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기판 상에 탄화수소 가스를 이용하여 다결정 그래핀을 형성하는 단계;상기 다결정 그래핀 상에 촉매를 형성하는 단계; 및상기 다결정 그래핀 및 상기 촉매를 열처리함으로써, 상기 다결정 그래핀을 단결정 그래핀으로 재결정화하는 단계;를 포함하고,상기 기판은 웨이퍼 스케일의 기판을 포함하고,상기 열처리는 국부적 가열원을 이용하여 상기 다결정 그래핀 및 상기 촉매의 제 1 부분을 가열하는 단계; 및 상기 국부적 가열원을 이동시켜 상기 제 1 부분을 냉각시킴과 동시에 다른 위치의 제 2 부분을 가열하는 단계;를 포함하여 수행되는, 단결정 그래핀의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 기판은 Al2O3, AlN, Si3N4, SrTiO3 또는 BN을 포함하여 이루어진 절연기판인, 단결정 그래핀의 제조방법
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3
제 2 항에 있어서,상기 기판은 상기 절연기판 상에 천이금속을 0
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제 2 항 또는 제 3 항에 있어서,상기 단결정 그래핀은 상기 기판 상에 성장한 단결정 그래핀을 포함하는, 단결정 그래핀의 제조방법
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5
제 1 항에 있어서,상기 기판은 W 또는 Mo을 포함하여 이루어진 금속기판인, 단결정 그래핀의 제조방법
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6
삭제
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7
제 1 항에 있어서,상기 기판 상에 탄화수소 가스를 이용하여 다결정 그래핀을 형성하는 단계는 600℃ 내지 1100℃의 온도에서 수행되는, 단결정 그래핀의 제조방법
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8 |
8
제 1 항에 있어서,상기 촉매는 알루미늄, 알루미늄을 함유하는 화합물 또는 3d 천이금속계 화합물을 포함하는, 단결정 그래핀의 제조방법
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9
제 8 항에 있어서,상기 다결정 그래핀 및 상기 촉매를 열처리함으로써, 상기 다결정 그래핀을 단결정 그래핀으로 재결정화하는 단계는 1400℃ 내지 2000℃의 온도에서 수행되는, 단결정 그래핀의 제조방법
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10
삭제
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11
제 1 항에 있어서,상기 열처리는 상기 기판의 일측에서 타측으로 일방향으로 상기 국부적 가열원을 이동시켜 수행되는, 단결정 그래핀의 제조방법
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