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홀을 가지는 다공성 박막 및 그의 제조 방법
- 기술번호 : KST2015001608
- 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
- 전화번호 : 02-6124-6930
| 요약 | 본원은, 홀을 가지는 다공성 박막으로서, 상기 홀은 상기 박막의 상부 및/또는 하부에 형성되어 있으며 상기 홀은 상기 박막의 기공과 연결되어 있는 것인 홀을 가지는 다공성 박막, 및 입자의 정렬층을 주형으로서 이용하는 것을 포함하는 상기 홀을 가지는 다공성 박막의 제조 방법에 관한 것이다. |
|---|---|
| Int. CL | B01D 71/04 (2006.01) B29C 67/20 (2006.01) B82B 3/00 (2006.01) B01D 67/00 (2006.01) |
| CPC | |
| 출원번호/일자 | 1020100080868 (2010.08.20) |
| 출원인 | 서강대학교산학협력단 |
| 등록번호/일자 | 10-1420232-0000 (2014.07.10) |
| 공개번호/일자 | 10-2012-0017917 (2012.02.29) 문서열기 |
| 공고번호/일자 | (20140721) 문서열기 |
| 국제출원번호/일자 | |
| 국제공개번호/일자 | |
| 우선권정보 | |
| 법적상태 | 소멸 |
| 심사진행상태 | 수리 |
| 심판사항 | |
| 구분 | 신규 |
| 원출원번호/일자 | |
| 관련 출원번호 | |
| 심사청구여부/일자 | Y (2014.02.19) |
| 심사청구항수 | 39 |
출원인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 서강대학교산학협력단 | 대한민국 | 서울특별시 마포구 |
발명자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 윤경병 | 대한민국 | 서울특별시 종로구 |
| 2 | 김현성 | 대한민국 | 경기도 안양시 만안구 |
| 3 | 홍면표 | 대한민국 | 서울특별시 마포구 |
| 4 | 하나비 | 대한민국 | 서울특별시 관악구 |
대리인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 특허법인엠에이피에스 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 테헤란로*길 **, *층 (역삼동, 한동빌딩) |
최종권리자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 서강대학교산학협력단 | 서울특별시 마포구 |
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2010.08.20 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0538102-15 |
| 2 | [출원서등 보정]보정서 [Amendment to Patent Application, etc.] Amendment |
2010.12.30 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0875255-41 |
| 3 | [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서 [Appointment of Agent] Report on Agent (Representative) |
2011.02.08 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0089013-74 |
| 4 | [심사청구]심사청구(우선심사신청)서 [Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination) |
2014.02.19 | 수리 (Accepted) | 1-1-2014-0162149-24 |
| 5 | [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서 [Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination) |
2014.03.04 | 수리 (Accepted) | 1-1-2014-0213551-51 |
| 6 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2014.03.26 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2014-0211999-91 |
| 7 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2014.05.26 | 수리 (Accepted) | 1-1-2014-0491432-79 |
| 8 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2014.05.26 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2014-0491433-14 |
| 9 | 등록결정서 Decision to grant |
2014.05.30 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2014-0376904-44 |
| 10 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2017.01.11 | 수리 (Accepted) | 4-1-2017-5005781-67 |
| 11 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.01.22 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5014626-89 |
| 번호 | 청구항 |
|---|---|
| 1 |
1 제 1 기재(substrate) 상에 입자의 정렬층을 형성하는 단계; 상기 입자의 정렬층이 형성된 제 1 기재와 제 2 기재를 접촉시켜 상기 입자의 정렬층을 제 2 기재로 전사(transfer)하는 단계; 상기 제 2 기재 상에 전사된 상기 입자의 정렬층을 제 1 박막 형성 물질로 코팅하여 입자-제 1 박막 복합체를 형성하는 단계; 및상기 입자-제 1 박막 복합체 중 상기 코팅된 제 1 박막의 일부를 제거하여 복수의 홀(hole)을 형성한 후 상기 홀을 통하여 상기 입자를 제거하는 단계:를 포함하는, 홀(hole)을 가지는 다공성 박막의 제조 방법 |
| 2 |
2 제 1 항에 있어서, 상기 입자를 제거하는 단계는,상기 제 1 박막의 일부를 에칭(etching)하여 복수의 홀을 형성함으로써 상기 홀을 통하여 상기 입자 각각의 일부를 노출시키고;상기 홀을 통하여 상기 노출된 입자를 제거하는 것: 을 포함하는 것인, 홀을 가지는 다공성 박막의 제조 방법 |
| 3 |
3 제 1 항에 있어서, 상기 홀은 2 차원적으로 규칙적으로 배열되어 있는 것인, 홀을 가지는 다공성 박막의 제조 방법 |
| 4 |
4 제 1 항에 있어서, 상기 입자의 크기는 10 nm 내지 100 ㎛ 인, 홀을 가지는 다공성 박막의 제조 방법 |
| 5 |
5 제 1 항에 있어서, 상기 입자의 정렬층은 상기 입자의 단일층(monolayer) 또는 복수층(multilayer)을 포함하는 것인, 홀을 가지는 다공성 박막의 제조 방법 |
| 6 |
6 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 기재는 그의 표면에 형성된 제 1 음각 또는 제 1 양각의 패턴을 가지는 것인, 홀을 가지는 다공성 박막의 제조 방법 |
| 7 |
7 제 6 항에 있어서, 상기 제 1 기재 상에 입자의 정렬층을 형성하는 단계는, 상기 제 1 기재 상에 복수의 입자를 올린 후 물리적 압력에 의하여 상기 입자들의 일부 또는 전부를 상기 제 1 음각 또는 상기 제 1 양각에 의해 형성된 공극(孔隙)에 삽입시켜 상기 제 1 기재 상에 상기 입자의 정렬층을 형성하는 것을 포함하는 것인, 홀을 가지는 다공성 박막의 제조 방법 |
| 8 |
8 제 7 항에 있어서, 상기 물리적 압력은 문지르기(rubbing) 또는 누르기(pressing against substrate)에 의해 가해지는 것인, 홀을 가지는 다공성 박막의 제조 방법 |
| 9 |
9 제 8 항에 있어서, 상기 문지르기(rubbing)는, 제 1 부재를 사용하여 상기 제 1 기재 상에 놓여진 상기 입자에 물리적 압력을 가한 상태에서 상기 제 1 기재와 평행한 방향으로 왕복운동을 적어도 1회 이상 수행하는 것을 포함하는 것인, 홀을 가지는 다공성 박막의 제조 방법 |
| 10 |
10 제 9 항에 있어서, 상기 문지르기를 수행한 후 점착성을 포함하는 제 2 부재를 이용하여 상기 정렬층을 형성한 입자를 제외한 나머지 입자를 제거하는 것을 추가 포함하는, 홀을 가지는 다공성 박막의 제조 방법 |
| 11 |
11 제 6 항에 있어서,상기 제 1 기재 상에 형성된 상기 제 1 음각 또는 상기 제 1 양각에 의해 형성된 공극의 형상은 상기 입자의 배향을 조절하기 위해 상기 공극 내에 삽입되는 상기 입자의 소정 부분의 형상과 대응되는 형상을 가지는 것인, 홀을 가지는 다공성 박막의 제조 방법 |
| 12 |
12 제 6 항에 있어서,상기 제 1 기재 상에 형성된 상기 제 1 음각 또는 상기 제 1 양각에 의해 형성된 공극은 나노우물(nanowell), 나노점(nanodot), 나노막대(nanorod), 나노기둥(nanocolumn), 나노도랑(nanotrench) 또는 나노원뿔(nanocone)의 형태를 포함하는 것인, 홀을 가지는 다공성 박막의 제조 방법 |
| 13 |
13 제 6 항에 있어서, 상기 제 1 기재 상에 형성된 상기 제 1 음각 또는 상기 제 1 양각에 의해 형성된 공극은 두 가지 이상의 상이한 크기 또는 형상을 가지거나, 또는 상이한 크기 및 형상을 가지는 것인, 홀을 가지는 다공성 박막의 제조 방법 |
| 14 |
14 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 기재와 상기 제 2 기재를 접촉시키기 전에, 상기 제 2 기재의 표면에 점착층을 형성하는 것을 추가로 포함하는, 홀을 가지는 다공성 박막의 제조 방법 |
| 15 |
15 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 기재(substrate) 상에 입자의 정렬층을 형성하는 단계 전에, 상기 제 1 기재 상에 점착층을 형성하는 것을 추가 포함하는, 홀을 가지는 다공성 박막의 제조 방법 |
| 16 |
16 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 기재 상에 정렬된 상기 입자는 인접한 입자와 접촉 또는 이격되어 있는 것인, 홀을 가지는 다공성 박막의 제조 방법 |
| 17 |
17 제 1 항에 있어서, 상기 형성된 홀을 가지는 다공성 박막을 상기 제 2 기재로부터 분리하는 것을 추가로 포함하는, 홀을 가지는 다공성 박막의 제조 방법 |
| 18 |
18 제 17 항에 있어서, 상기 제 2 기재 상에서 분리된 상기 홀을 가지는 다공성 박막을, 상기 홀 보다 더 큰 홀(hole)을 가지는 지지 기판으로 전사하는 것을 추가 포함하는, 홀을 가지는 다공성 박막의 제조 방법 |
| 19 |
19 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 박막 상에 한 개 이상의 추가 박막을 형성하는 것을 더 포함하는, 홀을 가지는 다공성 박막의 제조 방법 |
| 20 |
20 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 기재 또는 상기 제 2 기재는 유리, 용융 실리카(fused silica) 웨이퍼, 실리콘 웨이퍼 또는 포토레지스트를 포함하는 것인, 홀을 가지는 다공성 박막의 제조 방법 |
| 21 |
21 제 1 항에 있어서, 상기 입자는 유기 고분자, 무기 고분자, 무기물, 금속, 자성체, 반도체, 생체물질 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 것을 포함하는 것인, 홀을 가지는 다공성 박막의 제조 방법 |
| 22 |
22 제 14 항 또는 제 15 항에 있어서, 상기 점착층은 (i) -NH2 기를 갖는 화합물, (ⅱ) -SH 기를 갖는 화합물 (ⅲ) -OH 기를 갖는 화합물, (ⅳ) 고분자전해질, (ⅴ) 폴리스티렌, (ⅴi) 포토레지스트 및 이들의 조합으로 구성된 군에서 선택된 화합물을 포함하는 것인, 홀을 가지는 다공성 박막의 제조 방법 |
| 23 |
23 제 1 항에 있어서, 상기 입자는 다공성 또는 비다공성을 가진 입자를 포함하는 것인, 홀을 가지는 다공성 박막의 제조 방법 |
| 24 |
24 제 1 항에 있어서, 상기 입자는 대칭성 또는 비대칭성 모양을 가지는 것인, 홀을 가지는 다공성 박막의 제조 방법 |
| 25 |
25 제 1 항에 있어서, 상기 박막은 유기 박막, 무기 박막 또는 유기-무기 하이브리드 박막을 포함하는 것인, 홀을 가지는 다공성 박막의 제조 방법 |
| 26 |
26 제 1 항에 있어서, 상기 단계들을 반복하여 홀을 가지는 다공성 박막 복수 개를 형성한 후 상기 박막들을 적층하여 홀을 가지는 다공성 다층 박막을 형성하는 것을 추가 포함하는, 홀을 가지는 다공성 박막의 제조 방법 |
| 27 |
27 제 26 항에 있어서, 상기 다공성 다층 박막의 각 박막이 가지는 홀의 크기 및 상기 홀의 배열 방식은 동일하거나 서로 상이한 것인, 홀을 가지는 다공성 박막의 제조 방법 |
| 28 |
28 제 1 음각 또는 제 1 양각이 표면에 형성된 제 1 기재를 준비하는 단계; 상기 제 1 기재 상에 복수의 입자를 올린 후 물리적 압력에 의하여 상기 입자들의 일부 또는 전부를 상기 제 1 음각 또는 상기 제 1 양각에 의해 형성된 공극(孔隙)에 삽입시켜 상기 제 1 기재 상에 상기 입자의 정렬층을 형성하는 단계;상기 입자들의 정렬층이 형성된 상기 제 1 기재와 제 2 기재를 접촉시켜 상기 상기 입자의 정렬층을 상기 제 2 기재로 전사(transfer)하는 단계; 상기 제 2 기재 상에 전사된 상기 입자들의 정렬층을 고분자로 코팅하여 입자-고분자 복합체 박막을 형성하는 단계; 및상기 입자-고분자 복합체 박막 중 상기 코팅된 고분자의 일부를 제거하여 복수의 홀(hole)을 형성한 후 상기 홀을 통하여 상기 입자를 제거하는 단계:를 포함하는, 홀(hole)을 가지는 박막의 제조 방법 |
| 29 |
29 제 1 음각 또는 제 1 양각이 표면에 형성된 제 1 기재를 준비하는 단계; 상기 제 1 기재 상에 복수의 입자를 올린 후 물리적 압력에 의하여 상기 입자들의 일부 또는 전부를 상기 제 1 음각 또는 상기 제 1 양각에 의해 형성된 공극(孔隙)에 삽입시켜 상기 제 1 기재 상에 상기 입자의 정렬층을 형성하는 단계;표면에 점착층이 형성되어 있는 제 2 기재를 준비하는 단계;상기 입자들의 정렬층이 형성된 상기 제 1 기재와, 상기 제 2 기재의 점착층과 접촉시켜 상기 입자의 정렬층을 상기 제 2 기재로 전사(transfer)하는 단계; 상기 제 2 기재 상에 전사된 상기 입자들의 정렬층을 고분자로 코팅하여 입자-고분자 복합체 박막을 형성하는 단계;상기 제 2 기재 상에 형성된 상기 점착층을 제거하여 상기 입자-고분자 복합체 박막을 분리함으로써 상기 입자-고분자 복합체 박막의 하부에 상기 입자의 일부가 노출되도록 하는 홀을 형성한 후 상기 홀이 제 3 기재 표면에 접하도록 상기 입자-고분자 복합체 박막을 제 3 기재 상으로 전사하는 단계; 및상기 입자-고분자 복합체 박막의 상부의 코팅된 고분자의 일부를 제거하여 복수의 홀(hole)을 형성한 후 상기 홀을 통하여 상기 입자를 제거하는 단계:를 포함하는, 홀(hole)을 가지는 박막의 제조 방법 |
| 30 |
30 홀을 가지는 다공성 박막으로서,상기 홀은 상기 박막의 상부 또는 하부에 형성되어 있거나, 또는 상부 및 하부에 형성되어 있으며, 상기 홀은 상기 박막 내부의 기공과 연결되어 있는 것인, 홀을 가지는 다공성 박막 |
| 31 |
31 제 30 항에 있어서,상기 홀은 상기 박막의 기공을 관통하도록 형성되어 있는 것인, 홀을 가지는 다공성 박막 |
| 32 |
32 제 30 항에 있어서,상기 홀은 2차원적으로 규칙적으로 배열되어 있는 것인, 홀을 가지는 다공성 박막 |
| 33 |
33 제 30 항에 있어서,상기 박막은 유기 박막, 무기 박막 또는 유기-무기 하이브리드 박막을 포함하는 것인, 홀을 가지는 다공성 박막 |
| 34 |
34 제 30 항에 있어서,상기 홀의 크기는 상기 박막의 기공의 크기보다 작은 것인, 홀을 가지는 다공성 박막 |
| 35 |
35 제 30 항에 있어서,상기 박막의 기공의 크기는 10 nm 내지 100 ㎛ 인, 홀을 가지는 다공성 박막 |
| 36 |
36 제 30 항에 있어서,상기 홀을 가지는 다공성 박막은 형상 또는 크기가 서로 상이하거나, 또는 형상 및 크기가 서로 상이한 2종류 이상의 기공을 가지는 것인, 홀을 가지는 다공성 박막 |
| 37 |
37 제 30 항에 있어서, 상기 박막은 상기 홀을 가지는 다공성 박막 2 개 이상이 서로 적층되어 있는 홀을 가지는 다공성 다층 박막을 포함하는, 홀을 가지는 다공성 박막 |
| 38 |
38 제 37 항에 있어서, 상기 홀을 가지는 다공성 다층 박막에 있어서, 각 층을 구성하는 홀들은 서로 관통되어 있는 것인, 홀을 가지는 다공성 박막 |
| 39 |
39 제 37 항에 있어서,상기 홀을 가지는 다공성 다층 박막의 각 박막이 가지는 홀의 모양 또는 크기는 각각 서로 동일하거나 상이한 것인, 홀을 가지는 다공성 박막 |
| 지정국 정보가 없습니다 |
|---|
| 순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
|---|---|---|---|---|
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DOCDB 패밀리 정보
| 순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | CN103079989 | CN | 중국 | DOCDBFAMILY |
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| 9 | WO2012023724 | WO | 세계지적재산권기구(WIPO) | DOCDBFAMILY |
| 순번 | 연구부처 | 주관기관 | 연구사업 | 연구과제 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | 교육과학기술부 | 서강대학교산학협력단 | 기후변화대응기술개발산업-기초원천기술개발산업 | 인공광합성 구현과 실용화를 위한 기초과학확보 및 원천기술 개발 |
| 2 | 교육과학기술부 | 서강대학교산학협력단 | 도약연구지원사업 | 마이크로 결정의 조직화 및 응용 |
- 본 등록정보는 참고용으로 법적증빙자료로 사용할 수 없습니다.
- 데이터 이관에 따른 소요기간(1일)으로 인하여 등록원부와 일부 차이가 발생할 수 있으며, 일부 정보(부기, 상세 주소 등)를 제공하지 않고 있습니다.
- 법적증빙자료로 활용하시거나 더 자세한 정보를 보시려면 등록원부를 발급받아 사용하시기 바랍니다.
| 특허 등록번호 | 10-1420232-0000 |
|---|
권리란
| 표시번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
출원 연월일 : 20100820 출원 번호 : 1020100080868 공고 연월일 : 20140721 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20140530 청구범위의 항수 : 39 유별 : B82B 3/00 발명의 명칭 : 홀을 가지는 다공성 박막 및 그의 제조 방법 존속기간(예정)만료일 : 20190711 |
특허권자란
| 순위번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
(권리자) 서강대학교산학협력단 서울특별시 마포구... |
등록료란
| 제 1 - 3 년분 | 금 액 | 783,000 원 | 2014년 07월 11일 | 납입 |
| 제 4 년분 | 금 액 | 647,450 원 | 2017년 07월 19일 | 납입 |
| 제 5 년분 | 금 액 | 449,000 원 | 2018년 07월 02일 | 납입 |
- 본 '원본보기 서비스'는 참고용이므로, 일부 오류 및 누락이 발생할 수 있습니다.
- 정확한 서류를 확인하시려면 해당 웹사이트에서 조회하시기 바랍니다. (특허로 바로가기: http://www.patent.go.kr)
- 해당 서비스는 점검으로 인해 매주 일요일 00:00 ~ 02:00까지 이용이 중단됩니다.
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 | 2010.08.20 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0538102-15 |
| 2 | [출원서등 보정]보정서 | 2010.12.30 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0875255-41 |
| 3 | [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서 | 2011.02.08 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0089013-74 |
| 4 | [심사청구]심사청구(우선심사신청)서 | 2014.02.19 | 수리 (Accepted) | 1-1-2014-0162149-24 |
| 5 | [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서 | 2014.03.04 | 수리 (Accepted) | 1-1-2014-0213551-51 |
| 6 | 의견제출통지서 | 2014.03.26 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2014-0211999-91 |
| 7 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2014.05.26 | 수리 (Accepted) | 1-1-2014-0491432-79 |
| 8 | [명세서등 보정]보정서 | 2014.05.26 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2014-0491433-14 |
| 9 | 등록결정서 | 2014.05.30 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2014-0376904-44 |
| 10 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2017.01.11 | 수리 (Accepted) | 4-1-2017-5005781-67 |
| 11 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.01.22 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5014626-89 |
| 기술번호 | KST2015001608 |
|---|---|
| 자료제공기관 | NTB |
| 기술공급기관 | 서강대학교 |
| 기술명 | 홀을 가지는 다공성 박막 및 그의 제조 방법 |
| 기술개요 |
본원은, 홀을 가지는 다공성 박막으로서, 상기 홀은 상기 박막의 상부 및/또는 하부에 형성되어 있으며 상기 홀은 상기 박막의 기공과 연결되어 있는 것인 홀을 가지는 다공성 박막, 및 입자의 정렬층을 주형으로서 이용하는 것을 포함하는 상기 홀을 가지는 다공성 박막의 제조 방법에 관한 것이다. |
| 개발상태 | 기술개발완료 |
| 기술의 우수성 | |
| 응용분야 | 다공성 박막제조 |
| 시장규모 및 동향 | |
| 희망거래유형 | 기술매매,라이센스,기술협력,기술지도, |
| 사업화적용실적 | |
| 도입시고려사항 |
| 과제고유번호 | 1345124938 |
|---|---|
| 세부과제번호 | 2007-0054921 |
| 연구과제명 | 마이크로 결정의 조직화 및 응용 |
| 성과구분 | 출원 |
| 부처명 | 교육과학기술부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
| 연구주관기관명 | 서강대학교 산학협력단 |
| 성과제출연도 | 2010 |
| 연구기간 | 200705~201202 |
| 기여율 | 0.33333334 |
| 연구개발단계명 | 기초연구 |
| 6T분류명 | NT(나노기술) |
| 과제고유번호 | 1345128030 |
|---|---|
| 세부과제번호 | 2009-0093886 |
| 연구과제명 | 나노 입자 조직화, 고성능 분자 분리막 개발 및 디바이스 제작 |
| 성과구분 | 출원 |
| 부처명 | 교육과학기술부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
| 연구주관기관명 | 서강대학교 산학협력단 |
| 성과제출연도 | 2010 |
| 연구기간 | 200909~201909 |
| 기여율 | 0.33333334 |
| 연구개발단계명 | 기초연구 |
| 6T분류명 | NT(나노기술) |
| 과제고유번호 | 1350021132 |
|---|---|
| 세부과제번호 | R16-1998-005-01001-0 |
| 연구과제명 | 분자끈을이용한미세입자의접합및조직화연구 |
| 성과구분 | 출원 |
| 부처명 | 교육과학기술부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국과학재단 |
| 연구주관기관명 | 서강대학교 |
| 성과제출연도 | 2006 |
| 연구기간 | 199810~200705 |
| 기여율 | 0.33333334 |
| 연구개발단계명 | 기초연구 |
| 6T분류명 | NT(나노기술) |
특허성과
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중요키워드
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