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고반사 보호막을 갖는 자성입자 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2015011096
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요약 본 발명은 고반사 보호막을 갖는 자성입자와 그 제조방법에 관한 것으로, 상세하게는 자성체 코어와, 자성체 코어의 외각에 형성되는 쉘과, 쉘 외각에 형성되는 고반사 보호막을 구비하되, 상기 고반사 보호막은 저굴절률막과 고굴절률막을 포함하는 고반사 보호막을 갖는 자성입자와 이를 제조하는 방법에 관한 것으로, 이는 높은 명도를 가지며, 잉크화 공정시 연육과정에서 충전제와의 마찰 및, 롤 사이의 압력에 의한 쉘막의 손상을 방지하는 장점이 있으며, 이는 컬러 잉크, 일반 도료, 자동차용 분체 안료, 화장품용 안료, 촉매 도료에 사용될 수 있으며, 특히, 유가 증서의 보안용 잉크로 사용되어, 기존 자성안료가 표현하지 못하는 영역의 색을 표현하는 동시에 내구성을 가지는 장점이 있다.
Int. CL H01F 1/00 (2006.01) C09D 11/00 (2006.01) B22F 1/02 (2006.01) H01F 1/20 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020110139862 (2011.12.22)
출원인 한국조폐공사
등록번호/일자 10-1341150-0000 (2013.12.04)
공개번호/일자 10-2013-0072444 (2013.07.02) 문서열기
공고번호/일자 (20131211) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.12.22)
심사청구항수 22

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국조폐공사 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최원균 대한민국 경기도 성남시 분당구
2 김수동 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김종관 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)
2 박창희 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)
3 권오식 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국조폐공사 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2011.12.22 수리 (Accepted) 1-1-2011-1021703-11
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.02.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.03.11 수리 (Accepted) 9-1-2013-0016263-15
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.08.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0583796-64
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.10.15 수리 (Accepted) 1-1-2013-0929390-11
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.10.15 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0929409-90
7 등록결정서
Decision to grant
2013.12.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0838722-11
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.11.10 수리 (Accepted) 4-1-2015-5149181-46
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.08.16 수리 (Accepted) 4-1-2018-5157978-64
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.01.17 수리 (Accepted) 4-1-2020-5013707-24
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.01.17 수리 (Accepted) 4-1-2020-5013740-21
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
자성체 코어;상기 자성체 코어의 외각에 형성되는 쉘;상기 쉘 외각에 형성되며, 상기 쉘을 보호하고 반사율의 저하를 방지하는 반사 보호막;을 구비하며,상기 반사 보호막은 단층 또는 다층인 것을 특징으로 하는 고반사 보호막 을 갖는 자성입자
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 쉘은 단층 또는 다층이며, 단층은 금속 물질을 포함하고 다층은 금속 또는 유전체 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 고반사 보호막을 갖는 자성입자
3 3
제 2 항에 있어서, 다층인 상기 쉘은 유전체 물질로 되는 제1쉘 및 금속으로 되는 제2쉘을 포함하는 것을 특징으로 하는 고반사 보호막을 갖는 자성입자
4 4
제 2 항에 있어서,상기 유전체 물질은 이산화티탄, 이산화규소, 알루미나, 탄산칼슘, 산화지르코늄, 불화마그네슘, 산화아연 및 황화아연으로 이루어진 군으로부터 하나 이상 선택된 것을 특징으로 하는 고반사 보호막을 갖는 자성입자
5 5
제 2 항에 있어서,상기 금속은 구리, 니켈, 금, 백금, 은, 알루미늄 및 크롬에서 하나 이상 선택된 것을 특징으로 하는 고반사 보호막을 갖는 자성입자
6 6
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 단층의 반사 보호막은 박막의 두께가 (0
7 7
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 단층의 반사 보호막은 이산화티탄, 이산화규소, 알루미나, 탄산칼슘, 산화지르코늄, 불화마그네슘, 산화아연 및 황화아연으로 이루어진 군으로부터 하나 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 고반사 보호막을 갖는 자성입자
8 8
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 다층의 반사 보호막은 상기 쉘 외각에 저 굴절률막이 형성되고, 상기 저 굴절률막의 외각에 고 굴절률막이 형성되는 것을 특징으로 하는 고반사 보호막을 갖는 자성입자
9 9
제 8 항에 있어서,상기 다층의 반사 보호막은 상기 저굴절률막과 상기 저굴절률막의 외각에 형성된 고굴절률막이 반복되어 형성되는 것을 특징으로 하는 고반사 보호막을 갖는 자성입자
10 10
제 8 항에 있어서,상기 저 굴절률막은 이산화규소, 불화마그네슘, 폴리스티렌, PMMA, 폴리스티렌-co-부타디엔, 오산화바나듐, 산화카드뮴, 폴리이소부틸렌, 폴리에틸렌으로 이루어진 군으로부터 하나 이상 선택된 것을 특징으로 하는 고반사 보호막을 갖는 자성입자
11 11
제 8 항에 있어서,상기 고 굴절률막은 이산화티탄, 산화알루미늄, 산화아연, 산화지르코늄, 산화크로뮴으로 이루어진 군으로부터 하나 이상 선택된 것을 특징으로 하는 고반사 보호막을 갖는 자성입자
12 12
제 8 항에 있어서,상기 저 굴절률막의 두께는 0
13 13
제 8 항에 있어서,상기 고 굴절률막의 두께는 0
14 14
자성체 코어 외각에 단층 또는 다층인 쉘을 형성하는 단계; 및상기 쉘 외각에 단층 또는 다층인 반사 보호막을 형성하는 단계;를 포함하며,상기 반사 보호막은 상기 쉘을 보호하고 반사율의 저하를 방지하는 것을 특징으로 하는 고반사 보호막을 갖는 자성입자의 제조방법
15 15
제 14 항에 있어서,상기 다층인 쉘을 형성하는 단계는, 유전체 물질을 포함하는 제1쉘층을 형성하는 단계 및 상기 제1쉘층 외각에 금속을 포함하는 제2쉘층을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 다층의 반사 보호막을 형성하는 단계는 상기 제2쉘층 외각에 저 굴절률막을 형성하는 단계 및 상기 저 굴절률막 외각에 고 굴절률막을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 고반사 보호막을 갖는 자성입자의 제조방법
16 16
제 15 항에 있어서,상기 제1쉘층을 형성하는 데 있어서 유전체 물질은 이산화티탄, 이산화규소, 알루미나, 탄산칼슘, 산화지르코늄, 불화마그네슘, 산화아연 및 황화아연으로 이루어진 군으로부터 하나 이상 선택된 것을 특징으로 하는 고반사 보호막을 갖는 자성입자의 제조방법
17 17
제 15 항에 있어서,상기 제2쉘층을 형성하는 데 있어서 금속은 구리, 니켈, 금, 백금, 은, 알루미늄 및 크롬에서 하나 이상 선택된 것인 것을 특징으로 하는 고반사 보호막을 갖는 자성입자의 제조방법
18 18
제 15 항에 있어서,상기 저 굴절률막은 이산화규소, 불화마그네슘, 폴리스티렌, PMMA, 폴리스티렌-co-부타디엔, 오산화바나듐, 산화카드뮴, 폴리이소부틸렌, 폴리에틸렌으로 이루어진 군으로부터 하나 이상 선택된 것을 특징으로 하는 고반사 보호막을 갖는 자성입자의 제조방법
19 19
제 15 항에 있어서,상기 고 굴절률막은 이산화티탄, 산화알루미늄, 산화아연, 산화지르코늄, 산화크로뮴으로 이루어진 군으로부터 하나 이상 선택된 것을 특징으로 하는 고반사 보호막을 갖는 자성입자의 제조방법
20 20
제 18 항에 있어서,상기 저 굴절률막의 두께는 0
21 21
제 18 항에 있어서,상기 고 굴절률막의 두께는 0
22 22
제 1 항 내지 제 5 항 중의 어느 한 항에 따른 자성입자를 함유하는 유가증서의 보안용 잉크
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1 CN104011809 CN 중국 FAMILY
2 JP06224764 JP 일본 FAMILY
3 JP27507694 JP 일본 FAMILY
4 JP28183416 JP 일본 FAMILY
5 US09721705 US 미국 FAMILY
6 US20150235745 US 미국 FAMILY
7 WO2013094993 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

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1 CN104011809 CN 중국 DOCDBFAMILY
2 CN104011809 CN 중국 DOCDBFAMILY
3 DE112012005417 DE 독일 DOCDBFAMILY
4 GB201410698 GB 영국 DOCDBFAMILY
5 GB2515194 GB 영국 DOCDBFAMILY
6 JP2015507694 JP 일본 DOCDBFAMILY
7 JP2016183416 JP 일본 DOCDBFAMILY
8 JP6224764 JP 일본 DOCDBFAMILY
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10 US9721705 US 미국 DOCDBFAMILY
11 WO2013094993 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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