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하기 화학식 1로 표시되는 플루오르알콕시기가 치환된 트리아진계 유도체:[화학식 1]상기 화학식 1에서,R1은 플루오르(C1-C20)알킬, 플루오르(C6-C20)아릴 또는 플루오르(C3-C20)사이클로알킬이고, 상기 R1의 플루오르알킬, 플루오르아릴 또는 플루오르사이클로알킬은 (C1-C20)알콕시, (C6-C20)아릴, 플루오르(C1-C20)알콕시 및 플루오르(C6-C20)아릴로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상으로 더 치환될 수 있고;L1는 (C1-C20)알킬렌이고;n은 0 ~ 20의 정수이고;A는 아크릴 또는 메타 아크릴이다
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제 1항에 있어서,상기 R1은 -CH2-(CFR')x-(O)y-(CF2)z-CFR''R'''이고, R', R'' 및 R'''는 서로 독립적으로 수소, 플루오르 또는 트리플루오르메틸이고, x 및 z는 각각 독립적으로 1 내지 5의 정수이고, y는 0 또는 1의 정수인 것을 특징으로 하는 플루오르알콕시기가 치환된 트리아진계 유도체
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제 2항에 있어서,상기 R1은 -CH2CF2CF3, -CH2(CF2)3CHF2, -CH2(CF2)5CHF2 또는 -CH2CF(CF3)OCF2CF2CF3이고, n은 0이고, A는 아크릴인 것을 특징으로 하는 플루오르알콕시기가 치환된 트리아진계 유도체
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a)염화시아눌(Cyanuric chloride)과 하기 화학식 2로 표시되는 플루오르알콜 유도체를 반응시켜 하기 화학식 3으로 표시되는 클로로 비스플루오르알콕시 트리아진 유도체를 제조하는 단계;b) 화학식 3으로 표시되는 클로로 비스플루오르알콕시 트리아진 유도체와 레조시놀(resorcinol)을 축합반응시켜 하기 화학식 4의 다이올 유도체를 제조하는 단계; 및 c) 화학식 4의 다이올 유도체와 화학식 5의 히드록시할로겐알킬렌 유도체 및 화학식 6의 이중결합 유도체를 반응시키거나, 화학식 4의 다이올 유도체와 화학식 6의 이중결합 유도체를 반응시켜 하기 화학식 1의 플루오르알콕시기가 치환된 트리아진계 유도체를 제조하는 단계;를 포함하는 청구항 제1항의 화학식 1의 플루오르알콕시기가 치환된 트리아진계 유도체의 제조방법:[화학식 1][화학식 2][화학식 3][화학식 4][화학식 5][화학식 6]상기 R1은 플루오르(C1-C20)알킬, 플루오르(C6-C20)아릴 또는 플루오르(C3-C20)사이클로알킬이고, 상기 R1의 플루오르알킬, 플루오르아릴 또는 플루오르사이클로알킬은 (C1-C20)알콕시, (C6-C20)아릴, 플루오르(C1-C20)알콕시 및 플루오르(C6-C20)아릴로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상으로 더 치환될 수 있고;L1은 (C1-C20)알킬렌이고;n은 0 ~ 20의 정수이고;X1 및 X2는 각각 독립적으로 할로겐 원자이고;A는 아크릴 또는 메타 아크릴이다
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제 1항 내지 제 3항에서 선택되는 어느 한 항에 따른 플루오르알콕시기가 치환된 트리아진계 유도체를 포함하는 반응성 자외선 안정제 조성물
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6
제 5항에 있어서,상기 플루오르알콕시기가 치환된 트리아진계 유도체는 240 ~ 400 nm 영역의 자외선을 차단하는 것을 특징으로 하는 반응성 자외선 안정제 조성물
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7
제 6항에 있어서,상기 플루오르알콕시기가 치환된 트리아진계 유도체는 UV-B(280-320 nm) 영역의 자외선을 차단하는 것을 특징으로 하는 반응성 자외선 안정제 조성물
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8
제 5항에 있어서,상기 자외선 안정제 조성물은 수지, 광학재료, 화장재료, 제약, 동물용 약품, 염료, 도료, 산화방지제, 벤조페논계 자외선 안정제, 벤조트리아졸계 자외선 안정제, HALS계 자외선 안정제 및 트리아진계 자외선 안정제로부터 선택되는 하나 또는 둘 이상의 혼합물을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반응성 자외선 안정제 조성물
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