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(a) 메조세공을 가지는 실리카에 자성입자 형성을 위한 금속 전구체를 로딩(loading)하는 단계;(b) 상기 전구체가 로딩된 실리카를 환원 분위기 하에서 가열한 후 탄소원 가스를 이용한 화학기상증착(chemical vapor deposition; CVD)에 의하여 카본을 증착함으로써 상기 실리카의 메조세공에 내포된 자성 입자 코어/카본 쉘 나노입자를 포함하는 자성 무기 복합체를 형성하는 단계; 및 (c) 상기 실리카를 제거하는 단계를 포함하는 자성 무기 복합체 나노입자의 제조 방법으로서,제조된 상기 자성 무기 복합체 나노입자의 직경의 표준편차가 10% 이하이고, 단일상의 체심 입방 구조를 가지는 것인,자성 무기 복합체 나노입자의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 메조세공을 가지는 실리카는 MCM-41, SBA-15 또는 MSU-H를 포함하는 것인, 자성 무기 복합체 나노입자의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 자성 입자는 철, 망간, 크롬, 코발트, 니켈, 구리, 아연, 사마륨, 가돌리늄, 네오디뮴, 유로퓸, 바륨, 백금, 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택되는 것을 포함하는 금속, 합금, 산화물, 인화물, 또는 황화물을 포함하는 것인, 자성 무기 복합체 나노입자의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 증착된 카본은 탄소나노튜브, 흑연, 그래핀, 활성탄, 또는 카본블랙을 포함하는 것인, 자성 무기 복합체 나노입자의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 메조세공을 가지는 실리카에 상기 자성입자 형성을 위한 금속 전구체를 로딩하는 것은, 상기 전구체를 함유하는 용액에 상기 실리카를 함침(impregnation)시키는 것을 포함하는 것인, 자성 무기 복합체 나노입자의 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 메조세공을 가지는 실리카의 입자 크기가 10 nm 내지 5 mm인, 자성 무기 복합체 나노입자의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 자성입자의 크기는 1 nm 내지 10 nm인, 자성 무기 복합체 나노입자의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 자성입자는 Fe/Co 복합 나노입자를 포함하는 것인, 자성 무기 복합체 나노입자의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 환원 분위기는 수소 기체, 아르곤 기체, 헬륨 기체, 질소 기체, 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택되는 가스를 포함하는 것인, 자성 무기 복합체 나노입자의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 탄소원 가스는 메탄 기체, 에틸렌 기체, 에탄올 기체, 아세틸렌 기체, 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택되는 가스를 포함하는 것인, 자성 무기 복합체 나노입자의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 단계 (b)에서 상기 가열 온도는 500℃ 내지 1,000℃인, 자성 무기 복합체 나노입자의 제조 방법
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