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플라즈마 반응장치에 있어서,중공의 반응로(10)와; 상기 반응로(10) 내부에 플라즈마 반응을 위한 방전압을 형성시키기 위해 상기 반응로(10)의 내벽(11)과 일정거리 이격된 형태로 상기 반응로(10)의 저면으로 내입되는 원추형의 중심전극(20)을 포함하여 구성되고, 상기 반응로(10)의 내부에는 상기 중심전극(20)과 상기 반응로(10)의 내벽(11)간의 간격이 협소된 지점을 중심으로 그 하부측에 원료유입구간(50)이 형성되며, 상기 반응로(10)에는 원료를 유입하기 위한 원료유입로(30)와 반응물질을 배출시키기 위한 배출구(40)가 각각 형성되되, 상기 원료유입로(30)는 상기 원료유입구간(50)에 연통되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치
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제 1 항에 있어서,상기 중심전극(20)에는 상기 반응로(10) 내부로의 원료공급이 가능하게 중심전극유로(60)가 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치
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제 2 항에 있어서,상기 중심전극유로(60)는 상기 중심전극(20)의 저면과 상측에 입구(61)와 출구(62)가 각각 형성되며 상기 입구(61)로부터 상기 출구(62)까지 수직으로 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치
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제 2 항에 있어서,상기 중심전극유로(60)는 상기 중심전극(20)의 저면과 측부에 입구와 출구가 각각 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치
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제 4 항에 있어서, 상기 중심전극유로(60)에는 다수개의 출구가 형성되어 상기 중심전극유로는 상기 중심전극 내부에서 다수 갈래로 분지되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치
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제 5 항에 있어서,상기 출구들은 상호 높이차를 두고 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치
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제 6 항에 있어서,상기 출구들 중 상측의 출구들은 상기 반응로 내부의 원료유입구간 보다 상측에 위치하도록 형성되며, 상기 출구들 중 하측의 출구들은 상기 반응로 내부의 원료유입구간 상에 위치하도록 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치
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제 6 항에 있어서,상기 출구들은 모두 상기 반응로 내부의 원료유입구간 보다 상측에 위치하도록 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치
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제 6 항에 있어서,상기 출구들은 모두 상기 반응로 내부의 원료유입구간 상에 위치하도록 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치
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제 1 항에 있어서,상기 전극(20)은 상협하광의 원추 형태로 저면에는 원기둥이 연장 형성되고, 원추의 꼭지점과, 원추와 원기둥의 연결부분은 라운드 형성되되, 상기 원추와 원기둥의 연결지점은 길이 상향방향으로 점차 넓게 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치
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플라즈마 반응장치에 있어서,중공의 반응로(10)와; 상기 반응로(10) 내부에 플라즈마 반응을 위한 방전압을 형성시키기 위해 상기 반응로(10)의 내벽(11)과 일정거리 이격된 형태로 상기 반응로(10)의 천정면으로 내입되는 원추형의 중심전극(20)을 포함하여 구성되고, 상기 반응로(10)의 내부에는 상기 중심전극(20)과 상기 반응로(10)의 내벽(11)간의 간격이 협소된 지점을 중심으로 그 상부측에 원료유입구간(50)이 형성되며, 상기 반응로(10)에는 원료를 유입하기 위한 원료유입로(30)와 반응물질을 배출시키기 위한 배출구(40)가 각각 형성되되, 상기 원료유입로(30)와 배출구(40)는 상기 원료유입구간(50)에 연통가능하게 상기 반응로(10)의 상부측에 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치
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플라즈마 반응장치에 있어서,중공의 반응로(10)와; 상기 반응로(10) 내부에 플라즈마 반응을 위한 방전압을 형성시키기 위해 상기 반응로(10)의 내벽(11)과 일정거리 이격된 형태로 상기 반응로(10)의 천정면으로 내입되는 원추형의 중심전극(20)을 포함하여 구성되고, 상기 반응로(10)의 내부에는 상기 중심전극(20)과 상기 반응로(10)의 내벽(11)간의 간격이 협소된 지점을 중심으로 그 상부측에 원료유입구간(50)이 형성되며, 상기 반응로(10)에는 원료를 유입하기 위한 원료유입로(30)와 반응물질을 배출시키기 위한 배출구(40)가 각각 형성되되, 상기 원료유입로(30)는 상기 원료유입구간(50)에 연통가능하게 상기 반응로(10)의 상부측에 형성되며, 상기 배출구(40)는 상기 중심전극(20)의 저면에서 상측으로 수직되는 형태로 상기 중심전극(20)을 그 길이방향을 따라 관통하여 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치
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