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위상 변이 마스크를 이용하는 광전소자

  • 기술번호 : KST2015008469
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명에 따른 위상 변이 마스크를 이용하는 광전소자는 광에너지를 전기에너지로 변환하는 광전층을 구비한 광전소자로서, 상기 광전소자 상에 구비되며, 투과되는 광의 위상을 변조하여 출력하는 위상 변이 마스크(Phase shift mask)를 포함하는 것을 특징으로 한다.
Int. CL H01L 31/02 (2006.01) H01L 31/04 (2014.01) H01L 31/09 (2006.01)
CPC H01L 31/055(2013.01) H01L 31/055(2013.01)
출원번호/일자 1020130089938 (2013.07.30)
출원인 경희대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1406627-0000 (2014.06.03)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20140612) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.07.30)
심사청구항수 16

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 경희대학교 산학협력단 대한민국 경기도 용인시 기흥구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최재우 대한민국 서울 송파구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 오세중 대한민국 서울시 강남구 테헤란로 ***, **** (역삼동. 성지하이츠 Ⅱ)(해오름국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 경희대학교 산학협력단 경기도 용인시 기흥구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2013.07.30 수리 (Accepted) 1-1-2013-0689029-80
2 등록결정서
Decision to grant
2014.05.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0378023-82
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.03.09 수리 (Accepted) 4-1-2015-5029677-09
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.19 수리 (Accepted) 4-1-2019-5164254-26
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
광에너지를 전기에너지로 변환하는 광전층을 구비한 광전소자로서,상기 광전소자 상에 구비되며, 투과되는 광의 위상을 변조하여 출력하는 위상 변이 마스크(Phase shift mask)를 포함하는 것을 특징으로 하는 위상 변이 마스크를 이용하는 광전소자
2 2
제1항에 있어서,상기 위상 변이 마스크는,투과되는 광의 위상을 변조하여 출력하되 출력되는 광을 회절시키는 제1 및 제2 위상 변이 영역을 구비하며,상기 제1 위상 변이 영역에서 출력되는 광의 위상(θ1)과 상기 제2 위상 변이 영역에서 출력되는 광의 위상(θ2)은 서로 다른 것을 특징으로 하는 위상 변이 마스크를 이용하는 광전소자
3 3
제2항에 있어서,상기 제1 및 제2 위상 변이 영역은,평단면이 원형, 다각형, 삼각파 및 정현파(Sinusoidal) 중 어느 하나의 형상으로 형성된 것을 특징으로 하는 위상 변이 마스크를 이용하는 광전소자
4 4
제2항 또는 제3항에 있어서,상기 위상 변이 마스크에서 출력되는 광의 위상은,상기 제1 및 제2 위상 변이 영역의 두께와 상기 제1 및 제2 위상 변이 영역에서의 광의 굴절률에 의해 조절되는 것을 특징으로 하는 위상 변이 마스크를 이용하는 광전소자
5 5
제2항 또는 제3항에 있어서,상기 제1 위상 변이 영역에서 출력되는 광의 위상(θ1)과 상기 제2 위상 변이 영역에서 출력되는 광의 위상(θ2) 사이의 위상차(θ12)는 다음의 식을 이용해 구해지는 것을 특징으로 하는 위상 변이 마스크를 이용하는 광전소자
6 6
제1항에 있어서,상기 위상 변이 마스크는,다수의 개구부를 구비하며 제1투명물질로 이루어진 제1투명층을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 위상 변이 마스크를 이용하는 광전소자
7 7
제6항에 있어서,상기 위상 변이 마스크는,제2투명물질로 이루어지며 상기 제1투명층의 개구부에 배치되는 제2투명층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 위상 변이 마스크를 이용하는 광전소자
8 8
제1항에 있어서,상기 위상 변이 마스크는,상부에 다수의 제1양각부를 구비하며 제3투명물질로 이루어진 제3투명층을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 위상 변이 마스크를 이용하는 광전소자
9 9
제1항에 있어서,상기 위상 변이 마스크는,상부에 다수의 제2음각부를 구비하며 제4투명물질로 이루어진 제4투명층을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 위상 변이 마스크를 이용하는 광전소자
10 10
제1항에 있어서,상기 위상 변이 마스크는,상부에 다수의 제2양각부를 구비하며 제5투명물질로 이루어진 제5투명층;제6투명물질로 이루어지며 상기 제5투명층의 제2양각부 상에 마련되는 제6투명층을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 위상 변이 마스크를 이용하는 광전소자
11 11
제1항에 있어서,상기 위상 변이 마스크는,상부에 다수의 제2음각부를 구비하며 제7투명물질로 이루어진 제7투명층;제8투명물질로 이루어지며 상기 제7투명층의 제2음각부 상에 마련되는 제8투명층을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 위상 변이 마스크를 이용하는 광전소자
12 12
제1항에 있어서,상기 위상 변이 마스크는,제9투명층;다수의 전극이 연결되어 상기 제9투명층 상에 마련된 제1전극구조체;상기 제1전극구조체 상에 마련된 액정층;다수의 전극이 연결되어 상기 액정층 상에 마련된 제2전극구조체;상기 제2전극구조체 상에 마련된 제10투명층을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 위상 변이 마스크를 이용하는 광전소자
13 13
제12항에 있어서,상기 제1전극구조체와 제2전극구조체는,서로 대칭되도록 각 전극이 배치된 것을 특징으로 하는 위상 변이 마스크를 이용하는 광전소자
14 14
제13항에 있어서,상기 제1전극구조체와 제2전극구조체는,버스 바(bus bar) 전극과 상기 버스 바(bus bar) 전극에서 일측 방향으로 연장되는 다수의 핑거전극을 구비한 제1전극체 및 제2전극체를 포함하되,상기 제1전극체의 핑거전극과 상기 제2전극체의 핑거전극은 서로 교대로 배열되는 것을 특징으로 하는 위상 변이 마스크를 이용하는 광전소자
15 15
제13항에 있어서,제1전극구조체 및 제2전극구조체는,펄스 형상의 인터디지털(interdigital) 전극 구조로 형성된 것을 특징으로 하는 위상 변이 마스크를 이용하는 광전소자
16 16
제12항에 있어서,상기 액정층의 두께(dLC)는 다음의 식을 이용해 구해지는 것을 특징으로 하는 위상 변이 마스크를 이용하는 광전소자
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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