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유리 기판 상에 제1 마스크층을 형성하는 단계; 상기 제1 마스크층을 패터닝하여 상기 제1 마스크층에 규칙적으로 배열되고 상기 유리 기판을 노출시키는 복수의 제1 원형 개구를 형성하는 단계; 및 상기 패터닝된 상기 제1 마스크층을 마스크로 이용하여 상기 유리 기판의 표면을 식각하는 단계를 포함하고, 상기 유리 기판은 표면에 규칙적으로 배열된 복수의 허니콤 구조의 홈이 형성되도록 식각되는, 태양전지용 유리 기판 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 제1 마스크층은 상기 유리 기판 상에 질화 실리콘을 증착함으로써 형성되는, 태양전지용 유리 기판 제조방법
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제2항에 있어서, 상기 제1 마스크층은 질소 함량보다 규소 함량이 높은 질화실리콘으로 형성되는, 태양전지용 유리 기판 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 복수의 제1 원형 개구는, 하나의 원형 개구를 6개의 원형 개구가 둘러싸도록 배열되어 있는, 태양전지용 유리 기판 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 제1 마스크층을 패터닝하여 상기 제1 마스크층에 상기 복수의 제1 원형 개구를 형성하는 단계는, 상기 제1 마스크층 상에 포토레지스트층을 형성하는 단계; 및 상기 복수의 제1 원형 개구와 동일하게 배열되고 상기 제1 마스크층을 노출시키는 복수의 제2 원형 개구가 형성되도록 상기 포토레지스트층을 패터닝하는 단계; 및 패터닝된 상기 포토레지스트층을 마스크로 이용하여 제1 마스크층을 패터닝하는 단계를 포함하는, 태양전지용 유리 기판 제조방법
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6
제5항에 있어서, 상기 포토레지스트층을 패터닝하는 단계는, 상기 포토레지스트층 상에 상기 제2 원형 개구와 동일하게 배열된 제3 원형 개구가 형성된 제2 마스크층을 형성하는 단계; 및 상기 제2 마스크층을 이용한 포토리소그래피 공정을 통하여 상기 포토레지스트층을 패터닝하는 단계를 포함하는, 태양전지용 유리 기판 제조방법
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제5항에 있어서, 상기 제1 마스크층 상에 상기 포토레지스트층을 형성한 후, 상기 포토레지스트층에 대해 온도 90 내지 110℃에서 5 내지 15분 동안 소프트 베이크 공정을 수행하는 단계를 더 포함하는, 태양전지용 유리 기판 제조방법
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8
제5항에 있어서, 상기 포토레지스트층을 패터닝한 후, 상기 포토레지스트층에 대해 온도 130 내지 150℃에서 10 내지 20분 동안 하드 베이크 공정을 수행하는 단계를 더 포함하는, 태양전지용 유리 기판 제조방법
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삭제
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제1항에 있어서, 상기 유리 기판의 표면은 탈이온수 및 불산을 포함하는 식각 용액을 이용하여 식각되는, 태양전지용 유리 기판 제조방법
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제10항에 있어서, 상기 불산은 상기 식각용액 전체에 대하여 5 내지 10% 농도인, 태양전지용 유리 기판 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 유리 기판의 표면은 상온에서 식각되고, 식각 시간은 25분 이상 동안 수행되는, 태양전지용 유리 기판 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 허니콤 구조의 홈은, 상기 유리 기판의 표면으로부터 1
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제1항에 있어서, 상기 제1 마스크층을 반응성 이온 식각 공정을 통해 제거하는 단계를 더 포함하는, 태양전지용 유리 기판 제조방법
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제14항에 있어서, 상기 제1 마스크층은 육불화황(SF6)을 이용한 반응성 이온 식각 공정을 통해 제거되는, 태양전지용 유리 기판 제조방법
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제1항 내지 제8항 및 제10항 내지 제15항 중 어느 하나의 제조방법을 통하여 제조된 태양전지용 유리 기판
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