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유도결합플라즈마 화학기상증착법을 이용한 태양전지 제조방법

  • 기술번호 : KST2015004021
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 유도결합플라즈마 화학기상증착법을 이용한 태양전지 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명에 의하면, 제1전극, P형층, 진성층, N형층 및 제2전극을 포함하는 태양전지를 제조함에 있어서, 수소(H2) 가스 및 실란(SiH4) 가스를 포함하는 혼합 가스를 사용하는 유도결합플라즈마 화학기상 증착 장치를 이용하여 수소화 비정질 실리콘 박막으로 이루어진 상기 진성층을 형성하는 진성층 형성 단계를 포함하되, 상기 혼합 가스는 상기 수소 가스 및 실란 가스의 수소 가스 대 실란 가스 비(H2/SiH4 ratio)가 8 내지 10인 것을 특징으로 하는 태양전지 제조 방법이 제공된다. 태양전지
Int. CL H01L 21/205 (2006.01) C23C 16/24 (2006.01) C23C 16/513 (2006.01)
CPC C23C 16/22(2013.01) C23C 16/22(2013.01) C23C 16/22(2013.01) C23C 16/22(2013.01) C23C 16/22(2013.01) C23C 16/22(2013.01)
출원번호/일자 1020090101304 (2009.10.23)
출원인 한국생산기술연구원
등록번호/일자 10-1207582-0000 (2012.11.27)
공개번호/일자 10-2010-0094326 (2010.08.26) 문서열기
공고번호/일자 (20121205) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020090013059   |   2009.02.17
대한민국  |   1020090013195   |   2009.02.18
대한민국  |   1020090013204   |   2009.02.18
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호 1020110135801;1020110135802;
심사청구여부/일자 Y (2009.10.23)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정채환 대한민국 광주광역시 광산구
2 이종호 대한민국 광주광역시 광산구
3 김호성 대한민국 광주광역시 북구
4 부성재 대한민국 광주광역시 북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 서만규 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 *** *층 (역삼동, 현죽빌딩)(특허법인성암)
2 서경민 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 *** *층 (역삼동, 현죽빌딩)(특허법인성암)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 대한민국(산업통상자원부장관) 세종특별자치시 한누리대
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.10.23 수리 (Accepted) 1-1-2009-0651144-71
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2010.07.08 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2010.08.09 수리 (Accepted) 9-1-2010-0047730-37
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.08.30 수리 (Accepted) 4-1-2010-5161401-06
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.10.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0596209-10
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.12.15 수리 (Accepted) 1-1-2011-0999751-95
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.12.15 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0999752-30
8 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application
2011.12.15 수리 (Accepted) 1-1-2011-0999682-32
9 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application
2011.12.15 수리 (Accepted) 1-1-2011-0999680-41
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.04.02 수리 (Accepted) 4-1-2012-5068733-13
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.04.26 수리 (Accepted) 4-1-2012-5090658-47
12 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2012.05.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0285507-40
13 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2012.07.16 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0565797-17
14 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2012.07.16 수리 (Accepted) 1-1-2012-0565796-61
15 등록결정서
Decision to grant
2012.11.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0682971-68
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.01.29 수리 (Accepted) 4-1-2013-5017806-08
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.01.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5006834-98
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.07.02 수리 (Accepted) 4-1-2018-5123030-77
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
제1전극, 제1형층, 진성층, 제2형층 및 제2전극을 포함하는 태양전지를 제조함에 있어서,수소(H2) 가스 및 실란(SiH4) 가스를 포함하는 혼합 가스를 사용하는 유도결합플라즈마 화학기상 증착 장치를 이용하여 수소화 비정질 실리콘 박막으로 이루어진 상기 진성층을 형성하는 진성층 형성 단계를 포함하되,상기 혼합 가스는 상기 수소 가스 및 실란 가스의 수소 가스 대 실란 가스 비(H2/SiH4 ratio)가 8 내지 10인 것을 특징으로 하는 태양전지 제조 방법
2 2
제 1 항에 있어서,상기 진성층 형성 단계는 공정 압력이 70 내지 90mtorr이고, 공정 파워가 200 내지 300W이며, 공정 온도는 250 내지 350도인 것을 특징으로 하는 태양전지 제조 방법
3 3
제 1 항에 있어서,상기 태양전지 제조 방법:은상기 진성층 형성 단계 이전에,제1형 실리콘 기판을 준비하는 제1형 실리콘 기판 준비 단계; 및상기 제1형 실리콘 기판의 후면에 상기 제1전극을 형성하는 제1전극 형성 단계;를 포함하며,상기 진성층 형성 단계 이후에,상기 진성층 상에 제2형층을 형성하는 제2형 형성 단계; 및상기 제2형층 상에 제2전극을 형성하는 제2전극 형성 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 태양전지 제조 방법
4 4
제 3 항에 있어서,상기 제1전극은 Ag로 이루어지며,상기 제2형층은 수소화 제2형 비정질 실리콘층으로 이루어지며,상기 제2전극은 상기 제2형층 상에 형성된 투명전극층 및 상기 투명전극층 상에 형성된 패턴화된 알루미늄 전극으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 태양전지 제조 방법
5 5
제 1 항에 있어서,상기 태양전지 제조 방법:은상기 진성층 형성 단계 이전에, 투명 기판을 준비하는 투명 기판 준비 단계;상기 투명 기판 상에 상기 제1전극을 형성하는 제1전극 형성 단계; 및상기 제1전극 상에 상기 제2형층을 형성하는 제2형층 형성 단계;를 포함하며,상기 진성층 형성 단계 이후에,상기 진성층 상에 상기 제1형층을 형성하는 제1형층 형성 단계; 및상기 제1형층 상에 상기 제2전극을 형성하는 제2전극 형성 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 태양전지 제조 방법
6 6
제 5 항에 있어서,상기 제2형층 형성 단계와 상기 진성층 형성 단계 사이에,버퍼층을 형성하는 버퍼층 형성 단계를 포함하며,상기 제1형층 형성 단계와 상기 제2전극 형성 단계 사이에,상기 제1형층 상에 투명전극층을 형성하는 투명전극층 형성 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 태양전지 제조 방법
7 7
제 1 항에 있어서,상기 제1전극은 TCO(transparent conducting oxide)층으로 이루어지며, 상기 제2전극은 알루미늄으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 태양전지 제조 방법
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 EP02219230 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
2 EP02219230 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
3 JP05476644 JP 일본 FAMILY
4 JP05835700 JP 일본 FAMILY
5 JP22192869 JP 일본 FAMILY
6 JP24134541 JP 일본 FAMILY
7 JP24146994 JP 일본 FAMILY
8 JP26195101 JP 일본 FAMILY
9 KR101122656 KR 대한민국 FAMILY
10 KR101215631 KR 대한민국 FAMILY
11 US08268714 US 미국 FAMILY
12 US08283245 US 미국 FAMILY
13 US08304336 US 미국 FAMILY
14 US20100210061 US 미국 FAMILY
15 US20120077303 US 미국 FAMILY
16 US20120077306 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 JP2010192869 JP 일본 DOCDBFAMILY
2 JP2012134541 JP 일본 DOCDBFAMILY
3 JP2012146994 JP 일본 DOCDBFAMILY
4 JP2014195101 JP 일본 DOCDBFAMILY
5 JP5476644 JP 일본 DOCDBFAMILY
6 JP5835700 JP 일본 DOCDBFAMILY
7 KR101122656 KR 대한민국 DOCDBFAMILY
8 KR101215631 KR 대한민국 DOCDBFAMILY
9 KR20120002961 KR 대한민국 DOCDBFAMILY
10 KR20120002962 KR 대한민국 DOCDBFAMILY
11 US2010210061 US 미국 DOCDBFAMILY
12 US8304336 US 미국 DOCDBFAMILY
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