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(a) 고분자 수지, 극성 아프로틱(aprotic) 유기용매 및 MOF(Metal organic frameworks)를 포함하는 캐스팅 용액을 형성하는 단계; (b) 상기 캐스팅 용액을 지지체에 캐스팅한 후, 비용매에 침지하여 고분자 수지를 고형화시키는 단계;(c) 상기 고형화된 고분자 수지를 세정하고, 상기 지지체로부터 탈리시키는 단계; 및(d) 상기 탈리된 고분자 수지를 건조하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 한외 여과막 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 MOF는 산 처리된 MOF를 포함하는 것을 특징으로 하는 한외 여과막 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 고분자 수지는 불소계 고분자, 이미드계 고분자, 셀룰로스계 고분자 및 비닐계 고분자 중에서 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 한외 여과막 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 극성 아프로틱 유기용매는 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈 및 디메틸술폭사이드 중에서 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 한외 여과막 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 MOF는 상기 극성 아프로틱 유기용매와 착화합물을 형성하는 것을 특징으로 하는 한외 여과막 제조 방법
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제5항에 있어서,상기 MOF는 Cr MIL, IRMOF-1, MAMS, CuBTC(HKUST-1) 및 ZIF 중에서 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 한외 여과막 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 캐스팅 용액은 극성 아프로틱(aprotic) 유기용매 100 중량부에 대하여, 고분자 수지 10~50중량부 및 MOF 0
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제1항에 있어서, 상기 캐스팅 용액은 친수성 고분자 첨가제 및 유기산 상전이 응고촉매 중 1종 이상을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 한외 여과막 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 지지체는폴리에스테르, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌, 폴리아미드 및 폴리이미드 중 1종 이상을 포함하는 필름이거나, 부직포인 것을 특징으로 하는 한외 여과막 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 (b) 단계는 캐스팅 용액의 온도는 5~60℃로 유지되는 것을 특징으로 하는 한외 여과막 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 (b) 단계는 상기 캐스팅 용액을 상기 지지체에 100~300㎛ 두께로 캐스팅하는 것을 특징으로 하는 한외 여과막 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 비용매의 온도는 5~40℃인 것을 특징으로 하는 한외 여과막 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 캐스팅 후 상기 비용매 침지전까지 상기 캐스팅 용액의 노출 상대 습도가 60~80%이고, 노출 시간이 5~120초인 것을 특징으로 하는 한외 여과막 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 (c) 단계에서, 상기 세정은 25~80℃에서 수행되는 것을 특징으로 하는 한외 여과막 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 (d) 단계에서, 상기 건조는 60~105℃에서 수행되는 것을 특징으로 하는 한외 여과막 제조 방법
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제1항 내지 제15항 중 어느 하나의 항에 기재된 방법으로 제조된 한외 여과막
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