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전극에 있어서,제1 금속층;상기 제1 금속층 상부에 형성된 제1 활물질층;상기 제1 활물질층 상부에 형성된 제2 금속층; 및상기 제2 금속층 상부에 형성된 제2 활물질층;을 포함하며,상기 제2 금속층 및 상기 제2 활물질층은 적어도 하나의 공통된 절단영역을 포함하는 불연속 층인 것을 특징으로 하는 전극
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제1항에 있어서,상기 제1 활물질층 또는 상기 제2 활물질층은 실리콘으로 이루어지며, 상기 제1 금속층 또는 상기 제2 금속층은 구리로 이루어지는 것을 특징으로 하는 전극
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제1항에 있어서,상기 절단영역은,상기 제2 활물질층의 상부 표면에서부터 상기 제2 금속층의 하부 표면까지를 라인 형태로 절단한 영역인 것을 특징으로 하는 전극
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제1항에 있어서,상기 절단영역은 상기 제2 활물질층의 상부 표면에서부터 상기 제2 금속층의 하부 표면까지를 천공한 영역인 것을 특징으로 하는 전극
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전지에 있어서,양극 및 음극;상기 양극 및 음극 사이를 채우는 전해질;을 포함하며,상기 양극 및 음극 중 적어도 하나는제1 금속층;상기 제1 금속층 상부에 형성된 제1 활물질층;상기 제1 활물질층 상부에 형성된 제2 금속층; 및상기 제2 금속층 상부에 형성된 제2 활물질층;을 포함하며,상기 제2 금속층 및 상기 제2 활물질층은 적어도 하나의 공통된 절단영역을 포함하는 불연속 층인 것을 특징으로 하는 전지
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전극 제조 방법에 있어서,제1 금속층, 제1 활물질층, 제2 금속층 및 제2 활물질층을 순차적으로 적층하는 단계; 및상기 제2 금속층 및 상기 제2 활물질층의 일 영역에 대하여 절단 또는 천공을 수행하여, 상기 제2 금속층 및 상기 제2 활물질층을 불연속 구조로 제작하는 단계;를 포함하는 전극 제조 방법
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제 6항에 있어서,상기 제1 활물질층 또는 상기 제2 활물질층은 실리콘으로 이루어지며, 상기 제1 금속층 또는 상기 제2 금속층은 구리로 이루어진 것을 특징으로 하는 전극 제조 방법
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제 6항에 있어서,상기 절단된 영역은 라인형태 또는 천공된 형태인 것을 특징으로 하는 전극 제조 방법
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제 6항에 있어서,상기 절단된 영역의 폭은 50㎛ 이상 200㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 전극 제조 방법
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