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메인프레임;상기 메인프레임으로부터 회전가능하게 설치되는 회전 프레임;상기 회전 프레임 상에 설치되며, 엑스선(X-Ray)를 방출하는 엑스선 소스와 상기 엑스선 소스를 마주보게 배치되어 상기 엑스선을 제공받는 엑스선 디텍터;를 구비하는 방사선 진단부;상기 엑스선 소스 측에 장착되며, 상기 엑스선 경로와 나란한 광경로를 따라 광을 방출하는 광원;상기 엑스선 디텍터 측에 장착되며, 상기 광원으로부터 방출되는 광을 제공받는 수광부;를 포함하며,상기 방사선 진단부가 작동되는 동안, 상기 수광부에 의해 검출되는 상기 광의 변위를 통해 상기 엑스선 디텍터에 도달하는 상기 엑스선의 변위를 측정하는 방사선 진단 장치의 변위 측정 시스템
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제 1항에 있어서,상기 메인 프레임은 높이조절이 가능하게 마련되는 방사선 진단 장치의 변위 측정 시스템
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제 1항에 있어서,상기 회전 프레임은 원형, 타원형 또는 다각형으로 마련되는 방사선 진단 장치의 변위 측정 시스템
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제 3항에 있어서,상기 엑스선 소스는 상기 회전 프레임의 중심을 향하여 엑스선을 방출하는 방사선 진단 장치의 변위 측정 시스템
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제 4항에 있어서,상기 방사선 진단부는 복수개로 마련되며, 각각의 엑스선 소스로부터 방출되는 엑스선은 상기 회전 프레임의 중심 영역에서 교차되는 방사선 진단 장치의 변위 측정 시스템
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제 1항에 있어서,상기 광원으로부터 방출되는 광은 레이저인 방사선 진단 장치의 변위 측정 시스템
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제 1항에 있어서,상기 광원은 상기 광원으로부터 방출되는 광의 광경로와 수직인 가상의 평면을 따라 이동가능하게 마련되는 방사선 진단 장치의 변위 측정 시스템
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제 1항에 있어서,상기 수광부는,상기 광원으로부터 방출되는 광을 통과시키는 빔 스플리터; 상기 빔 스플리터를 통과한 광의 위치를 검출할 수 있도록 상기 빔 스플리터를 통과한 광을 제공받고 반사하는 타겟면; 상기 타겟면으로부터 반사된 광을 제공받는 광검출부;를 포함하는 방사선 진단 장치의 변위 측정 시스템
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제 8항에 있어서,상기 타겟면은 상기 빔스플리터로부터 제공되는 광을 산란시키며,상기 빔스플리터는 상기 타겟면으로부터 산란된 광을 상기 광검출부 측으로 반사시키는 방사선 진단 장치의 변위 측정 시스템
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제 8항에 있어서,상기 광검출부는 상기 빔 스플리터로부터 멀어지거나 근접하는 방향으로 이동가능하게 마련되는 방사선 진단 장치의 변위 측정 시스템
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