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씨브이디 공정용 유체의 유동 분배 장치

  • 기술번호 : KST2015000933
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 CVD 공정용 유체의 유동 분배 장치가 개시된다. 본 발명의 실시 예에 따른 CVD 공정용 유체의 유동 분배 장치는 화학기상증착법에서 공정용 소스 유체의 균일한 유동을 형성하기 위한 유동 분배 장치에 있어서, 소정 공간을 갖는 챔버와, 챔버 내부에 다층으로 마련되어 유체의 유동을 층층이 분할하기 위한 복수의 유동분할부재와, 각 유동분할부재에 마련되며 유체의 유동을 따라 층이 증가할수록 개수가 증가함과 동시에 균등하게 분할 마련되어 유체의 유동을 균일하게 형성하는 유동홀을 포함한다.
Int. CL C23C 16/455 (2006.01) C23C 16/44 (2006.01)
CPC C23C 16/455(2013.01) C23C 16/455(2013.01)
출원번호/일자 1020120121867 (2012.10.31)
출원인 서강대학교산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2014-0056704 (2014.05.12) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.10.31)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 서강대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 마포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김동철 대한민국 서울 용산구
2 박승호 대한민국 서울 양천구
3 김동현 대한민국 서울 강남구
4 박준우 대한민국 전라남도 해남군
5 김대중 대한민국 서울 강남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인세림 대한민국 서울특별시 서초구 강남대로 ***, **층, **층(서초동, 태우빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.10.31 수리 (Accepted) 1-1-2012-0891677-49
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.08.02 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.08.27 수리 (Accepted) 9-1-2013-0072128-51
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.05.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0357098-58
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.07.28 수리 (Accepted) 1-1-2014-0708974-26
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.07.28 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0708975-72
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.11.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0797982-03
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.01.21 수리 (Accepted) 1-1-2015-0062603-74
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.01.21 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0062604-19
10 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2015.05.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0354049-41
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.01.11 수리 (Accepted) 4-1-2017-5005781-67
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.01.22 수리 (Accepted) 4-1-2019-5014626-89
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
화학기상증착법에서 소스 유체의 균일한 유동을 형성하기 위한 유동 분배 장치에 있어서,소정 공간을 갖는 챔버와,상기 챔버 내부에 다층으로 마련되어 유체의 유동을 층층이 분할하기 위한 복수의 유동분할부재와,각 유동분할부재에 마련되며 유체의 유동을 따라 층이 증가할수록 개수가 증가함과 동시에 균등하게 분할 마련되어 유체의 유동을 균일하게 형성하는 유동홀을 포함하는 CVD 공정용 유체의 유동 분배 장치
2 2
제 1항에 있어서,상기 유동분할부재의 최상층에 마련되는 유동홀은 짝수로 마련되며,층이 증가할 때마다 유동홀은 제곱 형태로 증가하는 CVD 공정용 유체의 유동 분배 장치
3 3
제 1항에 있어서,상기 챔버는 동층에서 분할된 일측의 유동홀을 통과한 유체가 타측의 유동홀을 통과한 유체와 하층에서 상호 간섭되지 않도록 하는 격벽을 포함하는 CVD 공정용 유체의 유동 분배 장치
4 4
제 1항에 있어서,상기 유동홀들은 크기가 일정한 CVD 공정용 유체의 유동 분배 장치
5 5
제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서,상기 챔버는 분산기를 더 포함하는 CVD 공정용 유체의 유동 분배 장치
6 6
화학기상증착법에서 공정용 소스 유체의 균일한 유동을 형성하기 위해 상부의 유체 투입구보다 상대적으로 확장된 유체 배출구를 하부에 구비하며 소정 공간을 갖는 챔버의 내부에 유동홀을 갖는 복수의 유동분할부재를 유체의 유동 방향을 따라 층상으로 마련하되, 각 층에 마련되는 유동분할부재의 유동홀은 상층에서 하층으로 갈수록 개수가 증가하면서 균등하게 분할 마련되는 CVD 공정용 유체의 유동 분배 장치
7 7
제 6항에 있어서,상기 유동분할부재의 최상층에 마련되는 유동홀은 짝수로 마련되며,층이 증가할 때마다 유동홀은 제곱 형태로 증가하는 CVD 공정용 유체의 유동 분배 장치
8 8
제 6항에 있어서,상기 챔버는 동층에서 분할된 일측의 유동홀을 통과한 유체가 타측의 유동홀을 통과한 유체와 하층에서 상호 간섭되지 않도록 하는 격벽을 포함하는 CVD 공정용 유체의 유동 분배 장치
9 9
제 6항에 있어서,상기 유동홀들은 크기가 일정한 CVD 공정용 유체의 유동 분배 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육과학기술부 (재)한국연구재단 다중물리 융합 해석기술 다중물리 융합 해석기술