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전자 맴돌이 공명 이온원 장치 및 이의 인출 전류를 증가시키는 방법

  • 기술번호 : KST2015014113
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 전자 맴돌이 공명(Electron Cyclotron Resonance; ECR) 이온원 장치는, 플라즈마가 발생되는 플라즈마 챔버; 상기 플라즈마 챔버 내에 자기장을 인가하는 자석부; 상기 플라즈마 챔버 내에 마이크로파를 인가하는 마이크로파 발생부; 상기 자기장 및 상기 마이크로파에 의한 전자 맴돌이 공명에 의하여 상기 플라즈마로부터 발생된 이온을 상기 플라즈마 챔버로부터 인출하는 이온 인출부; 및 상기 플라즈마 챔버의 내부 또는 외부에 위치하며, 상기 자석부에 의해 인가되는 자기장의 크기를 조정하는 자기장 조절부를 포함할 수 있다. 상기 ECR 이온원 장치는 플라즈마 챔버 내부 및/또는 외부에 위치하는 자기장 조절 재료에 의하여 ECR 영역을 확장시킬 수 있는 이점이 있다.
Int. CL H01J 37/08 (2006.01) H01J 27/02 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020110124314 (2011.11.25)
출원인 한국기초과학지원연구원
등록번호/일자 10-1311467-0000 (2013.09.16)
공개번호/일자 10-2013-0058352 (2013.06.04) 문서열기
공고번호/일자 (20130925) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.11.25)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이병섭 대한민국 대전광역시 중구
2 원미숙 대한민국 부산광역시 연제구
3 윤장희 대한민국 부산광역시 북구
4 최세용 대한민국 경기도 안양시 동안구
5 옥정우 대한민국 부산광역시 금정구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김영철 대한민국 서울특별시 종로구 종로*길 **, **층 케이씨엘특허법률사무소 (수송동, 석탄회관빌딩)
2 김 순 영 대한민국 서울특별시 종로구 종로*길 **, **층 케이씨엘특허법률사무소 (수송동, 석탄회관빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2011.11.25 수리 (Accepted) 1-1-2011-0936846-13
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.08.31 수리 (Accepted) 4-1-2012-5184293-13
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.08.31 수리 (Accepted) 4-1-2012-5184331-50
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2013.01.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0062915-81
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.03.28 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0269687-62
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.03.28 수리 (Accepted) 1-1-2013-0269686-16
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.04.15 수리 (Accepted) 4-1-2013-5058545-81
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.04.15 수리 (Accepted) 4-1-2013-5058386-17
9 등록결정서
Decision to grant		 2013.08.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0602913-12
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.22 수리 (Accepted) 4-1-2020-5135881-88
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
플라즈마가 발생되는 플라즈마 챔버;상기 플라즈마 챔버 내에 자기장을 인가하는 자석부; 상기 플라즈마 챔버 내에 마이크로파를 인가하는 마이크로파 발생부;상기 자기장 및 상기 마이크로파에 의한 전자 맴돌이 공명에 의하여 상기 플라즈마로부터 발생된 이온을 상기 플라즈마 챔버로부터 인출하는 이온 인출부; 및상기 자석부에 의해 인가되는 자기장에 의하여 자화됨으로써 상기 자석부에 의해 인가되는 자기장의 크기를 조정하는 자기장 조절부를 포함하되,상기 자기장 조절부는 상기 플라즈마 챔버의 내부에 위치하는 제1 조절부를 포함하는 것을 특징으로 하는 전자 맴돌이 공명 이온원 장치
2 2
제 1항에 있어서,상기 자기장 조절부는, 하나 이상의 자기장 조절 재료; 및 상기 하나 이상의 자기장 조절 재료의 위치를 제어하기 위한 제어부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전자 맴돌이 공명 이온원 장치
3 3
제 2항에 있어서,상기 자기장 조절 재료는 자성체 또는 강자성체를 포함하는 것을 특징으로 하는 전자 맴돌이 공명 이온원 장치
4 4
제 1항에 있어서,상기 자기장 조절부는,상기 플라즈마 챔버 외부에 위치하는 제2 조절부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전자 맴돌이 공명 이온원 장치
5 5
플라즈마 챔버 내에 자기장을 인가하는 단계;상기 플라즈마 챔버 내에 마이크로파를 인가하는 단계;인가된 자기장에 의하여 하나 이상의 자기장 조절 재료를 자화시킴으로써 상기 플라즈마 챔버 내의 자기장의 크기를 조정하는 단계; 상기 플라즈마 챔버 내에 플라즈마를 발생시키는 단계; 및상기 자기장 및 상기 마이크로파에 의한 전자 맴돌이 공명에 의하여 상기 플라즈마로부터 발생된 이온을 상기 플라즈마 챔버로부터 인출하는 단계를 포함하되,상기 하나 이상의 자기장 조절 재료는 상기 플라즈마 챔버 내부에 위치하는 부분을 포함하는 것을 특징으로 하는 전자 맴돌이 공명 이온원 장치의 인출 전류를 증가시키는 방법
6 6
제 5항에 있어서,상기 자기장의 크기를 조정하는 단계는, 상기 자기장 조절 재료의 위치를 제어하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 전자 맴돌이 공명 이온원 장치의 인출 전류를 증가시키는 방법
7 7
제 5항에 있어서,상기 자기장 조절 재료는 자성체 또는 강자성체를 포함하는 것을 특징으로 하는 전자 맴돌이 공명 이온원 장치의 인출 전류를 증가시키는 방법
지정국 정보가 없습니다
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1 WO2013077555 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

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1 WO2013077555 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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