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나노구조체와 이를 포함하는 광학소자 및 이들의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015001400
  • 담당센터 : 부산기술혁신센터
  • 전화번호 : 051-606-6561
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 나노구조체와 이를 포함하는 광학소자 및 이들의 제조방법에 관해 개시되어 있다. 개시된 나노구조체의 제조방법은 그래핀층 상에 블록공중합체 템플릿층 및 이와 결합된 금속의 전구체 패턴을 형성하는 단계와, 상기 블록공중합체 템플릿층을 제거하고 상기 전구체 패턴을 환원하여 상기 그래핀층 상에 상기 전구체 패턴으로부터 환원된 금속 나노 패턴을 형성하는 단계를 포함할 수 있다. 상기 블록공중합체 템플릿층은 상기 그래핀층에 직접 접촉하도록 형성될 수 있다. 상기 블록공중합체 템플릿층의 형태를 변형하는 단계를 더 수행할 수 있다. 다성분 블록공중합체 및 다성분 금속 전구체를 이용해서 다성분 금속 나노 패턴 어레이를 형성할 수 있다.
Int. CL B82B 3/00 (2017.01.01) G01J 1/00 (2006.01.01) H01L 31/10 (2006.01.01)
CPC
출원번호/일자 1020130016058 (2013.02.14)
출원인 삼성전자주식회사, 울산과학기술원
등록번호/일자 10-2059130-0000 (2019.12.18)
공개번호/일자 10-2014-0102566 (2014.08.22) 문서열기
공고번호/일자 (20191224) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2018.02.06)
심사청구항수 17

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 삼성전자주식회사 대한민국 경기도 수원시 영통구
2 울산과학기술원 대한민국 울산광역시 울주군

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김언정 대한민국 경기 화성시 영통로**번길 **,
2 김진은 대한민국 경기 수원시 영통구
3 노영근 대한민국 서울 송파구
4 박수진 대한민국 울산 남구
5 박연상 대한민국 서울 동작구
6 유승민 대한민국 울산 동구
7 이장원 대한민국 서울 강남구
8 이재숭 대한민국 경기 수원시 장안구
9 천상모 대한민국 경기 부천시 소사구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 리앤목특허법인 대한민국 서울 강남구 언주로 **길 **, *층, **층, **층, **층(도곡동, 대림아크로텔)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 삼성전자주식회사 경기도 수원시 영통구
2 울산과학기술원 울산광역시 울주군
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2013.02.14 수리 (Accepted) 1-1-2013-0135259-81
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.12.31 수리 (Accepted) 4-1-2015-5176347-51
3 [출원인변경]권리관계변경신고서
[Change of Applicant] Report on Change of Proprietary Status
2016.02.05 수리 (Accepted) 1-1-2016-0129624-61
4 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2016.04.20 불수리 (Non-acceptance) 1-1-2016-0379327-57
5 서류반려이유통지서
Notice of Reason for Return of Document
2016.04.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2016-0062297-12
6 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2016.04.28 수리 (Accepted) 1-1-2016-0410349-24
7 서류반려통지서
Notice for Return of Document
2016.06.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2016-0088681-40
8 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2018.02.06 수리 (Accepted) 1-1-2018-0129339-22
9 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2019.05.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0353944-60
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2019.07.17 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2019-0734700-72
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2019.07.17 수리 (Accepted) 1-1-2019-0734699-13
12 등록결정서
Decision to grant
2019.09.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0689461-55
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.07.03 수리 (Accepted) 4-1-2020-5148444-43
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.08.20 수리 (Accepted) 4-1-2020-5186266-03
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
그래핀층을 마련하는 단계; 상기 그래핀층 상에 직접 접촉된 블록공중합체 템플릿층 및 이와 결합된 금속의 전구체 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 블록공중합체 템플릿층을 제거하고 상기 전구체 패턴을 환원하여, 상기 그래핀층 상에 상기 전구체 패턴으로부터 환원된 금속 나노 패턴을 형성하는 단계;를 포함하며,상기 블록공중합체 템플릿층 및 이와 결합된 금속의 전구체 패턴을 형성하는 단계에서는 블록공중합체와 금속의 전구체를 포함하는 고분자 용액을 상기 그래핀층 상에 도포함으로써, 상기 블록공중합체 템플릿층과 상기 금속의 전구체 패턴을 상기 그래핀층 상에 동시에 형성하는, 나노구조체의 제조방법
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 블록공중합체 템플릿층은 소수성의 제1 폴리머 및 친수성의 제2 폴리머를 포함하는 블록공중합체를 소수성 용매에 혼합한 고분자 용액을 이용해서 형성하는 나노구조체의 제조방법
3 3
제 2 항에 있어서, 상기 블록공중합체는 PS-b-P4VP, PS-b-P2VP, PS-b-PEO, PS-b-PAA, PI-b-P4VP, PI-b-P2VP, PI-b-PEO, PI-b-PAA, PMMA-b-P4VP, PMMA-b-P2VP, PMMA-b-PEO, PMMA-b-PAA, PS-b-PMA, PS-b-PMMA, PI-b-PMA, PI-b-PMMA, PMMA-b-PMA, PS-b-PS-OH 및 PI-b-PS-OH 중 어느 하나를 포함하는 나노구조체의 제조방법
4 4
제 2 항 또는 제 3 항에 있어서, 상기 소수성 용매는 톨루엔(toluene), 톨루엔/THF(tetrahydrofuran) 혼합액, 자일렌(xylene) 및 에틸벤젠(ethlybenzene) 중 어느 하나를 포함하는 나노구조체의 제조방법
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8 8
제 1 항에 있어서, 상기 블록공중합체 템플릿층을 제거하고 상기 전구체 패턴을 환원하는 단계는, 상기 블록공중합체 템플릿층 및 상기 전구체 패턴을 플라즈마로 처리하는 단계를 포함하는 나노구조체의 제조방법
9 9
제 8 항에 있어서, 상기 플라즈마는 수소 또는 산소의 플라즈마인 나노구조체의 제조방법
10 10
제 1 항에 있어서, 상기 블록공중합체 템플릿층은 마이셀(micelle) 구조로 형성되는 나노구조체의 제조방법
11 11
제 10 항에 있어서, 상기 금속 나노 패턴은 도트(dot) 패턴으로 형성되는 나노구조체의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 금속 나노 패턴은 플라즈모닉(plasmonic) 나노구조체인 나노구조체의 제조방법
17 17
청구항 1에 기재된 방법으로 그래핀층 상에 금속 나노 패턴이 구비된 나노구조체를 형성하는 단계; 및상기 나노구조체에 접촉된 제1 및 제2 전극을 형성하는 단계;를 포함하는 광학소자의 제조방법
18 18
제 17 항에 있어서, 상기 광학소자는 플라즈모닉 광검출기(plasmonic photodetector)인 광학소자의 제조방법
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21 21
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22 22
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23 23
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24 24
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26 26
하지층을 마련하는 단계; 상기 하지층 상에 다성분 블록공중합체 템플릿층 및 이와 결합된 다성분 금속 전구체 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 다성분 블록공중합체 템플릿층을 제거하고 상기 다성분 금속 전구체 패턴을 환원하여, 상기 하지층 상에 상기 다성분 금속 전구체 패턴으로부터 환원된 다성분 금속 나노 패턴을 형성하는 단계; 를 포함하며,상기 다성분 블록공중합체 템플릿층 및 이와 결합된 다성분 금속 전구체 패턴을 형성하는 단계는, 제1 블록공중합체 및 이와 결합된 제1 금속 전구체를 포함하는 제1 용액을 마련하는 단계; 제2 블록공중합체 및 이와 결합된 제2 금속 전구체를 포함하는 제2 용액을 마련하는 단계; 상기 제1 용액과 상기 제2 용액을 혼합하여 혼합용액을 마련하는 단계; 및 상기 혼합용액을 상기 하지층 상에 도포하는 단계; 를 포함하는 나노구조체의 제조방법
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제 26 항에 있어서, 상기 하지층은 그래핀을 포함하는 나노구조체의 제조방법
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제 26 항에 있어서, 상기 다성분 블록공중합체 템플릿층을 제거하고 상기 다성분 금속 전구체 패턴을 환원하는 단계는, 상기 다성분 블록공중합체 템플릿층 및 상기 다성분 금속 전구체 패턴을 플라즈마로 처리하는 단계를 포함하는 나노구조체의 제조방법
32 32
제 26 항에 있어서, 상기 다성분 금속 나노 패턴은 플라즈모닉(plasmonic) 나노구조체인 나노구조체의 제조방법
33 33
청구항 26에 기재된 방법으로 그래핀층 상에 다성분 금속 나노 패턴이 구비된 나노구조체를 형성하는 단계; 및상기 나노구조체에 접촉된 제1 및 제2 전극을 형성하는 단계;를 포함하는 광학소자의 제조방법
34 34
제 33 항에 있어서, 상기 광학소자는 플라즈모닉 다대역 광검출기(plasmonic multi-band photodetector)인 광학소자의 제조방법
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1 US09029252 US 미국 FAMILY
2 US20140225067 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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1 US2014225067 US 미국 DOCDBFAMILY
2 US9029252 US 미국 DOCDBFAMILY
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