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금속 기재 상부에 그래핀을 성장시켜 그래핀층을 형성하는 1단계;상기 그래핀층 상에 투명 전도성층을 형성하는 2단계;제1 기판 상에 열 또는 자외선에 의해 경화되는 수지를 도포하여 경화층을 형성하는 3단계;상기 투명 전도성층 및 경화층을 접합한 후, 상기 경화층을 열 또는 자외선 조사를 통해 경화시키는 4단계; 및상기 금속 기재를 제거하는 5단계를 포함하고, 상기 투명 전도성층은 ITO(indium tin oxide), IZO(indium zinc oxide), FTO(F-doped tin oxide), ATO(antimony tin oxide), AZO(ZnO:Al), GZO(ZnO:Ga), a-IGZO(In2O3:Ga2O3:ZnO), MgIn2O4, Zn2SnO4, ZnSnO3, (Ga,In)2O3, Zn2In2O5, InSn3O12, In2O3, SnO2, Cd2SnO4, CdSnO3 및 CdIn2O4 중에서 선택되는 1 이상의 금속산화물이거나, Cu, Al, Sn, Ni, W, Ti, Cr, Co, Zn, Ta, V, Au, Ag, TiN 및 Pt 중에서 선택되는 1 이상의 금속이거나, Cu 나노와이어 또는 Ag 나노와이어로 형성되는 그래핀 기반 적층체 제조방법
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청구항 1에 있어서, 상기 경화층은 열가소성 수지 및 열경화제를 포함하는 열경화층이거나,아크릴레이트 모노머, 아크릴레이트 올리고머 및 자외선 경화제를 포함하는 자외선 경화층인 그래핀 기반 적층체 제조방법
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청구항 3에 있어서, 상기 1단계 및 2단계 사이에, 상기 그래핀층 상에 보호층을 형성하는 단계를 더 포함하는 그래핀 기반 적층체 제조방법
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청구항 1, 청구항 3 및 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서, 롤투롤(Roll to Roll) 공정을 이용하여 상기 제1 기판을 제거함과 동시에 상기 그래핀층을 제2 기판 상에 전사시키는 6단계를 더 포함하는 그래핀 기반 적층체 제조방법
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청구항 1, 청구항 3 및 청구항 4 중 어느 한 항에 따른 그래핀 기반 적층체 제조방법에 의해 제조되는 그래핀 기반 적층체
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그래핀층; 투명 전도성층; 경화층 및 기재가 순차적으로 적층된 구조를 가지고, 상기 투명 전도성층은 ITO(indium tin oxide), IZO(indium zinc oxide), FTO(F-doped tin oxide), ATO(antimony tin oxide), AZO(ZnO:Al), GZO(ZnO:Ga), a-IGZO(In2O3:Ga2O3:ZnO), MgIn2O4, Zn2SnO4, ZnSnO3, (Ga,In)2O3, Zn2In2O5, InSn3O12, In2O3, SnO2, Cd2SnO4, CdSnO3 및 CdIn2O4 중에서 선택되는 1 이상의 금속산화물이거나, Cu, Al, Sn, Ni, W, Ti, Cr, Co, Zn, Ta, V, Au, Ag, TiN 및 Pt 중에서 선택되는 1 이상의 금속이거나, Cu 나노와이어 또는 Ag 나노와이어로 형성되고, 상기 경화층은 열가소성 수지 및 열경화제를 포함하는 열경화층이거나, 아크릴레이트 모노머, 아크릴레이트 올리고머 및 자외선 경화제를 포함하는 자외선 경화층인 그래핀 기반 적층체
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청구항 7에 있어서, 상기 그래핀층 및 투명 전도성층 사이에 형성되는 보호층을 더 포함하는 그래핀 기반 적층체
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