 분산액의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015000760
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 실리콘 나노입자의 제조방법에 관한 것으로, 본 발명에 제조방법은 종래의 제조방법보다 단순하고 경제적으로 실리콘 나노입자를 제조할 수 있으며, 본 발명의 제조방법에 따라 제조된 실리콘 나노입자는 크기가 작고 균일하여 실리콘 박막 형성 시 우수한 전기특성을 가진다.
Int. CL C01B 33/021 (2006.01) B82B 3/00 (2006.01)
CPC C01B 33/02(2013.01) C01B 33/02(2013.01) C01B 33/02(2013.01) C01B 33/02(2013.01) C01B 33/02(2013.01) C01B 33/02(2013.01)
출원번호/일자 1020120104796 (2012.09.20)
출원인 한국화학연구원
등록번호/일자 10-1318939-0000 (2013.10.10)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20131113) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.09.20)
심사청구항수 13

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최영민 대한민국 대전광역시 서구
2 정선호 대한민국 대전광역시 유성구
3 서영희 대한민국 경기도 광명시 연서
4 프리예시 빌라스 모레 대한민국 대전광역시 유성구
5 류병환 대한민국 대전광역시 서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박창희 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)
2 권오식 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2012.09.20 수리 (Accepted) 1-1-2012-0765623-17
2 등록결정서
Decision to grant		 2013.09.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0678568-66
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149265-52
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149242-13
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
a) 탈이온수에서 실리콘 전구체로 SiSx ( 1≤x≤2 )와 산을 반응시켜 실리콘나노입자에 실리콘 산화물이 코팅된 코어-쉘 구조의 실리콘 나노입자-실리콘 산화물을 제조하는 단계; 및b)상기 실리콘 나노입자-실리콘 산화물을 에칭하여 실리콘 나노입자를 제조하는 단계;를 포함하는 실리콘 나노입자의 제조방법
2 2
제 1항에 있어서,실리콘 전구체는 SiS2인 실리콘 나노입자의 제조방법
3 3
제 1항에 있어서,산은 황산, 질산, 염산, 불산 및 이들의 혼합물에서 선택되는 것인 실리콘 나노입자의 제조방법
4 4
제 1항에 있어서,실리콘 전구체와 산은 중량비가 1 : 1 ~ 20로 사용되는 것인 실리콘 나노입자의 제조방법
5 5
제 1항에 있어서,산과 탈이온수는 부피비가 1: 0
6 6
제 1항 있어서,상기 반응은 12 ~ 48시간 동안 수행되는 것인 실리콘 나노입자의 제조방법
7 7
제 1항에 있어서, 에칭은 불산과 과산화수소의 혼합용액으로 1 ~ 11시간동안 수행되는 것인 실리콘 나노입자의 제조방법
8 8
제 7항에 있어서,혼합용액은 불산 100중량부에 대하여 과산화수소가 0
9 9
제 1항에 있어서,a)단계 후, b)단계 후 또는 a)단계 후와 b)단계 후에 세척하고 원심분리하는 단계;를 더 포함하는 실리콘 나노입자의 제조방법
10 10
제 1항에 있어서,실리콘 나노입자는 크기가 1 ~ 10nm인 실리콘 나노입자의 제조방법
11 11
제 1항 내지 10항의 어느 한 항에 따라 제조된 실리콘 나노입자를 용매에 분산시키는 단계;를 포함하는 실리콘 나노입자 분산액의 제조방법
12 12
제 11항에 있어서,용매는 벤조나이트릴, 아세토나이트릴, 에탄올, 톨루엔, 다이메틸포름아마이드 및 테트라하이드로퓨란에서 선택되는 하나이상인 실리콘 나노입자 분산액의 제조방법
13 13
제 11항에 있어서,실리콘 나노입자 분산액은 바인더를 더 포함하는 것인 실리콘 나노입자 분산액의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 한국화학연구원 전략기술개발사업 다이렉트 나노패터닝용 반도체 잉크소재 개발(4)
2 산업기술연구회 한국화학연구원 기관고유사업 인쇄공정기반 화학소재 원천기술 개발