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세라믹 입자의 자성체 코팅 방법

  • 기술번호 : KST2015003231
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 세라믹 입자의 자성체 코팅 방법이 개시된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 세라믹 입자의 자성체 코팅 방법은 세라믹 입자를 함유한 용액에 음이온성 고분자를 첨가하여, 음이온성 고분자를 상기 세라믹 입자에 흡착시키는 표면처리단계; 용액에 산화물 자성 전구체를 첨가하여, 산화물 자성 전구체를 세라믹 입자에 흡착시키는 자성 전구체 흡착 단계; 및 자성 전구체를 산화시켜 산화물 자성체를 상기 세라믹 입자 표면에 형성하는 코팅단계를 포함하고, 상기 각 단계는 하나의 반응 용기에 세라믹 입자, 음이온성 고분자 및 산화물 자성 전구체를 함께 넣어 연속적으로 이루어지는 것을 특징으로 한다.
Int. CL C04B 35/628 (2006.01) C04B 41/81 (2006.01)
CPC C04B 41/87(2013.01)
출원번호/일자 1020120155776 (2012.12.28)
출원인 전자부품연구원
등록번호/일자 10-1445120-0000 (2014.09.22)
공개번호/일자 10-2014-0085915 (2014.07.08) 문서열기
공고번호/일자 (20141006) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.12.28)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자기술연구원 대한민국 경기도 성남시 분당구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 임호선 대한민국 서울 중랑구
2 이우성 대한민국 경기 성남시 분당구
3 박성대 대한민국 서울 송파구
4 유명재 대한민국 서울 광진구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 남충우 대한민국 서울 강남구 언주로 ***, *층(역삼동, 광진빌딩)(알렉스국제특허법률사무소)
2 노철호 대한민국 경기도 성남시 분당구 판교역로 ***, 에스동 ***호(삼평동,에이치스퀘어)(특허법인도담)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자기술연구원 경기도 성남시 분당구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.12.28 수리 (Accepted) 1-1-2012-1087871-32
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.04.17 수리 (Accepted) 4-1-2013-0013766-37
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.07.16 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.08.09 수리 (Accepted) 9-1-2013-0065105-47
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.04.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0283129-17
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2014.06.24 수리 (Accepted) 1-1-2014-0592270-60
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.07.23 수리 (Accepted) 1-1-2014-0694580-78
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.07.23 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0694599-34
9 등록결정서
Decision to grant
2014.09.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0635194-87
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.08.24 수리 (Accepted) 4-1-2020-5189497-57
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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표면의 전하밀도가 pH 4 이상이 되면 양의 값에서 음의 값으로 변화하고, 질화붕소, 알루미나, 질화알루미늄, 실리카 및 산화티티늄으로 구성되는 군으로부터 선택되는 세라믹 입자를 함유한 용액에 음이온성 고분자 용액을 첨가하여, 음이온성 고분자를 상기 세라믹 입자에 흡착시키는 단계;상기 용액에 pH 3 이하의 자성 전구체 용액을 첨가하여 상기 세라믹 입자의 표면 전하밀도를 양의 값으로 변화시킴으로써 자성 전구체를 상기 세라믹 입자에 흡착된 상기 음이온성 고분자에 흡착시키는 단계; 및상기 흡착된 자성 전구체를 산화시킨 산화물 자성체를 상기 세라믹 입자 표면에 형성하는 단계를 포함하고,상기 각 단계는 하나의 반응 용기에 상기 세라믹 입자를 함유한 용액, 음이온성 고분자 용액 및 자성 전구체 용액을 함께 넣어 연속적으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 세라믹 입자의 자성체 코팅 방법
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삭제
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청구항 1에 있어서, 상기 음이온성 고분자는 폴리글루타믹산 (poly(L-glutamic acid)), 폴리포스페이트 (poly(phosphate)), 폴리헥산 (polynucleic acid), 폴리메타크릴산 (poly(methacrylic) acid), 폴리아스파틱산 (poly(D,L-aspartic acid), 폴리아크릴산(poly acrylic acid), 폴리소듐스티렌설포네이트(poly sodium 4-styrene sulfonate), 폴리비닐설포닉산(poly vinylsulfonic acid), 폴리소듐염(poly sodium salt), 폴리아미노산 (poly amino acids), 폴리에틸렌이민(polyethyleneimine) 및 음하전된 단백질(negative charged proteins)으로 구성되는 군에서 선택되는 세라믹 입자의 자성체 코팅 방법
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청구항 1에 있어서, 상기 산화물 자성체는 산화철, 바륨페라이트(BaFe2O4), 스트론튬페라이트 (SrFe2O4), 니켈 페라이트(NiFe2O4), 니켈 코발트 페라이트(NiCoFeO4) 및 망간마그네슘 페라이트(MnMgFeO4)로 구성되는 군에서 선택되는 세라믹 입자의 자성체 코팅 방법
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청구항 1, 청구항 3 및 청구항 4 중 어느 한 항에 따른 세라믹 입자의 자성체 코팅 방법에 의해 표면에 자성체가 코팅된 세라믹 입자
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 전자부품연구원 산업원천기술개발사업 차세대 전자패키지용 고방열 융복합 신소재 기술 개발