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아미노싸이올레이트를 이용한 납 전구체, 이의 제조방법, 및 이를 이용하여 박막을 형성하는 방법

  • 기술번호 : KST2015000893
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 납 전구체에 관한 것으로, 상기 납 전구체는 황을 포함하고 있는 전구체로서 열적 안정성과 휘발성이 개선되고 박막 제조 중에 별도의 황을 첨가시키지 않아도 되는 장점을 가지기 때문에 이를 이용하여 쉽게 양질의 황화납 박막을 제조할 수 있다.[화학식 1](상기 식에서, R1, R2는 각각 독립적으로 C1-C10의 선형 또는 분지형 알킬기이고, R3, R4는 각각 독립적으로 C1-C10의 선형 또는 분지형의 알킬기 또는 C1-C10의 선형 또는 분지형의 플루오로알킬기이고, n은 1 내지 3 범위의 정수에서 선택된다.)
Int. CL C23C 16/448 (2006.01) C23C 16/06 (2006.01)
CPC C23C 16/305(2013.01) C23C 16/305(2013.01) C23C 16/305(2013.01)
출원번호/일자 1020130046343 (2013.04.25)
출원인 한국화학연구원
등록번호/일자 10-1503031-0000 (2015.03.10)
공개번호/일자 10-2014-0127679 (2014.11.04) 문서열기
공고번호/일자 (20150318) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.04.25)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박보근 대한민국 강원 원주시 남원로***번길 *
2 김창균 대한민국 대전 유성구
3 정택모 대한민국 대전 유성구
4 전동주 대한민국 대전 유성구
5 여소정 대한민국 대전 유성구
6 정윤장 대한민국 서울특별시 강남구
7 공기정 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 한양특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, 한양빌딩 (도곡동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2013.04.25 수리 (Accepted) 1-1-2013-0367544-18
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2014.10.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0735276-45
3 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2014.12.29 수리 (Accepted) 1-1-2014-1268458-14
4 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2014.12.29 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-1268459-59
5 등록결정서
Decision to grant		 2015.02.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0119365-63
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149242-13
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149265-52
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
하기 화학식 1로 표시되는 납 전구체:[화학식 1](상기 식에서, R1, R2는 서로 독립적으로 CH3, C2H5, CH(CH3)2 및 C(CH3)3로부터 선택되고, 상기 R3, R4는 서로 독립적으로 CH3, CF3, C2H5, CH(CH3)2 및 C(CH3)3 로부터 선택되고, n은 1 내지 3 범위의 정수에서 선택된다
2 2
삭제
3 3
하기 화학식 2로 표시되는 화합물과 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물을 반응시키는 것을 포함하는, 청구항 1의 화학식 1로 표시되는 납 전구체의 제조방법:[화학식 2](상기 식에서, M은 Li, Na, K 또는 NH4 이고, R1, R2는 서로 독립적으로 CH3, C2H5, CH(CH3)2 및 C(CH3)3로부터 선택되고, 상기 R3, R4는 서로 독립적으로 CH3, CF3, C2H5, CH(CH3)2 및 C(CH3)3 로부터 선택되고, n은 1 내지 3 범위의 정수에서 선택된다
4 4
청구항 1의 납 전구체를 이용하여 황화납 박막을 성장시키는 방법
5 5
청구항 4에 있어서,박막 성장 공정이 화학기상증착법(CVD) 또는 원자층증착법(ALD)에 의하여 수행되는 것을 특징으로 하는 방법
지정국 정보가 없습니다
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2 KR101331971 KR 대한민국 FAMILY
3 KR101331972 KR 대한민국 FAMILY
4 KR101380897 KR 대한민국 FAMILY
5 KR101472473 KR 대한민국 FAMILY
6 KR101530042 KR 대한민국 FAMILY
7 KR101530043 KR 대한민국 FAMILY
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9 KR101530045 KR 대한민국 FAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육과학기술부 한국화학연구원 미래기반기술개발사업 CVD/ALD 공정에 적합한 목적지향형 분자 전구체 설계 및 합성
2 산업기술연구회 한국화학연구원 기관고유사업 정보전자 산업용 전구체 개발