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박막의 수직방향으로 니켈-텅스텐의 조성이 변화된 것을 특징으로 하는 니켈-텅스텐 박막
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청구항 1에 있어서,상기 박막의 수직방향으로 니켈-텅스텐의 조성이 다른 다층구조로 구성된 것을 특징으로 하는 니켈-텅스텐 박막
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청구항 2에 있어서,상기 다층구조의 니켈-텅스텐 박막은, 텅스텐의 함량이 상대적으로 적어서 연성이 뛰어난 니켈-텅스텐 층과 텅스텐 함량이 상대적으로 많아서 강도가 뛰어난 니켈-텅스텐 층이 교번하여 적층된 것을 특징으로 하는 니켈-텅스텐 박막
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청구항 3에 있어서,니켈-텅스텐 박막을 전기 도금하는 기재의 강도에 따라서, 상기 연성이 뛰어난 니켈-텅스텐 층 또는 상기 강도가 뛰어난 니켈-텅스텐 층을 기재 표면에 위치시킨 것을 특징으로 하는 니켈-텅스텐 박막
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5
청구항 4에 있어서,니켈-텅스텐 박막을 전기 도금하는 기재의 강도가 높은 경우에 상기 연성이 뛰어난 니켈-텅스텐 층을 최하층에 위치시킨 것을 특징으로 하는 니켈-텅스텐 박막
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6
청구항 3에 있어서,니켈-텅스텐 박막의 표면에 요구되는 물성에 따라서, 상기 연성이 뛰어난 니켈-텅스텐 층 또는 상기 강도가 뛰어난 니켈-텅스텐 층을 최상층에 위치시킨 것을 특징으로 하는 니켈-텅스텐 박막
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7
청구항 3에 있어서,니켈-텅스텐 박막의 위에 코팅이 형성되며, 상기 기재의 강도에 따라서, 상기 연성이 뛰어난 니켈-텅스텐 층 또는 상기 강도가 뛰어난 니켈-텅스텐 층을 최상층에 위치시킨 것을 특징으로 하는 니켈-텅스텐 박막
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8
전기 도금 공정으로 니켈-텅스텐 박막을 형성하는 방법으로서,전기 도금 공정에서의 전류밀도를 조절하여 박막 내에 형성된 니켈-텅스텐의 조성을 변경하는 것을 특징으로 하는 니켈-텅스텐 박막 형성방법
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9
청구항 8에 있어서,상기 전류밀도가 상기 전기 도금 공정 동안에 1회 이상 변경되는 것을 특징으로 하는 니켈-텅스텐 박막 형성방법
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10
청구항 8에 있어서,상기 도금 공정에 사용되는 도금용액의 pH가 6 내지 8인 것을 특징으로 하는 니켈-텅스텐 박막 형성방법
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11
청구항 8에 있어서,상기 도금 공정에서 사용되는 도금용액이 니켈 공급원인 NiSO4-6H2O와 텅스텐 공급원인 Na2WO4-2H2O 및 첨가제로서 C6H5Na3O7-2H2O를 포함하는 것을 특징으로 하는 니켈-텅스텐 박막 형성방법
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12
청구항 11에 있어서,상기 도금용액의 pH가 6이고, 상기 NiSO4-6H2O의 농도가 0
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13
청구항 12에 있어서,상기 전기 도금 공정에서 인가되는 전류가 직류 전류이고, 직류 전류 밀도가 10mA/cm2인 경우와 직류 전류 밀도가 40mA/cm2인 경우를 교대로 수행하여 다층의 니켈-텅스텐 박막을 형성하는 것을 특징으로 하는 니켈-텅스텐 박막 형성방법
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14
청구항 12에 있어서,상기 전기 도금 공정에서 인가되는 전류가 듀티 사이클이 0
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청구항 8 내지 청구항 12 중에 하나의 방법으로 제조된 것을 특징으로 하는 니켈-텅스텐 박막
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