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탄소 나노구조체를 포함하는 용액을 기재 상에 코팅하여 상기 기재 상에 탄소 나노박막을 형성하고, 및상기 탄소 나노박막에 전자선을 조사하는 것을 포함하는, 탄소 나노박막의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 탄소 나노구조체는 풀러렌(fullerene), 탄소나노튜브(carbon nanotube), 그래핀(graphene), 및 이들의 조합들로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것을 포함하는 것인, 탄소 나노박막의 제조방법
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제 2 항에 있어서,상기 탄소나노튜브는 단일벽 탄소나노튜브 또는 다중벽 탄소나노튜브, 또는 단일벽 탄소나노튜브 및 다중벽 탄소나노튜브를 포함하는 것인, 탄소 나노박막의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 탄소 나노구조체를 포함하는 용액을 기재 상에 코팅하는 것은, 건식 공정, 습식 공정, 스프레이 코팅, 스핀 코팅, 담금법, 롤 코팅, 스크린 코팅, 스핀 캐스팅, 흐름 코팅, 드롭 캐스팅, 잉크젯 코팅, 또는 롤투롤 코팅에 의하여 수행되는 것인, 탄소 나노박막의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 전자선의 강도는 40 MeV 이하인 것인, 탄소 나노박막의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 전자선을 조사하는 것은, 1,000 kGy 이하의 흡수선량의 전자선이 조사되는 것을 포함하는 것인, 탄소 나노박막의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 탄소 나노박막에 전자선을 조사하는 것은, 공기 중 또는 비활성 분위기 하에서 수행되는 것인, 탄소 나노박막의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 탄소 나노박막에 전자선을 조사하는 것은, 상압, 저압, 또는 진공 하에서 수행되는 것인, 탄소 나노박막의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 탄소 나노박막에 전자선을 조사하는 것은 상온에서 수행되는 것인, 탄소 나노박막의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 탄소 나노구조체를 포함하는 용액은, 상기 탄소 나노구조체가 계면활성제 또는 분산제, 또는 계면활성제 및 분산제에 의하여 용매 내에 분산된 것인, 탄소 나노박막의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 탄소 나노박막은 투명한 것인, 탄소 나노박막의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 탄소 나노구조체를 포함하는 용액을 기재 상에 코팅하여 상기 기재 상에 탄소 나노박막을 형성한 후에, 상기 탄소 나노박막을 건조하는 것을 추가 포함하는 것인, 탄소 나노박막의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 탄소 나노구조체를 포함하는 용액을 기재 상에 코팅하여 상기 기재 상에 탄소 나노박막을 형성한 후에, 상기 탄소 나노박막을 세척하는 것을 추가 포함하는 것인, 탄소 나노박막의 제조방법
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제 13 항에 있어서,상기 탄소 나노박막을 세척하는 것은, 물, 산성 용액, 유기 용매, 및 이들의 조합들로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것을 포함하는 것을 이용하여 수행되는 것인, 탄소 나노박막의 제조방법
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