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실리콘 나노와이어 제조방법, 실리콘 나노 와이어를 포함하는 태양전지 및 태양전지의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015003279
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 실리콘 나노 와이어 제조 방법, 실리콘 나노 와이어를 포함하는 태양전지 및 태양전지의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명에 의하면, 기판; 상기 기판 상에 구비된 제1++형 다결정 실리콘층; 상기 제1++형 다결정 실리콘층으로부터 성장된 제1형 실리콘 나노 와이어를 포함하는 제1형 실리콘 나노 와이어층; 상기 제1형 실리콘 나노 와이어층이 구비된 기판 상에 구비된 진성층; 및 상기 진성층 상에 구비된 제2형 도핑층;을 포함하는 태양전지가 제공된다. 실리콘 나노 와이어, 금속 촉매, 태양전지
Int. CL H01L 31/04 (2014.01)
CPC
출원번호/일자 1020090101154 (2009.10.23)
출원인 한국생산기술연구원
등록번호/일자 10-1086074-0000 (2011.11.16)
공개번호/일자 10-2010-0094325 (2010.08.26) 문서열기
공고번호/일자 (20111123) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020090013459   |   2009.02.18
대한민국  |   1020090013465   |   2009.02.18
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.10.23)
심사청구항수 30

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정채환 대한민국 광주광역시 광산구
2 전민성 대한민국 경기도 용인시 기흥구
3 김진혁 대한민국 광주 북구
4 고항주 대한민국 광주 북구
5 이석호 대한민국 광주 북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 서만규 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 *** *층 (역삼동, 현죽빌딩)(특허법인성암)
2 서경민 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 *** *층 (역삼동, 현죽빌딩)(특허법인성암)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 대한민국(산업통상자원부장관) 세종특별자치시 한누리대
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.10.23 수리 (Accepted) 1-1-2009-0650338-53
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.08.30 수리 (Accepted) 4-1-2010-5161401-06
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2011.03.08 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2011.04.15 수리 (Accepted) 9-1-2011-0033680-15
5 등록결정서
Decision to grant
2011.10.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0634807-95
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.04.02 수리 (Accepted) 4-1-2012-5068733-13
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.04.26 수리 (Accepted) 4-1-2012-5090658-47
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.01.29 수리 (Accepted) 4-1-2013-5017806-08
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.01.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5006834-98
10 출원인정보변경(경정)신고서
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2018.07.02 수리 (Accepted) 4-1-2018-5123030-77
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판; 상기 기판 상에 구비된 제1++형 다결정 실리콘층; 상기 제1++형 다결정 실리콘층으로부터 성장된 제1형 실리콘 나노 와이어를 포함하는 제1형 실리콘 나노 와이어층; 상기 제1형 실리콘 나노 와이어층이 구비된 기판 상에 구비된 진성층; 및 상기 진성층 상에 구비된 제2형 도핑층;을 포함하는 태양전지
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 태양전지:는 상기 제2형 도핑층 상에 구비된 TCO층; 상기 TCO층 상에 구비되되, 상기 TCO층의 일정 영역들을 노출시키는 반사방지막; 및 상기 노출된 TCO층의 일정 영역들 상에 패턴화된 형태로 구비된 전면전극;을 포함하는 것을 특징으로 하는 태양전지
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 태양전지:는 상기 기판과 제1++형 다결정 실리콘층 사이에 구비된 TCO층; 및 상기 제2형 도핑층 상에 구비된 배면전극;을 포함하는 것을 특징으로 하는 태양전지
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 진성층은 탑셀 진성층이며, 상기 제2형 도핑층은 탑셀 제2형 도핑층이며, 상기 태양전지:는 상기 탑셀 제2형 도핑층 상에 구비된 버퍼층; 상기 버퍼층 상에 구비된 버텀셀 제1형 도핑층; 상기 버텀셀 제1형 도핑층 상에 구비된 버텀셀 진성층; 상기 버텀셀 진성층 상에 구비된 버텀셀 제2형 도핑층; 및 상기 버텀셀 제2형 도핑층 상에 구비된 배면전극;을 포함하는 것을 특징으로 하는 태양전지
5 5
제 1 항에 있어서, 상기 제1형 실리콘 나노 와이어는 그 길이가 2 내지 5㎛이고, 그 직경은 1 내지 5㎚인 것을 특징으로 하는 태양전지
6 6
기판 상에 제1++형 다결정 실리콘층을 형성하는 제1++형 다결정 실리콘층 형성 단계; 상기 제1++형 다결정 실리콘층 상에 금속 박막층을 형성하는 금속 박막층 형성 단계; 상기 금속 박막층을 금속 나노 입자로 형성하는 금속 나노 입자 형성 단계; 및 상기 금속 나노 입자를 씨드로 하여 상기 제1++형 다결정 실리콘층으로부터 제1형 실리콘 나노 와이어를 성장시키는 제1형 실리콘 나노 와이어 성장 단계;를 포함하는 실리콘 나노 와이어 형성 방법
7 7
제 6 항에 있어서, 상기 금속 박막층 형성 단계는 스퍼터링법(sputtering method) 또는 증발법(evaporation method)을 이용하여 금속을 증착하되, 100 내지 150nm의 두께로 증착하는 단계인 것을 특징으로 하는 실리콘 나노 와이어 형성 방법
8 8
제 7 항에 있어서, 상기 금속은 Au, In, Ga 및 Sn 중 어느 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘 나노 와이어 형성 방법
9 9
제 6 항에 있어서, 상기 금속 나노 입자 형성 단계 및 제1형 실리콘 나노 와이어 성장 단계는 유도결합플라즈마 화학기상 증착 장치(inductively coupled plasma chemical vapor deposition) 또는 초고주파 화학기상 증착 장치(very high frequency-chemical vapor deposition)를 이용하는 것을 특징으로 하는 실리콘 나노 와이어 형성 방법
10 10
제 9 항에 있어서, 상기 금속 나노 입자 형성 단계 및 제1형 실리콘 나노 와이어 성장 단계는 유도결합플라즈마 화학기상 증착 장치 또는 초고주파 화학기상 증착 장치를 이용하여 연속적으로 진행하는 것을 특징으로 하는 실리콘 나노 와이어 형성 방법
11 11
제 9 항에 있어서, 상기 금속 나노 입자 형성 단계는 200 내지 400℃의 공정 온도, 80 내지 150mTorr의 공정 압력, 100 내지 300sccm의 수소(H2) 가스 유량, 500 내지 700W의 플라즈마 파워, 30 내지 50W의 서셉터 파워 및 30 내지 90분의 공정 시간을 포함하는 공정 조건으로 상기 유도결합플라즈마 화학기상 증착 장치를 이용하여 상기 금속 박막층을 금속 나노 입자들로 형성하는 단계인 것을 특징으로 하는 실리콘 나노 와이어 형성 방법
12 12
제 9 항에 있어서, 상기 금속 나노 입자 형성 단계는 200 내지 400℃의 공정 온도, 0
13 13
제 9 항에 있어서, 상기 제1형 실리콘 나노 와이어 성장 단계는 200 내지 400℃의 공정 온도, 70 내지 80mTorr의 공정 압력, 0
14 14
제 9 항에 있어서, 상기 제1형 실리콘 나노 와이어 성장 단계는 200 내지 400℃의 공정 온도, 0
15 15
제 6 항에 있어서, 상기 실리콘 나노 와이어는 그 길이가 2 내지 5㎛이고, 그 직경이 1 내지 5nm인 것을 특징으로 하는 실리콘 나노 와이어 형성 방법
16 16
제 6 항에 있어서, 상기 제1형 실리콘 나노 와이어 성장 단계 이후, 상기 기판 상에 잔류하는 금속을 제거하는 잔류 금속 제거 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘 나노 와이어 형성 방법
17 17
태양전지 제조 방법에 있어서, 기판 상에 제1++형 다결정 실리콘층을 형성하는 제1++형 다결정 실리콘층 형성 단계; 상기 제1++형 다결정 실리콘층 상에 금속 박막층을 형성하는 금속 박막층 형성 단계; 상기 금속 박막층을 금속 나노 입자로 형성하는 금속 나노 입자 형성 단계; 및 상기 금속 나노 입자를 씨드로 하여 상기 제1++형 다결정 실리콘층으로부터 제1형 실리콘 나노 와이어를 성장시키는 제1형 실리콘 나노 와이어 성장 단계;를 포함하는 태양전지 제조 방법
18 18
제 17 항에 있어서, 상기 제1형 실리콘 나노 와이어 성장 단계 이후에, 상기 제1형 실리콘 나노 와이어가 성장된 기판 상에 진성층을 형성하는 진성층 형성 단계; 상기 진성층 상에 제2형 도핑층을 형성하는 제2형 도핑층 형성 단계; 상기 제2형 도핑층 상에 TCO층을 형성하는 TCO층 형성 단계; 상기 TCO층 상에 반사방지막을 형성하는 반사방지막 형성 단계; 및 상기 반사방지막 상에 전면 전극을 형성하는 전면 전극 형성 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 태양전지 제조 방법
19 19
제 17 항에 있어서, 상기 제1++형 다결정 실리콘층 형성 단계 이전에, 상기 기판 상에 TCO층을 형성하는 TCO층 형성 단계;를 포함하며, 상기 제1형 실리콘 나노 와이어 성장 단계 이후에, 상기 제1형 실리콘 나노 와이어가 성장된 기판 상에 진성층을 형성하는 진성층 형성 단계; 상기 진성층 상에 제2형 도핑층을 형성하는 제2형 도핑층 형성 단계; 및 상기 제2형 도핑층 상에 배면전극을 형성하는 배면전극 형성 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 태양전지 제조 방법
20 20
제 17 항에 있어서, 상기 제1++형 다결정 실리콘층 형성 단계 이전에, 상기 기판 상에 TCO층을 형성하는 TCO층 형성 단계;를 포함하며, 상기 제1형 실리콘 나노 와이어 성장 단계 이후에, 상기 제1형 실리콘 나노 와이어가 성장된 기판 상에 탑셀 진성층을 형성하는 탑셀 진성층 형성 단계; 상기 탑셀 진성층 상에 탑셀 제2형 도핑층을 형성하는 탑셀 제2형 도핑층 형성 단계; 상기 탑셀 제2형 도핑층 상에 버퍼층을 형성하는 버퍼층 형성 단계; 상기 버퍼층 상에 버텀셀 제1형 도핑층을 형성하는 버텀셀 제1형 도핑층 형성 단계; 상기 버텀셀 제1형 도핑층 상에 버텀셀 진성층을 형성하는 버텀셀 진성층 형성 단계; 상기 버텀셀 진성층 상에 버텀셀 제2형 도핑층을 형성하는 버텀셀 제2형 도핑층 형성 단계; 및 상기 버텀셀 제2형 도핑층 상에 배면전극을 형성하는 배면전극 형성 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 태양전지 제조 방법
21 21
제 17 항에 있어서, 상기 금속 박막층 형성 단계는 스퍼터링법 또는 증발법을 이용하여 금속을 증착하되, 100 내지 150nm의 두께로 증착하는 단계인 것을 특징으로 하는 태양전지 제조 방법
22 22
제 21 항에 있어서, 상기 금속은 Au, In, Ga 및 Sn 중 어느 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 태양전지 제조 방법
23 23
제 17 항에 있어서, 상기 금속 나노 입자 형성 단계 및 제1형 실리콘 나노 와이어 성장 단계는 유도결합플라즈마 화학기상 증착 장치 또는 초고주파 화학기상 증착 장치를 이용하는 것을 특징으로 하는 태양전지 제조 방법
24 24
제 23 항에 있어서, 상기 금속 나노 입자 형성 단계 및 제1형 실리콘 나노 와이어 성장 단계는 연속적으로 진행하는 것을 특징으로 하는 태양전지 제조 방법
25 25
제 23 항에 있어서, 상기 금속 나노 입자 형성 단계는 200 내지 400℃의 공정 온도, 80 내지 150mTorr의 공정 압력, 100 내지 300sccm의 수소 가스 유량, 500 내지 700W의 플라즈마 파워, 30 내지 50W의 서셉터 파워 및 30 내지 90분의 공정 시간을 포함하는 공정 조건으로 상기 유도결합플라즈마 화학기상 증착 장치를 이용하여 상기 금속 박막층을 금속 나노 입자들로 형성하는 단계인 것을 특징으로 하는 태양전지 제조 방법
26 26
제 23 항에 있어서, 상기 금속 나노 입자 형성 단계는 200 내지 400℃의 공정 온도, 0
27 27
제 23 항에 있어서, 상기 제1형 실리콘 나노 와이어 성장 단계는 200 내지 400℃의 공정 온도, 70 내지 80mTorr의 공정 압력, 0
28 28
제 23 항에 있어서, 상기 제1형 실리콘 나노 와이어 성장 단계는 200 내지 400℃의 공정 온도, 0
29 29
제 17 항에 있어서, 상기 제1형 실리콘 나노 와이어는 그 길이가 2 내지 5㎛이고, 그 직경이 1 내지 5nm인 것을 특징으로 하는 태양전지 제조 방법
30 30
제 17 항에 있어서, 상기 제1형 실리콘 나노 와이어 성장 단계 이후, 상기 기판 상에 잔류하는 금속을 제거하는 잔류 금속 제거 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 태양전지 제조 방법
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