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빔이 운동하는 전자석 중심 평면 자기장 분포를 형성하는 제1섹터와 외부로부터 전원을 공급받아 자기장을 형성하는 제1코일을 포함하는 상판;빔이 운동하는 전자석 중심 평면 자기장 분포를 형성하는 제2섹터와 외부로부터 전원을 공급받아 전기장 및 자기장을 형성하는 제2코일을 포함하는 하판; 상기 제2섹터와 상기 제2코일 사이에 배치되며, 상기 제2섹터와 소정 거리로 이격되어 탈착가능하도록 설치된 챔버; 및상기 챔버 설치시, 상기 챔버와 상기 제2섹터가 상기 소정 거리를 유지하여, 상기 챔버의 쏠림을 방지하도록 하는 간격유지부를 포함하는 것을 특징으로 하는 사이클로트론용 전자석 시스템
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제1항에 있어서, 상기 상판 또는 상기 하판은원통형 요크를 더 포함하고,상기 원통형 요크는 상기 원통형 요크의 원주부에 일정구간이 절결된 적어도 한 개 이상의 절결구간을 포함하는 것을 특징으로 하는 사이클로트론용 전자석 시스템
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제1항에 있어서,상기 제1섹터와 상기 제2섹터는 상호 이격된 부채꼴 형상의 복수의 힐과 상기 복수의 힐이 부착되지 않는 적어도 한 개 이상의 밸리로 구성되며, 상기 제1섹터와 제2섹터는 상하 대칭인 것을 특징으로 하는 사이클로트론용 전자석 시스템
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제3항에 있어서, 상기 간격유지부는 상기 제2섹터의 복수의 힐 중 적어도 하나의 힐에 설치되는 것을 특징으로 하는 사이클로트론용 전자석 시스템
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제1항에 있어서, 상기 사이클로트론용 전자석 시스템은상기 챔버 설치시, 상기 챔버의 회전을 방지하는 회전방지부를 더 포함하는 사이클로트론용 전자석 시스템
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제1항에 있어서,상기 챔버와 상기 제2섹터 사이의 거리는 0
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제1항에 있어서,상기 챔버는 상면 및 하면에 오링이 설치되는 사이클로트론용 전자석 시스템
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제11항에 있어서, 상기 오링의 재질은바이톤 또는 퍼플러 엘라스토머인 것을 특징으로 하는 사이클로트론용 전자석 시스템
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제1항에 있어서, 상기 간격유지부는상기 챔버가 설치된 이후에 제거되는 사이클로트론용 전자석 시스템
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제6항에 있어서, 상기 회전방지부는 상기 챔버가 설치된 이후에 제거되는 사이클로트론용 전자석 시스템
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