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전자빔 리소그래피 장치의 나노스테이지

  • 기술번호 : KST2015001132
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 전자빔 리소그래피 장치의 나노 스테이지에 관한 것으로서, 진공챔버에 출입가능하게 설치되는 한편 스테이지를 X,Y,Z축 방향으로 이동 및 회전시키는 스테이지유닛과, 스테이지 측으로 전자빔을 주사하는 전자주사유닛을 포함하는 전자빔 리소그래피 장치에 있어서, 상기 스테이지유닛의 스테이지 상에는 시료가 구비되는 나노 스테이지가 설치되고, 상기 나노 스테이지는 미세 이동되어 시료를 디플렉션 왜곡이 가장 작은 영역으로 이동시키기 위한 압전소자로 구성된 것을 특징으로 하여, 시료를 나노 스테이지의 미세 이동을 통해 디플렉션 왜곡이 가장 작은 영역으로 이동하여 미소패턴을 연속적으로 생성할 수 있도록 한다. 전자빔, 리소그래피, 나노 스테이지, 압전소자
Int. CL B82Y 40/00 (2011.01) H01L 21/027 (2006.01)
CPC H01J 37/3174(2013.01) H01J 37/3174(2013.01) H01J 37/3174(2013.01)
출원번호/일자 1020090011637 (2009.02.12)
출원인 서울과학기술대학교 산학협력단, 국민대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1025288-0000 (2011.03.21)
공개번호/일자 10-2010-0092332 (2010.08.20) 문서열기
공고번호/일자 (20110329) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.02.12)
심사청구항수 3

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 서울과학기술대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 노원구
2 국민대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김동환 대한민국 서울특별시 송파구
2 김승재 대한민국 경기도 광명시 소
3 오세규 대한민국 경기도 의정부시
4 임홍재 대한민국 서울특별시 광진구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인다나 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 *길 **, 신관 *층~*층, **층(역삼동, 광성빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 서울과학기술대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 노원구
2 국민대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 성북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.02.12 수리 (Accepted) 1-1-2009-0088695-54
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2009.03.18 수리 (Accepted) 1-1-2009-0162068-62
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2009.04.07 수리 (Accepted) 1-1-2009-0209043-67
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.09.10 수리 (Accepted) 4-1-2010-5170442-78
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.10.15 수리 (Accepted) 4-1-2010-5191552-28
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2010.11.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0509020-36
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.01.10 수리 (Accepted) 1-1-2011-0018636-55
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.01.10 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0018637-01
9 등록결정서
Decision to grant
2011.02.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0070128-28
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.06.23 수리 (Accepted) 4-1-2015-5084292-58
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.08.20 수리 (Accepted) 4-1-2015-5111449-53
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2016.03.14 수리 (Accepted) 4-1-2016-5032192-73
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
진공챔버에 출입가능하게 설치되는 한편 스테이지를 X,Y,Z축 방향으로 이동 및 회전시키는 스테이지유닛과, 스테이지 측으로 전자빔을 주사하는 전자주사유닛을 포함하는 전자빔 리소그래피 장치에 있어서, 상기 스테이지유닛의 스테이지 상에는 시료가 구비되는 나노 스테이지가 설치되고, 상기 나노 스테이지는 미세 이동되어 시료를 디플렉션 왜곡이 가장 작은 영역으로 이동시키기 위한 압전소자로 구성되며, 상기 나노 스테이지는, 그 하면에 나노 스테이지의 X축 및 Y축 방향과 각각 평행한 복수의 X축 전극과 복수의 Y축 전극이 각각 설치되고, 그 측면에는 나노 스테이지의 Z축 방향과 평행한 복수의 Z축 전극이 각각 설치되며, 그 상면에는 시료가 놓여진 대향전극이 설치된 것을 특징으로 하는 전자빔 리소그래피 장치의 나노 스테이지
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삭제
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 X,Y,Z축 전극의 양 전극은 분극방향이 서로 반대가 되도록 배치되어 설치된 것을 특징으로 하는 전자빔 리소그래피 장치의 나노 스테이지
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 X,Y,Z축 전극의 일측 전극에는 양전압이, 타측 전극에는 음전압이 인가되는 것을 특징으로 하는 전자빔 리소그래피 장치의 나노 스테이지
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 서울특별시 국민대학교 산학협력단 기술기반 구축(핵심)사업 나노공정 기술 및 장비 개발 산학연 혁신 클러스터