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기판 이송 유닛, 이를 갖는 기판 처리 장치 및 이를 이용한 기판처리 방법

  • 기술번호 : KST2015004345
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 메모리 소자를 개시한다. 그의 소자는, 기판과, 상기 기판 상의 제 1 방향으로 연장되는 제 1 배선들과, 상기 제 1 배선들 및 상기 기판 상의 메모리 층과, 상기 메모리 층 상의 유전 층과, 상기 유전 층 상에 배치되고, 상기 제 1 방향에 교차되는 제 2 방향으로 연장되는 제 2 배선들을 포함한다. 메모리 층은 상기 제 1 배선들 상의 벌크 층과, 상기 벌크 층과 상기 유전 층 사이에 배치되고, 상기 제 2 배선들과 상기 제 1 배선들 사이의 전기장으로부터 0 또는 1의 2개의 정보에 대응되는 쌍안정 상태(bistable state)를 갖는 제 1 상부면 층(top surface layer)을 포함한다.
Int. CL H01L 27/115 (2006.01)
CPC H01L 27/11507(2013.01)
출원번호/일자 1020130148548 (2013.12.02)
출원인 한국표준과학연구원
등록번호/일자 10-1489135-0000 (2015.01.26)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20150202) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.12.02)
심사청구항수 20

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 엄대진 대한민국 대전 유성구
2 구자용 대한민국 대전 유성구
3 문창연 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 오세준 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *길 ** *층(역삼동)(특허법인 고려)
2 권혁수 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 ***, *층(삼일빌딩, 역삼동)(KS고려국제특허법률사무소)
3 송윤호 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 *** (역삼동) *층(삼일빌딩)(케이에스고려국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2013.12.02 수리 (Accepted) 1-1-2013-1101529-07
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.01.09 수리 (Accepted) 4-1-2014-5004381-25
3 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.10.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0725634-19
4 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.11.26 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-1146232-75
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.11.26 수리 (Accepted) 1-1-2014-1146231-29
6 등록결정서
Decision to grant
2015.01.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0041290-86
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266640-72
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266645-00
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266627-88
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판;상기 기판 상의 제 1 방향으로 연장되는 제 1 배선들;상기 제 1 배선들 및 상기 기판 상의 메모리 층;상기 메모리 층 상의 유전 층; 및상기 유전 층 상에 배치되고, 상기 제 1 방향에 교차되는 제 2 방향으로 연장되는 제 2 배선들을 포함하되,상기 메모리 층은, 상기 제 1 배선들 상의 벌크 층; 및상기 벌크 층과 상기 유전 층 사이에 배치되고, 상기 제 2 배선들과 상기 제 1 배선들 사이의 전기장으로부터 0의 정보 또는 1의 정보에 각각 대응되는 쌍안정 상태(bistable state)를 갖는 제 1 상부면 층(top surface layer)을 포함하는 메모리 소자
2 2
제 1 항에 있어서,상기 메모리 층은 보론으로 도핑된 결정 실리콘을 포함하되,상기 결정 실리콘은 111 방향의 결정 상부면을 갖는 메모리 소자
3 3
제 2 항에 있어서,상기 제 1 상부면 층은 마름모의 모양으로 배열되는 단위 격자들을 포함하는 메모리 소자
4 4
제 3 항에 있어서,상기 단위 격자들 각각은, 상기 벌크 층 상의 보론 원자;상기 보론 원자에 각각 결합되고, 서로 인접되는 그들 각각이 삼각형 모양으로 결합되는 3개의 실리콘 원자들; 및상기 보론 원자로부터 분리되어 배치되고, 상기 3개의 실리콘 원자들에 결합되는 하나의 실리콘 흡착 원자(adatom)를 포함하는 메모리 소자
5 5
제 4 항에 있어서,상기 단위 격자들 각각은,상기 0의 정보에 대응되는 상기 보론 원자와 상기 실리콘 흡착 원자 사이의 제 1 거리와, 상기 1의 정보에 대응되는 상기 보론 원자와 상기 실리콘 흡착 원자 사이의 제 2 거리의, 차이는 0
6 6
제 4 항에 있어서,상기 단위 격자들은 상기 제 1 배선들과 상기 제 2 배선들이 교차되는 부분에서의 단위 셀들로 각각 정의되고,상기 단위 격자들 각각은 0
7 7
제 4 항에 있어서,상기 제 1 방향과 상기 제 2 방향은 상기 마름모의 마주보는 두 쌍의 변들과 각각 동일한 메모리 소자
8 8
제 1 항에 있어서,상기 쌍안정 상태는,제 1 안정 상태; 및상기 제 1 안정 상태보다 높은 에너지 상태를 갖고, 상기 제 1 안정 상태에서 천이되는 전하를 저장하기 위한 문턱 에너지 레벨을 갖는 제 2 안정 상태를 포함하는 메모리 소자
9 9
제 1 항에 있어서,상기 유전 층 상에 배치되고, 상기 제 2 배선들과 동일한 높이를 갖는 갭필 층;상기 제 2 배선들 및 상기 갭필 층 상의 상부 메모리 층;상기 상부 메모리 층 상의 상부 유전 층; 및 상기 상부 유전 층 상에 배치되고, 상기 제 1 배선들과 동일한 방향으로 연장되는 제 3 배선들을 포함하는 메모리 소자
10 10
제 9 항에 있어서,상기 갭필 층은 상기 유전 층과 동일한 재질의 실리콘 산화막 또는 금속 산화막을 포함하는 메모리 소자
11 11
제 1 항에 있어서,상기 제 2 배선들 및 상기 유전 층 상의 상부 유전 층;상기 상부 유전 층 상의 상부 메모리 층; 및상기 상부 메모리 층 상에 배치되고, 상기 제 1 배선들과 동일한 방향으로 연장되는 제 3 배선들을 포함하는 메모리 소자
12 12
단위 셀들을 정의하는 제 1 배선들과 제 2 배선들;상기 제 1 배선들과 상기 제 2 배선들 사이의 메모리 층; 및상기 제 1 배선들과 상기 제 2 배선들 중의 어느 하나와 상기 메모리층 사이의 유전 층을 포함하되,상기 메모리 층은, 벌크 층; 및상기 벌크 층과 상기 유전 층 사이에 배치되고, 상기 제 2 배선들과 상기 제 1 배선들 사이의 전기장으로부터 0의 정보 또는 1의 정보에 각각 대응되는 쌍안정 상태를 갖는 상부면 층(top surface layer)을 포함하는 메모리 소자
13 13
제 12 항에 있어서,상기 메모리 층은 보론으로 도핑된 결정 실리콘을 포함하되,상기 상부면 층은, 상기 벌크 층에 결합되는 보론 원자;상기 보론 원자들에 결합되는 복수개의 표면 실리콘 원자들; 및상기 복수개의 표면 실리콘 원자들에 결합되고, 상기 보론 원자로부터 분리된 실리콘 흡착 원자를 포함하는 단위 격자들을 갖는 메모리 소자
14 14
제 13 항에 있어서,상기 단위 격자들은 마름모의 모양으로 배열되는 메모리 소자
15 15
제 14 항에 있어서,상기 제 1 배선들과 상기 제 2 배선들은 상기 마름모의 마주보는 두 쌍의 변들과 각각 동일한 방향으로 연장되는 메모리 소자
16 16
제 13 항에 있어서,상기 복수개의 표면 실리콘 원자들은 삼각형의 꼭지점들에 대응되는 3개인 메모리 소자
17 17
제 16 항에 있어서,상기 복수개의 표면 실리콘 원자들과 상기 실리콘 흡착 원자들은 사면체로 결합된 메모리 소자
18 18
제 17 항에 있어서,상기 사면체는, 상기 0의 정보 또는 상기 1의 정보에 따라 높이가 조절되는 메모리 소자
19 19
제 12 항에 있어서,상기 쌍안정 상태는제 1 안정 상태;상기 제 1 안정 상태보다 높은 에너지 상태를 갖고, 상기 제 1 안정 상태에서 천이되는 전하를 저장하기 위한 문턱 에너지 레벨을 갖는 제 2 안정 상태를 포함하는 메모리 소자
20 20
제 19 항에 있어서,상기 문턱 에너지 레벨은 0
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.