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a) 리간드를 제조하는 단계;b) 상기 리간드에 형광 소자를 결합시켜, 형광 복합구조체를 제조하는 단계; 및c) 상기 형광 복합구조체를 박막 형성용 고분자의 중합 전구체와 혼합한 뒤, 중합 및 박막 상으로 캐스팅하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하고,상기 리간드는 상기 박막 형성용 고분자의 굴절률을 기준으로 95 내지 105 %의 굴절률을 나타내며, 상기 형광 소자의 발광 파장에서 80 내지 100 %의 광투과율을 나타내고, 상기 박막 형성용 고분자와 같은 표면 극성을 나타내는 것을 특징으로 하는 형광 박막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 리간드는, 티올기를 포함하는 소수성 리간드인 것을 특징으로 하는 형광 박막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 리간드는 (3-머캅토프로필)트리에톡시실란, (3-머캅토프로필)트리메톡시실란, 부틸 3-머캅토프로피온산, 1-헥산티올, 1-도데칸티올 및 1-옥타데칸티올로 이루어지는 군으로부터 선택된 한 가지 이상의 화합물인 것을 특징으로 하는 형광 박막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 리간드는 (3-머캅토프로필)트리에톡시실란, (3-머캅토프로필)트리메톡시실란, 부틸 3-머캅토프로피온산, 1-헥산티올, 1-도데칸티올 및 1-옥타데칸티올로 이루어지는 군으로부터 선택된 한 가지 이상의 화합물에, 테트라에톡시실란을 포함하는 군으로부터 선택된 한 가지 이상의 실란 화합물을 더욱 결합시킨 것을 특징으로 하는 형광 박막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 a) 단계는,i) 비드(bead)를 제조하는 단계;ii) 상기 비드와 실란 화합물을 혼합하고 반응시킴으로써, 상기 비드를 중심으로 상기 실란 화합물이 결합된 형태의 복합체를 제조하는 단계;iii) 상기 복합체에서 상기 비드를 제거함으로써, 공동이 형성된 형태의 실란 구조체를 제조하는 단계; 및iv) 상기 실란 구조체 표면에 티올기를 도입하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 형광 박막의 제조방법
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제5항에 있어서,상기 i) 단계는,2,2'아조비스(2-메틸프로피온아마이딘)다이하이드로클로라이드 및 폴리비닐파이롤리돈 수용액에 스티렌 모노머를 혼합하여 반응시킴으로써 폴리스티렌 비드를 제조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 형광 박막의 제조방법
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제5항에 있어서,상기 ii) 단계의 실란 화합물은 테트라에톡시실란을 포함하는 군으로부터 선택된 한 가지 이상의 화합물인 것을 특징으로 하는 형광 박막의 제조방법
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제5항에 있어서,상기 iii) 단계는,상기 복합체를 유기용매로 씻어내는 단계를 포함하고,상기 유기용매는 THF 및 이소프로판올을 포함하는 군으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 형광 박막의 제조방법
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제5항에 있어서,상기 iv) 단계는,상기 실란 구조체의 분산액에 (3-머캅토프로필)트리메톡시실란을 반응시켜 이루어지는 것을 특징으로 하는 형광 박막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 형광 소자는,양자점, 유기전계발광소자 및 무기전계발광소자를 포함하는 군으로부터 선택된 형광 소자인 것을 특징으로 하는 형광 박막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 형광 소자는 양자점인 것을 특징으로 하는 형광 박막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 박막 형성용 고분자는 PDMS를 포함하는 군으로부터 선택되고,상기 c) 단계의 박막 캐스팅은 스핀 코팅법, 닥터 블레이드 코팅법, 스크린 코팅법, 스프레이 코팅법 및 페인트 코팅법을 포함하는 공정을 통하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 형광 박막의 제조방법
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제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 따른 방법으로 제조된 것을 특징으로 하는 형광 박막
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제13항에 따른 형광 박막을 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치
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