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아미노싸이올레이트를 이용한 인듐 전구체, 이의 제조방법 및 이를 이용하여 박막을 형성하는 방법

  • 기술번호 : KST2015000915
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 인듐 전구체에 관한 것으로, 상기 인듐 전구체는 황을 포함하고 있는 전구체로서 박막 제조 중에 별도의 황을 첨가시키지 않아도 되는 장점이 있고 열적 안정성과 휘발성이 향상되어 양질의 황화인듐 박막을 형성할 수 있다.[화학식 1](상기 식에서, R1, R2는 각각 독립적으로 C1-C10의 선형 또는 분지형 알킬기이고, R3, R4는 각각 독립적으로 C1-C10의 선형 또는 분지형의 알킬기 또는 C1-C10의 선형 또는 분지형의 플루오르화 알킬기이며, n은 1 내지 3 범위의 정수에서 선택된다.)
Int. CL C07F 5/00 (2006.01) C23C 16/18 (2006.01)
CPC C07F 5/003(2013.01) C07F 5/003(2013.01)
출원번호/일자 1020130046345 (2013.04.25)
출원인 한국화학연구원
등록번호/일자 10-1530043-0000 (2015.06.12)
공개번호/일자 10-2014-0127681 (2014.11.04) 문서열기
공고번호/일자 (20150618) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.04.25)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박보근 대한민국 강원 원주시 남원로***번길 *
2 김창균 대한민국 대전 유성구
3 정택모 대한민국 대전 유성구
4 전동주 대한민국 대전 유성구
5 박주현 대한민국 대전 서구
6 정석종 대한민국 대전 유성구
7 이영국 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 한양특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, 한양빌딩 (도곡동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2013.04.25 수리 (Accepted) 1-1-2013-0367546-10
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2014.12.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0837669-44
3 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2015.02.05 수리 (Accepted) 1-1-2015-0124778-87
4 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2015.02.05 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0124779-22
5 등록결정서
Decision to grant		 2015.06.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0387811-99
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149242-13
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149265-52
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번호 청구항
1 1
하기 화학식 1로 표시되는 인듐 전구체:[화학식 1](상기 식에서, R1, R2는 각각 독립적으로 C1-C10의 선형 또는 분지형 알킬기이고, R3, R4는 각각 독립적으로 C1-C10의 선형 또는 분지형의 알킬기 또는 C1-C10의 선형 또는 분지형의 플루오르화 알킬기이며, n은 1 내지 3 범위의 정수에서 선택된다
2 2
청구항 1에 있어서,상기 R1, R2는 서로 독립적으로 CH3, C2H5, CH(CH3)2 및 C(CH3)3로부터 선택되고, 상기 R3, R4는 서로 독립적으로 CH3, CF3, C2H5, CH(CH3)2 및 C(CH3)3 로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 인듐 전구체
3 3
하기 화학식 2로 표시되는 화합물과 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물을 반응시키는 것을 포함하는, 청구항 1의 화학식 1로 표시되는 인듐 전구체의 제조방법:[화학식 2](상기 식에서, M은 Li, Na, K 또는 NH4 이고, R1, R2는 각각 독립적으로 C1-C10의 선형 또는 분지형 알킬기이고, R3, R4는 각각 독립적으로 C1-C10의 선형 또는 분지형의 알킬기 또는 C1-C10의 선형 또는 분지형의 플루오르화 알킬기이며, n은 1 내지 3 범위의 정수에서 선택된다
4 4
청구항 1의 인듐 전구체를 이용하여 황화인듐 박막을 성장시키는 방법
5 5
청구항 4에 있어서,박막 성장 공정이 화학기상증착법(CVD) 또는 원자층증착법(ALD)에 의하여 수행되는 것을 특징으로 하는 방법
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5 KR101472473 KR 대한민국 FAMILY
6 KR101503031 KR 대한민국 FAMILY
7 KR101530042 KR 대한민국 FAMILY
8 KR101530044 KR 대한민국 FAMILY
9 KR101530045 KR 대한민국 FAMILY
10 KR1020130127024 KR 대한민국 FAMILY
11 WO2013165221 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육과학기술부 한국화학연구원 미래기반기술개발사업 CVD/ALD 공정에 적합한 목적지향형 분자 전구체 설계 및 합성
2 산업기술연구회 한국화학연구원 기관고유사업 정보전자 산업용 전구체 개발