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액상의 원료를 일정한 고화 방향성(solidification direction)을 갖도록 순차적으로 고상전이(liquid to solid phase transition)시켜 반도체 또는 금속산화물 잉곳을 제조하는 잉곳 제조장치이며,반도체 또는 금속산화물 원료가 담지되는 도가니; 상기 도가니의 높이 방향을 종방향으로, 상기 종방향과 수직인 방향을 횡방향으로 하여, 상기 도가니에 종방향으로 일정거리 이격 구비되며 냉각수단 이송부에 의해 종방향으로 이동되는 냉각 수단; 상기 도가니의 둘레면을 감싸도록 상기 도가니에 횡방향으로 일정거리 이격 구비되는 제1가열수단; 종방향으로 상기 도가니와 냉각 수단 사이에 구비되며 이동부에 의해 그 위치가 이동되는 단열 부재; 및 단열 부재의 위치를 이동시키는 이동부 및 냉각수단 이송부를 제어하는 제어부를 포함하며,상기 제어부는 상기 가열 수단 및 상기 냉각 수단에 의한 상기 원료의 용융 및 순차적 고화 시, 고화 진행 정도에 따라 상기 단열 부재를 구성하는 단열체인 둘 이상의 평판 각각의 위치를 조절하고 상기 도가니와 상기 냉각수단간의 이격 거리를 조절하는 잉곳 제조장치
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제 1항에 있어서,상기 제어부는 상기 원료의 총 부피를 기준으로 10%이하의 고화가 진행된 정도를 고화 초기, 10~60%의 고화가 진행된 정도를 고화 중기 및 60% 이상의 고화가 진행된 정도를 고화 말기로 하여, 고화 진행 정도에 따라 상기 단열 부재를 구성하는 평판 각각의 위치를 조절하여, 상기 도가니와 냉각 수단 간 위치별 종방향으로의 상기 단열 부재의 총 두께를 제어하는 잉곳 제조장치
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제 1항에 있어서,상기 제어부는 상기 단열 부재를 구성하는 평판 각각의 위치를 조절하여, 상기 원료의 용융 시 상기 도가니 하부를 차폐하며, 상기 원료의 총 부피를 기준으로 10%이하의 고화가 진행된 정도를 고화 초기, 10~60%의 고화가 진행된 정도를 고화 중기 및 60% 이상의 고화가 진행된 정도를 고화 말기로 하여, 고화 진행 정도에 따라 상기 도가니와 상기 냉각 수단 간 관통 공을 형성하는 잉곳 제조장치
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제 1항에 있어서,상기 둘 이상의 평판은 두께, 형상, 크기 및 재질에서 하나 이상 선택된 인자가 서로 상이한 잉곳 제조장치
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제 1항에 있어서,상기 이동부에 의해 상기 단열부재는 횡방향으로 이동되는 잉곳 제조장치
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제 1항에 있어서, 상기 제조장치는 상기 도가니를 사이에 두고 종방향으로 상기 냉각수단과 대향되도록 상기 도가니에 종방향으로 일정거리 이격 구비되는 제2가열수단을 더 포함하는 잉곳 제조장치
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제 1항 내지 제 3항 및 제 5항 내지 제 7항에서 선택된 어느 한 항에 있어서,상기 둘 이상의 평판은 종 방향으로 동일 평면 또는 서로 다른 평면에 위치하는 잉곳 제조장치
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제 8항에 있어서,상기 둘 이상의 평판이 서로 다른 평면에 위치하는 경우, 상기 평판들은 적어도 일부분이 종방향으로 서로 밀착된 잉곳 제조장치
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제 8항에 있어서,상기 둘 이상의 평판은 다각판, 중공이 형성된 다각판, 원형판 또는 중공이 형성된 원형판이 N(N≥2인 자연수)개로 분할되어 형성된 N개의 조각인 잉곳 제조장치
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제 8항에 있어서,상기 둘 이상의 평판은 서로 독립적으로 다각판, 중공이 형성된 다각판, 원형판 또는 중공이 형성된 원형판인 잉곳 제조장치
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제 1항에 있어서,상기 반도체는 실리콘(Si), 게르마늄(Ge) 또는 갈륨아르세나이드(GaAs)인 것을 특징으로 하는 잉곳 제조장치
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제 1항에 있어서,상기 금속산화물은 사파이어인 것을 특징으로 하는 잉곳 제조장치
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