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스트론튬 전구체, 이의 제조방법, 및 이를 이용하여 박막을 형성하는 방법

  • 기술번호 : KST2015001269
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 하기 화학식1로 표시되는 스트론튬 전구체에 관한 것으로, 상기 스트론튬 전구체는 열적으로 안정하고 휘발성이 좋으므로 양질의 스트론튬 박막을 형성할 수 있다. [화학식 1](상기 식에서, R1, R2, R3는 각각 독립적으로 C1-C10의 선형 또는 분지형 알킬기이고, R4, R5, R6, R7은 각각 독립적으로 C1-C10의 선형 또는 분지형 알킬기, 또는 C1-C10의 플루오르화 알킬기이며, m, n은 각각 1 내지 3이다.)
Int. CL B05D 1/18 (2006.01) C07F 3/00 (2006.01) C23C 16/18 (2006.01)
CPC C07F 3/003(2013.01) C07F 3/003(2013.01) C07F 3/003(2013.01)
출원번호/일자 1020120047439 (2012.05.04)
출원인 한국화학연구원
등록번호/일자 10-1399552-0000 (2014.05.20)
공개번호/일자 10-2013-0123918 (2013.11.13) 문서열기
공고번호/일자 (20140527) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.05.04)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박보근 대한민국 강원 원주시 남원로***번길 *
2 정택모 대한민국 대전 유성구
3 김창균 대한민국 대전 유성구
4 조지, 쉐비 메리 인도 대전 유성구
5 이영국 대한민국 대전 유성구
6 임종선 대한민국 대전 유성구
7 정석종 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 한양특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, 한양빌딩 (도곡동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.05.04 수리 (Accepted) 1-1-2012-0357820-02
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.11.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0784908-06
3 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.01.14 수리 (Accepted) 1-1-2014-0036715-90
4 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.01.14 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0036717-81
5 등록결정서
Decision to grant
2014.05.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0337197-12
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149242-13
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149265-52
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
하기 화학식1로 표시되는 스트론튬 전구체:[화학식 1](상기 식에서, R1, R2, R3는 각각 독립적으로 C1-C10의 선형 또는 분지형 알킬기이고, R4, R5, R6, R7은 각각 독립적으로 C1-C10의 선형 또는 분지형 알킬기, 또는 C1-C10의 플루오르화 알킬기이며, m, n은 각각 1 내지 3이다
2 2
하기 화학식 3으로 표시되는 스트론튬 전구체:[화학식 3](상기 식에서, R1, R2, R3는 각각 독립적으로 C1-C10의 선형 또는 분지형 알킬기이고, R4, R5는 각각 독립적으로 C1-C10의 선형 또는 분지형 알킬기, 또는 C1-C10의 플루오르화 알킬기이며, R8, R9는 각각 독립적으로 C1-C10의 선형 또는 분지형 알킬기, 또는 트리알킬실릴기(-SiR3)이며, m, n은 각각 1 내지 3이다
3 3
하기 화학식 2로 표시되는 아미노알코올을 이용하는 것을 특징으로 하는 청구항 1의 화학식 1로 표시되는 스트론튬 전구체의 제조방법
4 4
청구항 1의 스트론튬 전구체를 이용하여 스트론튬을 포함한 박막을 성장시키는 방법
5 5
청구항 4에 있어서,박막 성장 공정이 화학기상증착법(CVD) 또는 원자층증착법(ALD)에 의하여 수행되는 것을 특징으로 하는 방법
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 KR1020130123919 KR 대한민국 FAMILY
2 US09790238 US 미국 FAMILY
3 US20150175629 US 미국 FAMILY
4 WO2013165212 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육과학기술부 한국화학연구원 미래기반기술개발사업 CVD/ALD 공정에 적합한 목적지향형 분자 전구체 설계 및 합성
2 산업기술연구회 한국화학연구원 기관고유사업 정보전자 산업용 전구체 개발