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하부 기판 상에 스페이서(spacer)를 형성하는 단계;상기 스페이서 상에 홀을 가지는 상부 기판을 배치하는 단계;나노입자 및 상기 나노입자보다 큰 크기를 가지는 희생입자가 용매 중에 분산된 혼합 입자 분산액을 상기 상부 기판의 홀을 통하여 주입함으로써 상기 하부 기판과 상기 상부 기판 사이에 상기 혼합 입자 분산액 층을 형성하는 단계; 상기 상부 기판을 상기 하부 기판에 대하여 평행한 방향으로 이동시키면서 상기 상부 기판의 이동에 의해 공기 중으로 노출되는 상기 혼합 입자 분산액 층을 건조시켜 나노입자-희생입자 복합층을 형성하는 단계; 및상기 나노입자-희생입자 복합층으로부터 상기 희생입자를 제거하는 단계: 를 포함하는, 3 차원 다공성 구조체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 나노입자는 Mn, Ni, Gd, Ti, Cu, Zr, Sr, Zn, In, Yr, La, V, Mo, W, Sn, Nb, Mg, Al, Y, Sc, Sm, Ga, 상기 금속 각각의 산화물, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 것을 포함하는 것인, 3 차원 다공성 구조체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 나노입자의 평균 입경은 1 nm 내지 30 nm 인, 3 차원 다공성 구조체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 희생입자의 평균 입경은 0
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제 1 항에 있어서, 상기 희생입자는 실리카(SiO2), 폴리부틸메타크릴레이트(PBMA), 폴리스타이렌(PS), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 폴리스타이렌/폴리디비닐벤젠 (PS/PDVB = polystyrene/polydivinylbenzene), 폴리아미드, 폴리(부틸메타크릴레이트-디비닐벤젠) (PBMA) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 것을 포함하는 것인, 3 차원 다공성 구조체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 용매는 물, 유기 용매, 물-유기 혼합 용매 또는 고분자 매질을 포함하는 것인, 3 차원 다공성 구조체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 하부 기판은 유리, 금속, 금속 산화물, 반도체, 고분자 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 것을 포함하는 것인, 3 차원 다공성 구조체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 하부 기판의 표면은 친수성 물질로 코팅되어 있는 것인, 3 차원 다공성 구조체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 스페이서의 두께는 1 ㎛ 내지 200 ㎛ 인, 3 차원 다공성 구조체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 희생 입자의 제거는 산 용액에 의한 용해 처리, 유기 용매에 의한 용해 처리 또는 소성(calcination) 처리에 의하여 수행되는 것인, 3차원 다공성 구조체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 혼합 입자 분산액 층의 건조는, 상기 혼합 입자 분산액 층으로부터 용매의 제거 정도를 조절하여 상기 3 차원 다공성 구조의 두께를 조절하는 것인, 3 차원 다공성 구조체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 상부 기판의 표면은 소수성 물질이 코팅되어 있는 것인, 3 차원 다공성 구조체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 상부 기판의 이동 속도는 0
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제 1 항에 있어서, 상기 상부 기판은 상기 상부 기판의 이동 속도를 일정하게 조절할 수 있는 모터와 연결되어 있는 것인, 3 차원 다공성 구조체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 상부 기판의 홀의 크기는 1 mm 내지 5 mm 인, 3 차원 다공성 구조체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 상부 기판의 홀 상에 속이 빈 형태의 구조체를 추가 포함하는 것인, 3 차원 다공성 구조체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 3차원 다공성 구조체는 단순입방구조(Simple Cubic, SC), 면심입방구조(Face-Centered Cubic, FCC), 또는 체심입방구조(Body-Centered Cubic, BCC)로 배열되어 있는 것인, 3 차원 다공성 구조체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 3차원 다공성 구조체의 기공은 규칙적으로 정렬된 것인, 3차원 다공성 구조체의 제조 방법
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