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보안 요소 형성 방법 및 보안 요소

  • 기술번호 : KST2015011522
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 a) 기재 상에, 특정 파장에서 여기되어 발광하는 물질을 이용하여 패턴을 형성하는 단계, 및 b) 상기 형성한 패턴을 광 간섭 필터를 이용하여 노출하는 단계를 포함하는 보안 요소 형성 방법을 제공함으로써 고차원의 보안 성능 효과를 나타낸다.
Int. CL B41M 3/14 (2006.01)
CPC B41M 3/144(2013.01) B41M 3/144(2013.01) B41M 3/144(2013.01) B41M 3/144(2013.01)
출원번호/일자 1020130064820 (2013.06.05)
출원인 한국조폐공사
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2014-0142984 (2014.12.15) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2017.08.04)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국조폐공사 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 지우행 대한민국 충청북도 청주시 흥덕구
2 길정하 대한민국 대전광역시 유성구
3 오창진 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 플러스 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국조폐공사 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2013.06.05 수리 (Accepted) 1-1-2013-0503002-42
2 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)		 2015.05.28 수리 (Accepted) 1-1-2015-0511945-83
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.11.10 수리 (Accepted) 4-1-2015-5149181-46
4 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2017.08.04 수리 (Accepted) 1-1-2017-0753128-86
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2018.02.09 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2018.04.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2018-0082302-23
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2018.06.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0421384-96
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.08.16 수리 (Accepted) 4-1-2018-5157978-64
9 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2018.08.21 수리 (Accepted) 1-1-2018-0827694-09
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2018.08.31 수리 (Accepted) 1-1-2018-0865721-24
11 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2018.08.31 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-0865713-69
12 등록결정서
Decision to grant		 2019.01.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0066561-22
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.01.17 수리 (Accepted) 4-1-2020-5013740-21
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.01.17 수리 (Accepted) 4-1-2020-5013707-24
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
a) 선 또는 특정 모양의 선 격자 패턴을 갖는 비표가 삽입된 기재 상에, 특정 파장에서 발광하는 물질로 패턴을 형성하는 단계 및b) 상기 패턴 상에 광 간섭 필터를 위치시키고 동시에 특정 파장의 광원을 조사하여, 모아레 현상을 통해 삽입된 비표를 노출시키는 단계를 포함하며, 상기 패턴은 광 간섭 필터에 의한 모아레 효과가 구현되도록 두 개 이상의 선들이 중첩될 수 있게 형성되는 것을 특징으로 하는 보안 요소 형성 방법
2 2
삭제
3 3
제1항에 있어서,상기 a) 단계는 적외선 또는 자외선을 포함하는 특정 파장에서 여기되어 가시광을 발광하는 가시 또는 비가시 형광물질을 인쇄하여 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 보안 요소 형성 방법
4 4
제1항에 있어서,상기 a) 단계에서 패턴은 적어도 두 개 이상의 선이 중첩되어 발광 증폭될 수 있도록 선폭이 5 내지 100㎛ 이고 선 간격이 5 내지 200㎛ 인 선 또는 격자 형태인 것을 특징으로 하는 보안 요소 형성 방법
5 5
제1항에 있어서,상기 a) 단계에서 선은 선택적으로 적외선 흡수 잉크 또는 적외선 반사 잉크를 이용하여 형성하는 것을 특징으로 하는 보안 요소 형성 방법
6 6
제1항에 있어서,상기 a) 단계에서 선은 엑스레이 조사 시 자외선 또는 가시광이 발광하는 물질을 이용하여 형성하는 것을 특징으로 하는 보안요소 형성방법
7 7
제1항에 있어서,상기 패턴은 은폐, 엄페, 및 중첩을 위하여 가시 또는 비가시 형광물질이 인쇄된 선의 위쪽 또는 아래쪽에 염료, 안료 및 기능성 물질로 착색하는 은선을 포함하는 것을 특징으로 하는 보안 요소 형성 방법
8 8
제1항에 있어서,상기 기재는 종이, 필름 및 플라스틱 중에서 선택되는 어느 하나를 포함하는 보안 요소 형성 방법
9 9
제8항에 있어서,상기 기재는 형광증백제를 함유하고, 형광증백제 발광 색상과 유사한 계열의 색상으로 형성되는 패턴을 더 포함하는 보안 요소 형성 방법
10 10
제1항에 있어서,상기 b)단계에서 광간섭 필터는 렌티큘러 필름을 사용하는 것을 포함하며, 상기 렌티큘러 격자의 선수 및 각도는 기재 상에 형성된 패턴과 광간섭이 발생할 수 있도록 선택되어지며, 필터의 단면은 직각삼각형, 정삼각형 및 반구형 중에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 조합으로 이루어진 격자인 것으로 특징으로 하는 보안 요소 형성 방법
11 11
삭제
12 12
제1항, 제3항 내지 제10항 중에서 선택되는 어느 하나의 방법으로 형성되는 보안 요소
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.