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시료와 접촉하는 탐침부;FMCW(Frequency Modulated Continuous Waveform) 신호 형태의 기준 신호를 발생하는 신호 발생부;상기 기준 신호를 분기하여 두 방향으로 전달하고, 상기 시료에서 반사되는 반사 신호를 한 방향으로 전달하는 커플러부;상기 기준 신호와 상기 반사 신호를 합성하여 합성 신호를 생성하는 신호 합성부;상기 합성 신호로부터 비트 주파수(beat frequency)를 획득하는 비트 주파수 획득부; 및상기 비트 주파수를 기초로 하여 상기 시료의 유전율을 연산하는 유전율 연산부를 포함하는, 유전율 측정 장치
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제 1항에 있어서,상기 탐침부는, 한 쌍의 프로브를 포함하는, 유전율 측정 장치
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제 1항에 있어서,상기 커플러부는, 한 쌍의 제1 및 제2 방향성 커플러(directional coupler)를 포함하는, 유전율 측정 장치
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제 4항에 있어서,상기 제1 방향성 커플러는, 상기 기준 신호를 상기 신호 합성부 및 상기 제2 방향성 커플러에 각각 전달하며,상기 제2 방향성 커플러는, 상기 제1 방향성 커플러로부터 전달된 기준 신호를 상기 탐침부에 전달하고, 상기 탐침부를 통해 상기 시료에서 반사되는 상기 반사 신호를 상기 신호 합성부로 전달하는, 유전율 측정 장치
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제 1항에 있어서,상기 신호 합성부는, 상기 기준 신호와 상기 반사 신호를 곱하여 상기 합성 신호를 생성하는, 유전율 측정 장치
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제 1항에 있어서,상기 비트 주파수 획득부는, LPF(Low Pass Filter)를 포함하는, 유전율 측정 장치
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제 7항에 있어서,상기 비트 주파수 획득부는, 상기 합성 신호에서 고주파수 성분은 제거하고 저주파수 성분만을 추출하는, 유전율 측정 장치
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제 1항에 있어서,상기 유전율 연산부는, 을 이용하여 상기 유전율을 연산하며, 상기 은 상기 시료의 유전율, 상기 는 진공 중 전자기파의 속도, 상기 는 비트 주파수, 상기 은 상기 시료에 접촉한 상기 탐침부의 길이, 상기 는 각 주파수 증가율인, 유전율 측정 장치
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(a) FMCW(Frequency Modulated Continuous Waveform) 신호 형태의 기준 신호를 생성하여 시료에 인가하는 단계;(b) 상기 시료에서 반사되는 반사 신호 및 상기 기준 신호를 합성하는 단계;(c) 상기 합성된 신호로부터 비트 주파수(beat frequency)를 획득하는 단계; 및(d) 상기 비트 주파수를 기초로 하여 상기 시료의 유전율을 연산하는 단계를 포함하는, 유전율 측정 방법
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제 10항에 있어서,상기 FMCW 신호는, 일정 주기로, 주파수가 선형적으로 증가하다가 선형적으로 감소하는 연속적인 신호인, 유전율 측정 방법
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제 10항에 있어서,상기 (a) 단계는,상기 기준 신호를 분기하여 두 방향으로 전달하는 단계; 및상기 시료에서 반사되는 반사 신호를 한 방향으로 전달하는 단계를 더 포함하는, 유전율 측정 방법
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제 10항에 있어서,상기 (b) 단계는,상기 기준 신호와 상기 반사 신호를 곱하여 상기 합성 신호를 생성하는 단계를 더 포함하는, 유전율 측정 방법
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제 10항에 있어서,상기 (c) 단계는,상기 합성 신호에서 고주파수 성분은 제거하고 저주파수 성분만을 추출하는 단계를 더 포함하는, 유전율 측정 방법
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제 10항에 있어서,상기 (d) 단계는,을 이용하여 상기 유전율을 연산하는 단계를 더 포함하며, 상기 은 상기 시료의 유전율, 상기 는 진공 중 전자기파의 속도, 상기 는 비트 주파수, 상기 은 상기 시료에 접촉한 탐침부의 길이, 상기 는 각 주파수 증가율인, 유전율 측정 방법
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