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플라즈마 반응장치에 있어서,중공의 반응로(10) 내부에 전극(20)이 돌출형성되고, 상기 전극(20)의 저면으로는 상기 반응로(10)의 내부로 액상원료를 분사시키기 위한 원료분사기구(50)가 결합되고, 상기 전극(20)에는 상기 원료분사기구(50)의 노즐(51)과 반응로(10)를 연통하는 유입로(30)가 형성되며, 상기 유입로(30)는 유입되는 원료가 회전류를 형성하며 진행될 수 있도록 반응로(10)의 내벽(11)면과 경사진 형태로 관통 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치의 액상원료 분사구조
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제 1 항에 있어서,상기 유입로(30)는 상기 반응로(10)의 측부에 다수 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치의 액상원료 분사구조
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플라즈마 반응장치에 있어서,중공의 반응로(10) 내부에 전극(20)이 돌출형성되고, 상기 반응로(10)의 측부에는 상기 반응로(10)의 내부로 액상원료를 분사시키기 위한 원료분사기구(50)가 연통 결합되고, 상기 원료분사기구(50)는 상기 반응로(10)의 내부로 분사되는 원료가 회전류를 형성하도록 상기 반응로(10)의 내부에 경사진 형태로 연통된 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치
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제 3 항에 있어서,상기 원료분사기구(50)는 상기 반응로(10)의 횡단면을 기준으로 방사형태로 다수개 배열되며, 각 원료분사기구(50)는 상호 엇갈리게 배열된 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치의 액상원료 분사구조
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제 3 항 또는 제 4 항에 있어서,상기 전극(20)의 측부에는 액상 원료의 유입을 위한 유입로(30)가 형성되고, 상기 유입로(30)에는 상기 원료분사기구(50)의 노즐(51)이 연통된 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치의 액상원료 분사구조
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제 1 항 또는 제 3 항에 있어서,상기 전극(20)은 상협하광의 원추 형태로 저면에는 원기둥이 연장 형성되고, 원추의 꼭지점과, 원추와 원기둥의 연결부분은 라운드 형성되되, 상기 원추와 원기둥의 연결지점은 길이 상향방향으로 점차 넓게 형성된 것을 특징으로 하는 가열수단을 구비하는 플라즈마 반응장치
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제 1 항 또는 제 3 항에 있어서,상기 반응로(10)의 측부에는 상기 반응로(10)의 내부로 기상 원료를 분사시키기 위한 다수개의 가스분사기구(60)들이 연통,결합되고, 상기 가스분사기구(60)들은 상기 반응로(10)의 횡단면을 기준으로 방사형태로 배열되며, 각 원료분사기구(50)는 상호 엇갈리게 배열된 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치의 액상원료 분사구조
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제 1항 또는 제 3항에 있어서,상기 전극(20)의 측부에는 기상 원료의 유입을 위한 기상유입로(31)가 형성되고, 상기 기상유입로(31)에는 상기 가스분사기구(60)의 가스노즐(61)이 연통된 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치의 액상원료 분사구조
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