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기체화하여 공급하고자 하는 액체를 주입한 저장부(20);상기 저장부(20)의 액체를 일정압력으로 가압하여 공급하는 정량공급수단(10);상기 정량공급수단(10)의 가압으로 액체가 공급되고, 공급된 액체를 가열하여 기체상태로 변환시키는 발열체(31)를 구비한 가열수단(30);상기 가열수단(30)에 이송가스를 일정유속으로 공급하는 이송부(50);상기 발열체(31)의 온도를 체크하는 온도센서(41)로 상기 발열체(31)의 온도를 일정하게 유지하는 온도컨트롤러(40);를 포함하여 구성하는 것을 특징으로 하는 정량 가스 공급장치
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제 1항에 있어서,상기 정량공급수단(10)은 주사기펌프 또는 정량펌프 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 정량 가스 공급장치
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제 1항에 있어서,상기 이송부(50)는 이송가스에 포함된 불순물을 여과하기 위한 필터(51)와, 가열수단(30)에 이송가스를 일정유속으로 공급하는 레귤레이터밸브(52)로 구성되는 것을 특징으로 하는 정량 가스 공급장치
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밀폐된 챔버(90);상기 챔버(90) 내부에 구비되며 저장된 액체를 일정량 공급하는 공급부(91);상기 액체를 공급받아 일정온도로 가열하여 기체로 변환시키는 수용부(92);를 포함하여 구성하되,상기 수용부(92)는 액체를 가열하기 위한 발열체(92a)와, 상기 수용부(92)의 온도를 체크하는 온도센서(41)와, 상기 온도센서(41)의 체크값으로 수용부의 온도를 일정하게 유지하도록 상기 발열체(92a)를 컨트롤하는 온도컨트롤러(40)를 더 구비하여 구성하는 것을 특징으로 하는 정량 가스공급장치
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제 4항에 있어서,상기 공급부(91)는 마이크로 피펫으로 구성하여 이루어진 것을 특징으로 하는 정량 가스공급장치
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기체 소요지의 공간과 상기 공간에 비례하여 소모되는 기체의 양을 설정하여 입력하는 단계(S10)와;상기 설정된 입력값에 따라 기체가 될 액상을 저장부에 주입하는 액상 주입단계(S20)와;상기 저장부에 주입된 액상을 상기 입력값에 대응하는 일정압력으로 가압하여 가열챔버에 공급하는 액상 가압단계(S30)와;상기 입력값에 대응하여 액상을 가열하여 기체화시키는 가열단계(S40); 및상기 기체를 소요지에 일정량 공급되도록 일정유속을 갖는 이송가스를 투입시키는 단계(S50);를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 정량 가스 공급방법
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제 6항에 있어서,상기 단계(S50)는 이송가스를 투입전 상기 이송가스에 포함되는 불순물을 여과하는 단계(S45)를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 정량 가스 공급방법
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